回收废光刻胶剥离剂的方法技术

本发明专利技术涉及回收废光刻胶剥离剂的方法，所述方法包括以下步骤：使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化液体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关专利申请的交叉引用本申请要求2014年8月20日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2014-0108635和2015年7月9日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2015-0097659的优先权权益，所述专利申请的全部内容通过引用并入本文。
本专利技术涉及回收废光刻胶剥离剂的方法。具体地本专利技术涉及这样的回收废光刻胶剥离剂的方法，其可缩短原材料的分析时间和添加剂的稀释时间，因此提高生产率并降低成本，且还可定量引入原材料和添加剂，由此减少回收前新鲜的光刻胶剥离剂与回收的光刻胶剥离剂之间的含量变化。
技术介绍
液晶显示器的微电路或半导体集成电路的制造方法包括以下几个步骤：在衬底上形成多种底膜如导电金属膜(由铝、铝合金、铜、铜合金、钼、或钼合金制成)或绝缘膜(如氧化硅膜、氮化硅膜、或丙烯酰基绝缘膜)；在这样的底膜上均匀涂覆光刻胶；任选地使所涂覆的光刻胶曝光并显影以形成光刻胶图案；以及使用光刻胶图案作为掩模使底膜图案化。在这些图案化步骤之后，进行移除残留在底膜上的光刻胶的过程。为此，使用剥离剂组合物移除光刻胶。同时，废剥离剂主要产生于电子零件(如液晶显示器的半导体晶片或玻璃衬底)的制造过程。所述废剥离剂不仅含有剥离溶剂，而且含有光刻胶树脂、水、和例如重金属的杂质。这些废剥离剂主要作为所述过程的染料焚烧或以低水平回收。因此，其可引起二次污染及通过低效能量消耗所致的环境污染，且IT行业中公司的商业竞争力可能变弱。此外，随着IT技术的快速发展，就排出的废剥离剂量最高的LCD制造而言，能够制造商业化40到47寸LCD面板以及82寸尺寸的产品的第7代生产线已运行。基于已建立的第8代和第9代生产线的开发计划，LCD衬底的尺寸快速增长且衬底类型也多样化。与此相关的剥离剂溶剂的量也成比例地大幅增加。考虑到该现状，急切需要回收废剥离剂的技术，其不仅提供废剥离剂的基本回收，而且能够廉价地生产高纯度的回收剥离剂溶剂。因此，已提出回收剥离剂的技术，其通过纯化废剥离剂以回收相应原材料，然后分析所述原材料并向其中添加稀释于溶剂中的添加剂来进行。然而，对回收相关原材料、分析回收材料和在溶剂中稀释添加剂，花费大量时间和金钱且过程效率降低。此外，在于溶剂中稀释添加剂和添加所述添加剂的过程中，可发生显著差异，因此存在难以定量引入添加剂的限制。因此，需要开发这样的用于回收废剥离剂的新方法，所述方法能够减少分析材料和在溶剂中稀释所必需的时间，且能够定量引入添加剂。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供用于回收废光刻胶剥离剂的方法，其能够缩短原材料的分析时间及添加剂的稀释时间，从而提高生产率且降低成本，而且还制造出品质与回收前的新鲜的光刻胶剥离剂相当的回收剥离剂。技术方案在本专利技术中，提供了用于回收废光刻胶剥离剂的方法，其包含以下步骤：使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化液体。在下文中，将更详述根据本专利技术的具体实施方案的回收废光刻胶剥离剂的方法。根据本专利技术的一个实施方案，提供了用于回收废光刻胶剥离剂的方法，其包括以下步骤：使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化液体。本专利技术人通过多次实验发现，当使用如上文所述的用于回收废光刻胶剥离剂的方法时，由于使用了包含预定量的制造光刻胶剥离剂所需的材料的回收液体，可以缩短原材料的分析时间及添加剂的稀释时间，从而提高生产率且降低成本，而且也可以定量地引入所述原材料及添加剂，从而制造出品质与回收前的新鲜光刻胶剥离剂相当的回收剥离剂产物。本专利技术在此发现的基础上完成。具体来说，用于回收废光刻胶剥离剂的方法可包括以下步骤：使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化溶液。在上述回收液体中，在已经完成分析及过滤的状态下，在亚烷基二醇化合物溶剂中稀释未包含在废光刻胶剥离剂的纯化液体中的添加剂，并因此可缩短分析时间及过滤时间，从而降低成本。此外，由于可准确地引入少量待引入的添加剂的量，因此可以制造出品质与回收前的新鲜光刻胶剥离剂相当的回收剥离剂产物。所述回收液体可包含至少一种胺化合物。胺化合物是表现剥离能力的组分，且其可用于溶解光刻胶和将其移除。所用胺化合物的实例可包括但不特别限于：链状胺化合物，例如(2-氨基乙氧基)-1-乙醇(AEE)、氨基乙基乙醇胺(AEEA)、单甲醇胺、单乙醇胺、N-甲基乙基胺(N-MEA)、1-氨基异丙醇(AIP)、甲基二甲胺(MDEA)、二亚乙基三胺(DETA)、2-甲基氨基乙醇(MMEA)、3-氨基丙醇(AP)、二乙醇胺(DEA)、二乙氨基乙醇(DEEA)、三乙醇胺(TEA)及三亚乙基四胺(TETA)；或环状胺化合物，例如咪唑基-4-乙醇(IME)、氨基乙基哌嗪(AEP)及羟基乙基哌嗪(HEP)。回收液体可包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物。基于所述回收溶液的总重量，如果所述至少一种胺化合物的含量小于40重量％，则由于最终回收的光刻胶剥离剂中胺化合物的含量降低，回收光刻胶剥离剂的剥离能力可能减小。基于所述回收溶液的总重量，如果所述至少一种胺化合物的含量大于75重量％，则由于最终回收的光刻胶剥离剂中胺化合物的含量过度增加，这可引起底膜(例如含铜膜)的腐蚀，因此可能必须使用大量腐蚀抑制剂以抑制腐蚀。在此情况下，由于使用了大量腐蚀抑制剂，显著量的腐蚀抑制剂可能被吸附且保留在底膜的表面上，从而降低含铜底膜等的电特性。作为回收液体中包含的亚烷基二醇化合物，可以使用本领域公知的材料，但其类别不受特别限制。举例而言，本文所使用的亚烷基二醇化合物可以包含双(2-羟乙基)醚、二乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丙醚、二乙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、三乙二醇单丙醚、三乙二醇单丁醚、三丙二醇单甲醚、三丙二醇单甲醚、三丙二醇单丙醚或三丙二醇单丁醚等。可以使用选自其中的两种或更多种。此外，考虑到根据一个实施方案的剥离剂组合物的优良润湿能力及由此引起的改善的剥离能力及清洗能力，可以适当地用于本文中的亚烷基二醇或亚烷基二醇单烷基醚包括双(2-羟乙基)醚(HEE)或二乙二醇单丁醚(BDG)等。基于回收溶液的总重量，在以20重量％到55重量％的量包含亚烷基二醇化合物时，可以确保最终回收的光刻胶剥离剂的剥离能力，且随着时间推移，剥离能力及清洗能力可以维持一段较长时间。此外，回收液体可还包含添加剂。如上所述，在回收液体中，在已经完成分析及过滤的状态下，在亚烷基二醇化合物溶剂中稀释痕量的添加剂，由此可以缩短分析时间及过滤时间，从而降低成本。此外，可以准确地引入待以少量引入的添加剂的量，由此制造出品质与回收前的新鲜光刻胶剥离剂相当的回收剥离剂产物。另外，基于回收溶液的总重量，可以1重量％到10重量％、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种回收废光刻胶剥离剂的方法，其包括以下步骤：使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化液体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.20 KR 10-2014-0108635;2015.07.09 KR 10-2011.一种回收废光刻胶剥离剂的方法，其包括以下步骤：使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化液体。2.根据权利要求1所述的回收废光刻胶剥离剂的方法，其中，在使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化液体的步骤中，所述废光刻胶剥离剂的纯化液体与所述回收液体的重量比为5:1到20:1。3.根据权利要求1所述的回收废光刻胶剥离剂的方法，其中使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化液体的步骤还包括使选自非质子有机溶剂和质子有机溶剂中的一者或更多者接触所述废光刻胶剥离剂的纯化液体和所述回收液体的步骤。4.根据权利要求3所述的回收废光刻胶剥离剂的方法，其中使选自非质子有机溶剂和质子有机溶剂中的一者或更多者接触所述废光刻胶剥离剂的纯化液体和所述回收液体的步骤包括：使60重量％到95重量％的所述废光刻胶剥离剂的纯化液体、1重量％到10重量％的所述回收液体；以及1重量％到30重量％的选自所述非质子有机溶剂和质子有机溶剂中的一种或更多种化合物接触。5.根据权利要求1所述的回收废光刻胶剥离剂的方法，其中所述废光刻胶剥离剂的纯化液体以0.5:1到2:1的重量比包含所述非质子有机溶剂和所述质子有机溶剂。6.根据权利要求5所述的回收废光刻胶剥离剂的方法，其中所述废光刻胶剥离剂的纯化液体还包含0.1重量％到10重量％的所述胺化合物。7.根据权利要求1所述的回收废光刻胶剥离剂的方法，其中所述添加剂包含选自腐蚀抑制剂和硅酮类非离子型表面活性剂中的一者或更多者。8.根据权利要求7所述的回收废光刻胶剥离剂的方法，其中所述腐蚀抑制剂与所述硅酮类非离子型表面活性剂的重量比为从5:1到15:1。9.根据权利要求7所述的回收废光刻胶剥离剂的方法，其中所述腐蚀抑制剂包含苯并咪唑类化合物、三唑类化合物或四唑类化合物。10.根据权利要求9所述的回收废光刻胶剥离剂的方法，其中所述三唑类化合物包含由式1或式2表示的化合物：[式1]其中R...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴泰文，郑大哲，李东勋，李佑然，李贤浚，金周永，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR