光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法技术

本发明专利技术提供了一种光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法，其中所述光强阈值的获取方法包括：在测试光罩上设置测试图形组，所述测试图形包括主图形以及辅助图形，所述测试图形组中的测试图形内的主图形宽度逐渐增大或者减小；利用所述测试光罩进行晶圆的光刻；筛选出辅助图形被显影的测试图形和与其相邻的辅助图形未被显影的测试图形；对筛选出的辅助图形被显影的测试图形和辅助图形未被显影的测试图形进行模拟，以获取两个测试图形内的辅助图形处的最大光强值；将所述辅助图形未被显影的所述测试图形内的辅助图形处的最大光强值设置为光强阈值。将得到的光强阈值设置为OPC模型的阈值，能够提升对辅助图形显影情况检测的准确性。

【技术实现步骤摘要】
光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法
本专利技术涉及集成电路制造
，特别涉及一种光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法。
技术介绍
在半导体设计的版图中，密集（dense）图形与稀疏（ISO）图形的光刻工艺窗口（ProcessWindow）一般是不一致的，因而，适用于版图中的密集图形的曝光条件不一定适用于稀疏图形的曝光。因此，对于同时包含密集图形和稀疏图形的复杂版图而言，共同工艺窗口（CommonWindow）一般比较小，而辅助图形（ScattingBar）的增加能够解决工艺窗口较小的技术难题。插入辅助图形，是指在主图形周围放置辅助图形条，来提升主图形在光刻过程中的品质。插入辅助图形的好处主要有以下两点：一是可以改善轮廓线宽，改善光强对比，减小边放置误差(EdgePlacementError)；二是能很好的提高焦深，从而改善光刻工艺窗口。但是，不合理的辅助图形（例如，位置或者宽度不合理）会使其在光刻的过程中被曝光显现出来，从而影响整体版图的设计。因此，选取合适的方法检测辅助图形是否被显影出来是十分必要。目前主要通过具有OPC模型的检测工具进行辅助图形显影情况的检测，由于辅助图形的关键尺寸（CD）较小，无法直接测量到，所述OPC模型的阈值是根据其他图形（例如主图形）的关键尺寸推算得到的，因此，所述检测工具对辅助图形显影情况检测的准确性非常低。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法，以提升对辅助图形显影情况检测的准确性。为了实现上述目的以及其他相关目的，本专利技术提供一种光强阈值的获取方法，包括：在测试光罩上设置测试图形组，所述测试图形组包括至少两个测试图形，每个所述测试图形包括主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形，且同一测试图形组中的测试图形内的主图形宽度逐渐增大或者减小；利用所述测试光罩进行晶圆的光刻，并检测每个所述测试图形在晶圆上的显影情况；筛选出辅助图形被显影的测试图形和与其相邻的辅助图形未被显影的测试图形；对筛选出的所述辅助图形被显影的所述测试图形和所述辅助图形未被显影的所述测试图形进行模拟，以获取两个所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值；以及，将所述辅助图形未被显影的所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值设置为光强阈值。可选的，在所述的光强阈值的获取方法中，对筛选出的所述辅助图形未被显影的所述测试图形和所述辅助图形被显影的所述测试图形进行模拟，以获取两个所述测试图形的光强分布图，并从所述光强分布图中获取两个所述测试图形内的辅助图形处的最大光强值。可选的，在所述的光强阈值的获取方法中，所述最大光强值随所述主图形的宽度的增加而增大。可选的，在所述的光强阈值的获取方法中，通过关键尺寸扫描电子显微镜检测每个所述测试图形在晶圆上的显影情况。可选的，在所述的光强阈值的获取方法中，每个所述测试图形包括至少两个主图形，且每个所述测试图形内的主图形之间的间距相等。可选的，在所述的光强阈值的获取方法中，所述主图形的宽度小于1μm。为了实现上述目的以及其他相关目的，本专利技术还提供了一种辅助图形显影情况的检测方法，包括：提供一待检测图形，所述待检测图形包括主图形和设置在所述主图形周围的辅助图形；将OPC模型添加到检测工具中，所述OPC模型的阈值为上述所述的光强阈值；采用所述检测工具对所述待检测图形内的辅助图形显影情况进行检测。可选的，在所述的辅助图形显影情况的检测方法中，采用所述检测工具对所述待检测图形内的辅助图形的显影情况进行检测的过程包括：采用检测工具中的OPC模型对所述待检测图形进行模拟，得到所述待检测图形的光强分布图；通过所述光强分布图得到所述待检测图形内的辅助图形处的最大光强值；根据所述待检测图形内的辅助图形处的最大光强值与所述OPC模型的阈值比较结果，判断所述待检测图形内的辅助图形是否被显影。可选的，在所述的辅助图形显影情况的检测方法中，所述待检测图形内的辅助图形处的最大光强值超过所述OPC模型的阈值，则判定所述待检测图形内的辅助图形被显影；反之，则判定所述待检测图形内的辅助图形未被显影。可选的，在所述的辅助图形显影情况的检测方法中，所述检测工具包括光刻规则检查工具。本专利技术提供的光强阈值的获取方法包括：首先在在测试光罩上设置包括至少两个测试图形的测试图形组，且所述测试图形组中的测试图形内的主图形宽度逐渐增大或者减小；然后利用所述测试光罩进行晶圆的光刻，筛选出辅助图形被显影的测试图形和与其相邻的辅助图形未被显影的测试图形；最后，对筛选出的所述辅助图形被显影的所述测试图形和所述辅助图形未被显影的所述测试图形进行模拟，以获取两个所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值，并将所述辅助图形未被显影的所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值设置为光强阈值。本专利技术还将上述光强阈值设置为OPC模型的阈值，即直接由辅助图形处的最大光强值得到OPC模型的阈值，能够提升对辅助图形显影情况检测的准确性。附图说明图1是一种检测工具检测出的辅助图形未被显影的光强分布图；图2是一种检测工具检测出的辅助图形被显影的光强分布图；图3是本专利技术一实施例的光强阈值的获取方法流程图；图4是本专利技术一实施例的测试图形的结构示意图；图5是本专利技术一实施例的测试图形组的结构示意图；图6是图5中光刻后的晶圆上对应第四测试图形位置的扫描电镜图；图7是图5中光刻后的晶圆上对应第五测试图形位置的扫描电镜图；图8和图9是相邻两个测试图形的辅助图形均未被显影的光强分布图；图10和图11是相邻两个测试图形的辅助图形均被显影的光强分布图；图12和图13是辅助图形被显影的测试图形以及与其相邻的辅助图形未被显影的测试图形的光强分布图；图1-2中，101-主测试图形，102-辅助测试图形；图3-13中201-主图形，202-辅助图形；211-第一测试图形，212-第二测试图形，213-第三测试图形，214-第四测试图形，215-第五测试图形，216-第六测试图形，217-第七测试图形，218-第八测试图形，220-光刻后的晶圆，2201-纹路。具体实施方式目前主要通过具有OPC模型的检测工具进行辅助图形是否被显影的检测，所述检测工具为光刻规则检查(LithographyRuleCheck，LRC)工具，其可以利用OPC模型将测试图形中的不足之处检查出来。参阅图1和图2，通过具有OPC模型的检测工具对测试图形进行检测，所述测试图形包括主测试图形101和设置在主测试图形101两侧的辅助测试图形102，其中所述主测试图形101作为主图形，所述辅助测试图形102作为辅助图形。当检测到辅助测试图形102处的光强超过阈值Y1时（参阅图2），则判定所述辅助测试图形102在光刻的过程本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光强阈值的获取方法，其特征在于，包括：/n在测试光罩上设置测试图形组，所述测试图形组包括至少两个测试图形，每个所述测试图形包括主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形，且同一测试图形组中的测试图形内的主图形宽度逐渐增大或者减小；/n利用所述测试光罩进行晶圆的光刻，并检测每个所述测试图形在晶圆上的显影情况；/n筛选出所述辅助图形被显影的所述测试图形和与其相邻的所述辅助图形未被显影的所述测试图形；/n对筛选出的所述辅助图形被显影的所述测试图形和所述辅助图形未被显影的所述测试图形进行模拟，以获取两个所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值；以及，/n将所述辅助图形未被显影的所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值设置为光强阈值。/n

【技术特征摘要】
1.一种光强阈值的获取方法，其特征在于，包括：
在测试光罩上设置测试图形组，所述测试图形组包括至少两个测试图形，每个所述测试图形包括主图形以及设置在所述主图形周围的辅助图形，且同一测试图形组中的测试图形内的主图形宽度逐渐增大或者减小；
利用所述测试光罩进行晶圆的光刻，并检测每个所述测试图形在晶圆上的显影情况；
筛选出所述辅助图形被显影的所述测试图形和与其相邻的所述辅助图形未被显影的所述测试图形；
对筛选出的所述辅助图形被显影的所述测试图形和所述辅助图形未被显影的所述测试图形进行模拟，以获取两个所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值；以及，
将所述辅助图形未被显影的所述测试图形内的所述辅助图形处的最大光强值设置为光强阈值。


2.如权利要求1所述的光强阈值的获取方法，其特征在于，对筛选出的所述辅助图形未被显影的所述测试图形和所述辅助图形被显影的所述测试图形进行模拟，以获取两个所述测试图形的光强分布图，并从所述光强分布图中获取所述测试图形内的辅助图形处的最大光强值。


3.如权利要求1所述的光强阈值的获取方法，其特征在于，所述最大光强值随所述主图形的宽度的增加而增大。


4.如权利要求1所述的光强阈值的获取方法，其特征在于，通过关键尺寸扫描电子显微镜检测每个所述测试图形在晶圆上的显影情况。


5.如权利要求1所述的光强阈值的获取方法，其特征在于，每个所述测试图形包括至少两个...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏来，罗招龙，李可玉，朱安康，林建佑，
申请(专利权)人：南京晶驱集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32