【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基于干法刻蚀负载效应的亚波长连续面形微结构制备方法,其特征在于步骤如下:(1)首先选择基底材料,然后对干法刻蚀设备进行标定,建立缝宽与刻蚀速率的关系;(2)依据标定的结果,设计与目标结构相应的干法刻蚀掩模图形,并在基底表面制作金属材质的干法刻蚀掩模图形;(3)采用标定过程中使用的刻蚀参数对基底进行干法刻蚀;(4)刻蚀结束后,对刻蚀后的基底材料进行湿法腐蚀抛光,抛光完成后即可获得需要的目标结构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:董小春,杜春雷,李飞,潘丽,
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所,
类型:发明
国别省市:51[中国|四川]
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