一种基于金属局域化效应的光刻方法技术

一种基于金属局域化效应的光刻方法：（１）首先在玻璃表面制作金属结构；（２）将ＰＤＭＳ预聚物倾倒于金属结构表面，并在３０℃－９０℃的高温环境中固化，取出冷却后，将已经固化的ＰＤＭＳ膜和金属结构从玻璃表面掀起，金属结构将嵌套于ＰＤＭＳ材料之中形成局域化光刻掩膜；（３）选择基底材料，并在基底表面涂覆光刻胶；（４）将ＰＤＭＳ局域化光刻掩模与基底表面的光刻胶紧密贴合；（５）采用垂直入射光照射光刻掩膜，曝光完成后，掀掉ＰＤＭＳ模板；（６）对光刻胶进行显影，最后形成需要的光刻线条。本发明专利技术可以制备出特征尺寸小于５０ｎｍ的结构，且制作工艺简单，不需要采用复杂的设备，制作效率高。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基于金属局域化效应的光刻方法，其特征在于步骤如下：　　　　（１）首先在玻璃表面制作金属结构；　　　　（２）将ＰＤＭＳ预聚物倾倒于金属结构表面，并在３０℃－９０℃的高温环境中固化，取出冷却后，将已经固化的ＰＤＭＳ膜和金属结构从玻璃表面掀起，金属结构将嵌套于ＰＤＭＳ材料之中形成局域化光刻掩膜；　　　　（３）选择基底材料，并在基底表面涂覆光刻胶；　　　　（４）将ＰＤＭＳ局域化光刻掩模与基底表面的光刻胶紧密贴合；　　　　（５）采用垂直入射光照射光刻掩膜，曝光完成后，掀掉ＰＤＭＳ模板；　　　　（６）对光刻胶进行显影，最后形成需要的光刻线条。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，董小春，杜春雷，魏兴战，邓启凌，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：51[]