【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于在将被涂覆的基板上布置/去除和对准掩模的方法和装置，尤其涉及用于在优选的大表面基板上的有机电致发光材料(OLED)的微结构，所述大表面基板尤其是指真空中的屏幕、显示器等。
技术介绍
在利用有机电致发光材料(OLED)的发光特性的所谓OLED显示器或屏幕的生产过程中，必须在诸如玻璃的透明基板上涂抹具有相应的微结构的有机电致发光材料，从而使电致发光结构可由相应的电极层致动，并受激发光。通常用真空涂覆方法来涂抹微结构的有机电致发光材料，并且通常由相应的遮光掩模来产生微结构。需要将这些掩模以适当的方式放置在基板上以与基板一起被输送通过相应的涂覆室，然后，掩模被再次从基板上去除，以便在可能的清洗后可被再利用。考虑到微结构的小尺寸，特别是当制造所谓的RGB显示器时，掩模必需非常精确地定位，在这种显示器中，为了在显示器上进行彩色显示，用于红、绿和蓝光的像素区域必经彼此紧密靠近地产生。另外，真空涂覆方法需要高度纯净，从而必须保证掩模的处理装置不产生任何不必要的颗粒。从现有技术中，已知箔式掩模的磁保持装置(DE 29707686U1)，其中用定位栓在基板运...
【技术保护点】
一种用于在将被涂覆的基板上布置／去除和对准掩模的方法，尤其用于如屏幕、显示器之类的大表面基板上的有机电致发光材料（ＯＬＥＤ）的微结构，并且，用于涂覆的基板被移动至真空涂覆室，其特征在于，在基板运载装置（２）上设置基板（３），在其背面上围绕着基板接受装置区域圆周地设置磁体（４），由通过第一移动装置可以若干个方向通过保持组件（８）上的电磁体（７）保持掩模（６），确定掩模（６）与基板（３）彼此的相对位置，基板（３）与掩模（６）彼此对准，即，致动第一移动装置（５），从而使掩模（６）相对于基板移动，如果已经确定定向错误，通过用第一移动装置移动保持组件（８）使掩模（６）沉积在基板上，从...
【技术特征摘要】
EP 2005-4-20 05008663.61.一种用于在将被涂覆的基板上布置/去除和对准掩模的方法，尤其用于如屏幕、显示器之类的大表面基板上的有机电致发光材料(OLED)的微结构，并且，用于涂覆的基板被移动至真空涂覆室，其特征在于，在基板运载装置(2)上设置基板(3)，在其背面上围绕着基板接受装置区域圆周地设置磁体(4)，由通过第一移动装置可以若干个方向通过保持组件(8)上的电磁体(7)保持掩模(6)，确定掩模(6)与基板(3)彼此的相对位置，基板(3)与掩模(6)彼此对准，即，致动第一移动装置(5)，从而使掩模(6)相对于基板移动，如果已经确定定向错误，通过用第一移动装置移动保持组件(8)使掩模(6)沉积在基板上，从而使掩模基本上垂直于基板(3)移动，和/或用第二移动装置(18)使基板运载装置(2)沿掩模的方向移动，通过基板运载装置的磁体(4)使电磁体(7)解除致动并将掩模(6)保持在基板(3)上。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，使用以磁性边缘或框架(21)为特征的掩模(6)，其对应于基板运载装置的磁体以及保持装置。3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在基板上方的掩模的位置由监视装置，特别是通过一个或多个，优选为两个CCD照相机(15)自动确定。4.如前述权利要求中任何一个所述的方法，其特征在于，通过独立的线性移动和/或转动移动进行掩模的对准。5.如前述权利要求中任何一个所述的方法，其特征在于，通过保持组件(8)和/或第二移动装置(18)的线性移动，特别是用一个或多个纺锤形驱动器在基板处布置掩模。6.如前述权利要求中任何一个所述的方法，其特征在于，基板(3)从后面接近被牢固地保持着的掩模(6)。7.如前述权利要求中任何一个所述的方法，其特征在于，相对位置的确定是横向位置的确定和/或通过掩模朝着基板的基本平行的移动进行掩模和基板的对准。8.一种用于在将被涂覆的基板上布置/去除和对准掩模的装置，其为了涂覆的目的而被移动通过真空涂布机，尤其用于诸如屏幕、显示器之类的大表面基板上的有机电致发光材料(OLED)的微结构，带有通过磁力在将被涂覆的基板上保持的掩模(6)，带有用于拾起并沉积掩模的保持组件以及用于相对于基板移动保持组件的第一移动装置，其特征在于，保持组件包括可切换的电磁体(7)，这些磁体围绕着中央区域的...
【专利技术属性】
技术研发人员：迪特尔曼茨，
申请(专利权)人：应用菲林股份有限两合公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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