光致抗蚀剂用显影液制造技术

一种新的光致抗蚀剂用显影液，包含碱性助洗剂、膦酸或磷酸酯无氟表面活性剂、和氟化表面活性剂。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光致抗蚀剂用显影液。
技术介绍
近年来，提出使用在传统抗蚀剂中还有含环氧的物质的光致抗蚀剂以在WL-CSP的生产中获得更高性能。对于此光致抗蚀剂，必须使用碱性更强的显影剂，因为其在传统显影液中的溶解度较低。然而，如果碱性太强，则在形成pier[音译]的过程中出现咬边(undercut)的问题。因此，需要没有上述问题的显影液。
技术实现思路
本专利技术人发现利用无氟表面活性剂和含氟表面活性剂组合可解决上述问题。因此，本专利技术涉及一种光致抗蚀剂用显影液。所述显影液包含碱性助洗剂、无氟表面活性剂和氟化表面活性剂。所述碱性助洗剂可使用任何碱性物质，如碱金属氢氧化物(例如氢氧化钠、氢氧化钾、和氢氧化锂)、碱金属硅酸盐(例如原硅酸钠、原硅酸钾、偏硅酸钠、和偏硅酸钾)、碱金属磷酸盐(例如磷酸三钠、和磷酸三钾)等。这些化合物可单独使用或者在需要时两或多种化合物组合使用。优选所述碱性助洗剂为氢氧化钾。本专利技术显影液是碱性的，优选pH为至少12、更优选至少13。本专利技术显影液中所用无氟表面活性剂是膦酸或磷酸酯、优选磷酸烷基苯氧基聚烷氧基烷基酯、最优选磷酸辛基苯氧基聚乙氧基乙酯。需要时本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光致抗蚀剂用显影剂，包含碱性助洗剂、膦酸或磷酸酯无氟表面活性剂、和含氟表面活性剂。

【技术特征摘要】
JP 2001-12-14 382220/20011.一种光致抗蚀剂用显影剂，包含碱性助洗剂、膦酸或磷酸酯无氟表面活性剂、和含氟表面活性剂。2.权利要求1所述显影剂，其中所述碱性助洗剂是氢氧化钾。3.权利要求1或2所述显影剂，其中所述无氟表面活性剂是磷酸辛基苯氧基聚乙氧基乙酯。4.权利要求1-3之任一所述显影剂，其中所述含氟表面活性剂选自含全氟烷基的低聚物、磺酸全氟烷基酯及其混合物。5.一种光致抗...

【专利技术属性】
技术研发人员：神田隆，近藤正树，
申请(专利权)人：罗姆和哈斯电子材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]