一种基于图像处理的传感芯片缺陷检测方法技术

本发明专利技术提供一种基于图像处理的传感芯片缺陷检测方法。所述方法包括，步骤1，采集待测样片图像数据；步骤2，待测样片图像数据预处理；步骤3，判断待测样片区域是否提取成功；步骤4，待测样片轮廓中心位置获取；步骤5，曝光图形区域划分；步骤6，曝光图形区域中心位置提取和区域缺陷检测；步骤7，输出检测结果。所述方法利用可编程照明和图像处理相结合的检测方式，实现传感芯片的套刻精度和曝光区域缺陷的高精度、高效率检测，保障了传感芯片生产质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于计算机数字图像信息处理领域，具体涉及一种基于图像处理的传感芯片缺陷检测方法，用于图像处理、在线测量、计算机视觉和工业自动化检测。

技术介绍

1、传感技术被称为信息时代的三大支柱技术，它是衡量一个国家信息化程度的重要标志。传感芯片作为传感技术的核心部件，被广泛应用于国防安全、物联网、汽车工业、消费电子、通信和医疗等领域。

2、传感芯片的制作要经过基片加工、氧化、光刻、刻蚀、薄膜沉积、互联、测试和封装等步骤。其中，光刻过程中的显影完成后，需要通过各种测量设备和光学显微镜进行检查，确保光刻图形绘制的质量。传感芯片基底材料多为不锈钢、陶瓷等特殊材质，需求不同时，外形尺寸也复杂多样。因此，对它缺陷的检测要求与传统的不同，不仅要检测传统中由于显影不均匀而产生的淤胶、清洗不彻底而导致的多余残留和曝光图形损伤，还要检测图形位置同基底形状的套刻精度。如果有缺陷的产品进行后道生产加工，会影响产品的质量问题，因此如何快速高效检测传感芯片的光刻缺陷，成为保障传感芯片整体良率的关键手段之一。

3、目前，还没有针对传感芯片缺陷检测的相关软件，测量本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于图像处理的传感芯片缺陷检测方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的一种基于图像处理的传感芯片缺陷检测方法，其特征在于，所述图像A和图像B为同一样片在位置不变、照明方式不同时的图像。

3.根据权利要求1所述的一种基于图像处理的传感芯片缺陷检测方法，其特征在于，所述待测样片区域和曝光图形区域在图像A和图像B中的位置相同。

【技术特征摘要】

1.一种基于图像处理的传感芯片缺陷检测方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的一种基于图像处理的传感芯片缺陷检测方法，其特征在于，所述图像a和图像b为同一样...

【专利技术属性】
技术研发人员：李艳丽，陈磊，刘俊伯，龚健文，李昱阳，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：