【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于去除光阻残留物的清洗液，其包含季胺氢氧化物，醇胺，有机溶剂，其特征在于，还含有聚醚脂肪酸酯。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：何春阳，刘兵，孙广胜，黄达辉，
申请(专利权)人：安集微电子科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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