半导体自动处理系统技术方案

安装在净化室（５４）中的自动半导体处理系统有一个垂直相对于处理舱（９４）的度盘舱（７５）。在度盘舱中的度盘（７２）为处理过程中的半导体晶片提供堆放或存储功能。处理室（６８、７０）位于处理舱中。处理机械手（６６）在度盘舱和处理舱间运动，以从处理室往返搬运半导体晶片。处理机械手有沿提升杆（２５４）垂直移动的机械臂（２５５）。半导体晶片偏离机械臂搬运以进一步避免污染。这是一款紧凑的，需要较小净化空间的自动系统。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

Semiconductor automatic processing system

The automatic semiconductor processing system installed in the cleaning chamber (54) has a dial cabin (75) vertically relative to the processing chamber (94). The dial (72) in the dial cabin provides stacking or storage functions for the semiconductor wafer during processing. Treatment rooms (68, 70) are located in the processing module. The processing manipulator (66) moves between the dial cabin and the processing compartment to carry the semiconductor wafer back and forth from the processing room. The manipulator has a mechanical arm (255) vertically moving along the lifting rod (254). The semiconductor wafer is moved away from the mechanical arm to further avoid contamination. This is a compact automatic system requiring smaller purification space.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利
是用来处理半导体晶片，硬盘介质，半导体衬底和要求极低污染级类似材料的自动半导体晶片处理系统。
技术介绍
计算机、电视、电话和其它电子产品包含大量的基本半导体电子器件。为了生产电子产品，要在很小的空间里使用光刻技术在半导体衬底，例如半导体晶片上制造成百上千的半导体器件。由于在制造半导体器件中牵涉极小的几何尺度，在半导体衬底材料上的污染物，如尘埃、污垢、油渍、金属等都将产生最终产品中的缺陷。为避免污染物，要在净化室中处理半导体衬底。净化室是为避免污染而设计、装有半导体制造设备的封闭区域或空间。馈入净化室的空气经过充分的滤清，以避免周围空气污染净化室。要使用特殊的材料和设备保持净化室的污染在可接受的低水平上。因而净化室的建造和维护可能是费时和价格高昂的。净化室中的半导体处理设备应尽可能紧凑地安装，这就需要使大量的半导体晶片能在一个较小的空间中处理，从而减小空间和降低费用。当然，这也就需要较小的半导体处理设备，以降低对净化室空间的要求。有的自动半导体处理系统用机械手递送半导体材料。所设计的这些机械手能避免产生污染半导体的微尘。但即使经过精心选择材料和设计机械手的操作，机械手的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理半导体晶片和类似平面介质材料的机器，包括：一个箱体；箱体中的一个度盘，该度盘包括：一个ｘ轴移位组件；和一个ｙ轴移位组件，该ｙ轴移位组件包括第一对和第二对传动带；至少要有间接连到第一对和第二对传动带的电机，以同时在 相对方向驱动第一对和第二对传动带；和传动带上至少能支持几个货盘。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：杰弗里A戴维斯，凯文P梅依尔，科特L道尔契克，
申请(专利权)人：塞米特公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]