具有CCD传感器的硅片传输系统及传输方法技术方案

本发明专利技术涉及半导体刻蚀设备中硅片传输装置及传输方法。本发明专利技术具有ＣＣＤ传感器的硅片传输系统包括安装在真空传输室内的真空机械手、安装在真空传输室外的线阵ＣＣＤ传感器，线阵ＣＣＤ传感器用于探测真空机械手取片后硅片中心位置与真空机械手中心位置情况。由于ＣＣＤ传感器安装在真空传输室外，有效地减小真空传输室的体积。本发明专利技术传输方法包括如下步骤：取片；ＣＣＤ传感器将其探头探测到的位置数据发送给计算机，计算机与预定位置比较判断是否存在位置偏差；不存在则直接放片；存在则控制真空机械手放片时将其中心位置相对于放片位置反方向偏移相应偏移量。本发明专利技术的方法可以取片、放片一步到位，步骤简单，时间短，效率高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种半导体刻蚀设备，特别是一种半导体刻蚀设备中的硅片传输装置；本专利技术还涉及使用该传输装置的传输方法。
技术介绍
某些半导体设备的作用是通过物理、化学等手段对硅片进行某种处理，这种处理被称之为半导体工艺，而处理硅片通常在真空环境下的密闭容器中进行。通常将这些容器称为反应室。真空传输室作为直接和反应室相连的部分，配合其内部的真空机械手，在半导体生产中需要完成将待反应硅片准确传送到反应腔室的工作。真空机械手采用步进电机或伺付电机驱动，通过传感器完成硅片的准确定位后，将硅片传输到反应腔室。硅片从开始所处的大气环境到真空环境，中间需要一个过渡腔室来完成，通常是使用过渡腔室(Load Lock腔室)完成的，Load Lock腔室内存放一定数量的硅片后，经过抽真空过程，完成从大气环境到真空环境的转换。典型的真空机械手在真空传输室内调整硅片传输位置的装置与方法是通过专门的硅片位置测量装置(Agliner)完成的。图1所示为传统的硅片传输装置，其结构包括安装在真空传输室1内的真空机械手2和硅片位置测量装置3。传输过程为真空机械手2需要将硅片从过渡腔室5中取出来，并放到硅片位置测量本文档来自技高网...

【技术保护点】
具有ＣＣＤ传感器的硅片传输系统，包括安装在真空传输室（１）内的真空机械手（２），其特征在于还包括安装在真空传输室（１）外数量与过渡腔室（５）一致或是其二倍的线阵ＣＣＤ传感器，所述线阵ＣＣＤ传感器用于探测真空机械手（２）取片后硅片中心位置与真空机械手（２）中心位置情况。

【技术特征摘要】
1.具有CCD传感器的硅片传输系统，包括安装在真空传输室(1)内的真空机械手(2)，其特征在于还包括安装在真空传输室(1)外数量与过渡腔室(5)一致或是其二倍的线阵CCD传感器，所述线阵CCD传感器用于探测真空机械手(2)取片后硅片中心位置与真空机械手(2)中心位置情况。2.根据权利要求1所述的具有CCD传感器的硅片传输系统，其特征在于所述线阵CCD传感器的探头(4)位于真空机械手(2)取片、放片路径中的必经位置上。3.根据权利要求2所述的具有CCD传感器的硅片传输系统，其特征在于所述必经位置是真空机械手(2)取片后缩回动作完成时所在的位置。4.一种用于如权利要求1所述的具有CCD传感器的硅片传输系统的传输方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏威，
申请(专利权)人：北京圆合电子技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]