一种将硅片的中心放置在静电卡盘中心的方法技术

本发明专利技术涉及通过在真空传输腔室与刻蚀反应腔室的连接处安装两个普通光电开关传感器，准确计算出硅片在机械手的偏离位置和机械手上硅片的有无，指导机械手自动调整偏差放片，保证硅片中心定位在反应式静电卡盘中心位置的方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种将硅片中心定位在反应式静电卡盘中心位置的方法，特别是通过在真空传输腔室与刻蚀反应腔室的连接处安装两个普通光电开关传感器，准确计算出硅片在机械手的偏离位置和机械手上硅片的有无，指导机械手自动调整偏差放片，保证硅片中心定位在反应式静电卡盘中心位置的方法。
技术介绍
在标准圆形的直径为2R的硅片(例如2R等于300mm或200mm)传输过程中，机械手把硅片从大气环境搬运到反应腔室，传输腔室和反应腔室之间直线移动的机械手的轨迹是已知的，并且通过机械手控制器可以随时反馈机械手的中心坐标位置，但是在硅片的传输过程中，肯定会出现硅片中心位置与机械手位置偏差或掉片的情况，从而无从保证硅片中心是否能定位在反应式静电卡盘中心位置。在传统的解决方案中，在大气传输端设一个定位调整装置，装置主要由一个视觉，电机和控制器构成，在真空传输腔室和反应室的连接处安装一个普通的光电传感器来检测硅片的有无。然而在真空端传输过程中，大气机械手把硅片放置在LOAD LOCK中，再由真空机械手完成从LOAD LOCK取片到放片进反应室，这样一个过程会出现硅片偏离机械手中心位置，从而不能保证把硅片的中心放置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种将硅片的中心放置在静电卡盘中心的方法，其特征在于，在真空传输腔室与刻蚀反应腔室的连接处安装两个普通光电开关（Ｓ１、Ｓ２），其中第一光电开关（Ｓ１）放置在反应腔室与传输腔室连接处的机械手中心运动的轨迹上，第二光电开关（Ｓ２）放置在 平行于硅片的平面内垂直于机械手中心运动的轨迹的直线上，第一光电开关（Ｓ１）与第二光电开关（Ｓ２）之间的距离等于硅片的半径Ｒ；利用上述第一光电开关（Ｓ１）获得硅片经过光点的距离（Ｌ）；利用上述第二光电开关（Ｓ２）判定硅片中心上 偏移或下偏移；计算硅片的中心位置；根据离开光点时机械手的中心位置和计算出的硅片中心位置，指导机械...

【技术特征摘要】
1.一种将硅片的中心放置在静电卡盘中心的方法，其特征在于，在真空传输腔室与刻蚀反应腔室的连接处安装两个普通光电开关(S1、S2)，其中第一光电开关(S1)放置在反应腔室与传输腔室连接处的机械手中心运动的轨迹上，第二光电开关(S2)放置在平行于硅片的平面内垂直于机械手中心运动的轨迹的直线上，第一光电开关(S1)与第二光电开关(S2)之间的距离等于硅片的半径R；利用上述第一光电开关(S1)获得硅片经过光点的距离(L)；利用上述第二光电开关(S2)判定硅片中心上偏移或下偏移；计算硅片的中心位置；根据离开光点时机械手的中心位置和计算出的硅片中心位置，指导机械手自动调整偏差放片。2.权利要求1中的方法，其中上述第一光电开关(S1)开关量信号直接输入到控制器上开始计时并且以硅片遮挡第一光电开关(S1)发射光的时间和机械手的运动速度计算出硅片经过光点的距离(L)。3.权...

【专利技术属性】
技术研发人员：李永军，
申请(专利权)人：北京圆合电子技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]