超高纯氨制备系统、高精密电子元件制造系统及其生产线上工作站供应高纯氨试剂的方法技术方案

提出高精密电子元件制造过程中所用高纯氨的现场制备系统及方法，包括：从液体氨储存容器采出氨蒸汽，再使氨蒸汽通过可滤除小到０．００５微米颗粒的过滤器，随后于高－ｐＨ含水液－蒸汽接触单元内洗涤经过滤的蒸汽。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
供参照的相关申请本申请是1994年1月7日申请，申请号08/179001共同未决申请的一分案及其部分继续申请。本专利技术属高精密电子元件的制造领域，具体与用作这类元件制造处理试剂的氨的制备及处置有关。
技术介绍
在电子元件制造的各个工序，污染是一个关键问题。污染控制对产品质量至关重要，而且，为获得预期的产率及经济效益，极大限度地保证制造环境的洁净程度也所必需。尤其在制造高密电路以及超精密轴承、记录头和LCD显示装置的场合，这些要求就更为严苛。污染源包括制造中的公用设备，作业人员及生产装置。在多数情形下，采用“洁净室”技术，如隔离，空气过滤，特制的装置以及特制的衣物和外罩物，可避免操作者和制造原料间的接触，可使污染降低到允许的水平。然而，对于超精密制造，可允许水平上限的裕度极小，故污染源控制甚为重要。若制造过程中有氨存在，则会造成特殊的困难，这是由于，液氨同时含固体和挥发性杂质，其中许多对电子元件有害。杂质水平及含量变化范围广泛，具体取决于污染源及处理方法。在氨用于电子元件生产线之前，上述所有杂质必须先行去除。为满足上述标准，生产公用设备部门必须花费高昂的代价，以便从有限的可以允许级别提供氨本文档来自技高网...

【技术保护点】
超高纯氨的制备系统，该系统包括：（ａ）液面上留有蒸汽空间的液体氨储存容器；（ｂ）自所述蒸汽空间采出含氨气蒸汽的装置；（ｃ）自所采出蒸汽除却＞０．００５微米颗粒的过滤膜；及（ｄ）液－蒸汽接触单元，用以使已通过所述过滤膜的滤后蒸 汽与氨的除离子水溶液接触并因此制得纯化氨气。

【技术特征摘要】
1超高纯氨的制备系统，该系统包括(a)液面上留有蒸汽空间的液体氨储存容器；(b)自所述蒸汽空间采出含氨气蒸汽的装置；(c)自所采出蒸汽除却＞0.005微米颗粒的过滤膜；及(d)液-蒸汽接触单元，用以使已通过所述过滤膜的滤后蒸汽与氨的除离子水溶液接触并因此制得纯化氨气。2权利要求1的系统，其中，所述液-蒸汽接触单元为洗气塔。3权利要求2的系统，该系统进而包括精馏塔，用以精馏自所述洗气塔排出的蒸汽。4适用高精密电子元件制造的系统，该系统包括(a)包括许多工作站的生产线，其中，所述工作站依次而置，用以处理组成所述电子元件的工件，而且选择这类工作站之一施用氨于所述工件；(b)沿所述生产线连续输送所述工件至所述工作站的装置；(c)与所述生产线上所述工作站邻接并以超纯态供应氨的子单元，该子单元包括(i)液面上留有蒸汽空间的液体氨储存容器；(ii)自所述蒸汽空间采出含氨气蒸汽的装置；(iii)自所采出蒸汽除却＞0.005微米颗粒的过滤膜；及(iv)液-蒸汽接触单元，用以使已通过所述过滤膜的滤后蒸汽与氨的除离子水溶液接触并因此制得纯化氨气；以及(d)将步骤(c)的产物在所述工作站直接施用工件的装置；并且，所述工作站、所述输送装置及所述子单元所处环境均依照半导体制造标准保持无污染状态。5权利要求4的系统，其中，所述液-蒸汽接触单元为洗气塔。6权利要求5的系统，其中，所述子系统进而包括精馏塔，用以精馏自所述洗气塔排出的蒸汽。7权利要求5的系统，其中，所述子系统进而包括用以使所述纯化氨与纯化水相混生成氨水溶液的装置。8权利要求5的系统，其中，经所述子系统纯化的氨在位于距将步骤(c)的产物在所述工作站施用所述工件的装置约30cm处引出。9权利要求5的系统，其中，所述子系统的尺寸足可以约200cc/h～2L/h速率生成...

【专利技术属性】
技术研发人员：JG霍夫曼，RS克拉克，
申请(专利权)人：斯塔泰克文切斯公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]