彩色滤光基板及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种彩色滤光基板的制造方法。提供一基板，并在基板上形成一彩色滤光层。在基板上形成一共通电极层，以覆盖彩色滤光层。在共通电极层上形成一遮光层与多个配向凸出物，而部分遮光层位于彩色滤光层上方，且配向凸出物位于彩色滤光层上方。遮光层的材质为负型光刻胶材料，而配向凸出物的材质为光刻胶材料，且配向凸出物的光穿透率小于彩色滤光层的光穿透率。此种彩色滤光基板能够降低漏光的现象，因此，显示品质能够改善。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种半导体结构及其制造方法，且特别是有关于一种彩色 滤光基板及其制造方法。
技术介绍
由于显示器的需求与日俱增，因此业界全力投入相关显示器的发展。其中，又以阴极射线管(Cathode Ray Tube, CRT)因具有优异的显示品质与技术成熟 性，因此长年独占显示器市场。然而，近来由于绿色环保概念的兴起对于其能 源消耗较大与产生辐射量较大的特性，加上产品扁平化空间有限，因此无法满 足市场对于轻、薄、短、小、美以及低消耗功率的市场趋势。因此，具有高画 质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的薄膜晶体管液晶显示 器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD)已逐渐成为市场的 主流。薄膜晶体管液晶显示器主要由液晶显示面板(LCDpannd)与一背光模组 (back light module)所构成，其中，液晶显示面板主要由薄膜晶体管阵列基板 (thin film transistor array substrate)、彩色滤、光基板(color filter substrate)禾口 配置在两基板之间的液晶层(liquid crystal layer)所构成。此外，背光模组用 以提供此液晶显示面板所需的面光源，以使薄膜晶体管液晶显示器达到显示的 效果。更详细而言，彩色滤光基板通常由基板、黑矩阵(black matrix, BM)、彩 色滤光层(color filter layer)、共通电极层(common electrode layer)、透明导电层、配向凸起物以及间隔物(spacer)所构成。其中，彩色滤光层包括绿色 滤光层、蓝色滤光层以及红光滤光层。因此，此种彩色滤光基板需要七道步骤 才能完成。此外，配向凸起物也会造成漏光的现象而降低显示对比。
技术实现思路
本专利技术为解决现有技术存在的上述问题而提供一种彩色滤光基板的制造 方法，以改善显示品质。本专利技术还提供一种彩色滤光基板，其具有较佳的显示对比。 本专利技术所提出的一种彩色滤光基板的制造方法，其包括下列步骤。提供一 基板，并在基板上形成一彩色滤光层。在基板上形成一共通电极层，以覆盖彩 色滤光层。在共通电极层上形成一遮光层与多个配向凸出物，而部分遮光层位于彩色滤光层上方，且配向凸出物位于彩色滤光层上方。i光层的材质为负型 光刻胶材料，而配向凸出物的材质为光刻胶材料，且配向凸出物的光穿透率小 于彩色滤光层的光穿透率。在本专利技术的彩色滤光基板的制造方法中，遮光层与配向凸出物为同时形 成，且配向凸出物与遮光层的材质相同。在本专利技术的彩色滤光基板的制造方法中，形成遮光层与配向凸出物的步骤 包括在共通电极层上形成遮光层。然后，在共通电极层上形成配向凸出物，其 中配向凸出物的材质为正型光刻胶。在本专利技术的彩色滤光基板的制造方法中，形成遮光层与配向凸出物之后， 彩色滤光基板的制造方法还包括在遮光层上形成多个间隔物。在本专利技术的彩色滤光基板的制造方法中，配向凸出物含有染料或遮光材质。在本专利技术的彩色滤光基板的制造方法中，遮光材质包括氧化钛。 本专利技术所提出的一种彩色滤光基板，其包括一基板、 一彩色滤光层、 一共 通电极层、 一遮光层、多个配向凸出物，其中彩色滤光层配置于基板上。共通 电极层配置于基板上，并覆盖彩色滤光层。遮光层配置于共通电极层上，且部 分遮光层位于彩色滤光层上方，其中遮光层的材质为负型光刻胶材料。配向凸 出物配置于共通电极层上，并位于彩色滤光层上方，其中配向凸出物的材质为 光刻胶材料，且配向凸出物的光穿透率小于彩色滤光层的光穿透率。 在本专利技术的彩色滤光基板中，配向凸出物与遮光层的材质相同。 在本专利技术的彩色滤光基板中，配向凸出物的材质为正型光刻胶。 在本专利技术的彩色滤光基板中，配向凸出物含有染料或遮光材质。在本专利技术的彩色滤光基板中，遮光材质包括氧化钛。在本专利技术的彩色滤光基板中，彩色滤光基板更包括多个间隔物，其配置于 遮光层上。基于上述，本专利技术采用光穿透率小于彩色滤光层的光穿透率的配向凸起 物，因此相较于现有技术，此种彩色滤光基板能够降低漏光的现象。此外，当 配向凸起物与遮光层为相同材质时，相较于现有技术，此彩色滤光基板所需的 掩模数较少。附图说明为让本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发 明的具体实施方式作详细说明，其中图1A至图1D是依照本专利技术的一实施例的一种彩色滤光基板的制造方法 的剖面图。具体实施方式图1A至图1D是依照本专利技术的一实施例的一种彩色滤光基板的制造方法 的剖面图。请参考图1A，本实施例的彩色滤光基板的制造方法包括下列步骤。 首先，提供一基板110，并在基板110上形成一彩色滤光层120，其中彩色滤 光层120的材质包括光刻胶材料，而形成彩色滤光层120的方法包括曝光制程 与显影制程。请参考图1B，在基板110上形成一共通电极层130，以覆盖彩色滤光层 120。此外，形成共通电极层130的方法如是溅镀制程。请参考图1C，在共通电极层130上形成一遮光层140与多个配向凸出物 150，且部分遮光层140位于彩色滤光层120上方，且配向凸出物150位于彩 色滤光层120上方。此外，遮光层140的材质为负型光刻胶材料，而形成遮光 层140的方式可以是曝光制程以及显影制程。此外，配向凸出物150的材质为 正型光刻胶材料或负型光刻胶材料，而形成配向凸出物150的方式可以是曝光 制程以及显影制程。配向凸出物150的光穿透率小于彩色滤光层120的光穿透率。换言之，此 配向凸出物150具有遮光的效果，以降低漏光。举例而言，配向凸出物150含有染料或遮光材质，而遮光材质可以是氧化钛，因此配向凸出物150具有遮光 的效果。当配向凸出物150与遮光层140同时形成时，相较于现有技术，本实 施例的彩色滤光基板的制造方法便可减少一道掩模。此时，配向凸出物150的 材质便是负型光刻胶材料。然而，在其他实施例中，配向凸出物150也可以是 正型光刻胶材料。此时，配向凸出物150与遮光层140便分别形成。请参考图1D，在形成遮光层140与配向凸出物150之后，本实施例的彩 色滤光基板的制造方法也可以在遮光层140上形成多个间隔物160。此外，形 成间隔物160的方式可以是曝光制程以及显影制程。然而，本实施例并不限定 间隔物160的材质为光刻胶材料。在其他实施例中，间隔物160也可以是球状 间隔物。至此，大致完成本实施例的彩色滤光基板IOO的制造。以下将对于此 彩色滤光基板100的细部结构进行详细说明。请继续参考图1D，本实施例的彩色滤光基板IOO包括一基板110、 一彩色 滤光层120、 一共通电极层130、 一遮光层140与多个配向凸出物150。其中， 彩色滤光层120配置于基板IIO上。共通电极层130配置于基板IIO上，并覆 盖彩色滤光层120。遮光层140配置于共通电极层130上，且部分遮光层140 位于彩色滤光层120上方。此外，遮光层140的材质为负型光刻胶材料。配向 凸出物150配置于共通电极层130上，并位于彩色滤光层120上方，其中配向 凸出物150的材质为光刻胶材料，且配向凸出物150的光穿透率小于彩色滤光 层120的光穿透率。因此，配向凸出物150具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光基板的制造方法，包括：提供一基板，并在该基板上形成一彩色滤光层；在该基板上形成一共通电极层，以覆盖该彩色滤光层；以及在该共通电极层上形成一遮光层与多个配向凸出物，而部分该遮光层位于该彩色滤光层上方，且该些配向凸出物位于该彩色滤光层上方，其中该遮光层的材质为负型光刻胶材料，而该些配向凸出物的材质为光刻胶材料，且该些配向凸出物的光穿透率小于该彩色滤光层的光穿透率。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘昱辰，李得俊，周国庆，
申请(专利权)人：中华映管股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[]