辅助图形的添加方法、装置及测试版图制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种辅助图形的添加方法、装置及测试版图，应用于半导体技术领域。在本发明专利技术提供的辅助图形的添加方法中，首先通过确定相邻两个错位排布的的主图形的外围区域形成的拐角区域，然后，再在拐角区域中识别出需要添加本发明专利技术提供的L型辅助图形的待处理拐角区域，并在该待处理的拐角区域中添加L型辅助图形，从而避免了现有技术中由于需要对该拐角区域中的每个主图形均添加辅助图形，而导致添加的多个辅助图形存在冲突，进而导致主图工艺窗口低的问题。因此，本发明专利技术提供的辅助图形的添加方法提高了版图的光刻工艺窗口，提升了OPC修正过程中的准确度，并有效提升了产品良率。并有效提升了产品良率。并有效提升了产品良率。

【技术实现步骤摘要】
辅助图形的添加方法、装置及测试版图


[0001]本专利技术涉及半导体
，特别涉及一种辅助图形的添加方法、装置及测试版图。

技术介绍

[0002]随着半导体行业的发展，人们对芯片的性能与能耗要求越来越苛刻，要想获得更小面积、更高性能以及更低能耗的芯片，就需要进一步减小芯片上各图形大小及各图形之间的间距，间距的降低会导致版图上的某些图形之间的设计距离小于光波长度。因此需要在版图刻印在掩模版上之前对版图进行修正，防止在光刻过程中产生光学邻近效应 (Optical Proximity Effect，OPE)，避免刻印在芯片上的图形与设计不一致而产生图形失真。
[0003]为了避免光学邻近效应而对版图进行修正的技术为光学邻近修正 (Optical ProximityCorrection，OPC)技术。亚分辨率辅助图形(Sub
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resolutionAssist Feature， SRAF)是一种被较多采用的OPC方式。具体的，在集成电路设计版图中的稀疏图形周围添加一些细小的图形，使稀疏图形在光学角度上看像密集图形，这些细小图形必须小于光刻机分辨率，曝光时，这些图形只对光线其散射作用，而不会被转移到光刻胶上，因此被称之为亚分辨率辅助图形SRAF或散射条（Scattering Bar）。SRAF技术通过在版图的主图形附近添加亚分辨率辅助图形，使得孤立图形和稀疏图形也具有密集图形的特性，从而改善光强分布，提高成像质量。由于亚分辨率辅助图形的线宽较小，亚分辨率辅助图形处衍射光线的光强值小于基底(如硅片)上的光刻胶感光阈值，所以亚分辨率辅助图形不能成像，在版图中添加亚分辨率辅助图形后，可以在基底上形成原有线条的图形。通过SRAF技术对版图进行修正，可以有效提高光刻工艺的图形分辨率，增大工艺窗口，提高产品良率。
[0004]目前，辅助图形的添加方法有基于规则的添加方法、基于模型的添加方法、基于反向光刻计算的添加方法等。其中，基于规则添加的辅助图形会有一些束缚条件，从而导致部分主图形外围添加的辅助图形分布不合理，导致版图光刻工艺窗口过低，从而影响整个芯片的良率。例如，对于包含多个均为主图形为正四边形的版图，现有的基于规则添加辅助图形的添加方法是在相邻两个主图形的任意两条边之间均添加至少一个宽度和位置为定值的辅助图形。
[0005]然而，由于版图中相邻两个主图形之间的外围区域可能构成某种特殊形状的结构区域，如，拐角区域、扇形区域等，因此，若按照现有的基于规则的辅助图形添加方法，则在此类特殊区域中针对多个主图形添加的这些亚分辨率辅助图形相互之间具有交集，容易产生冲突且无法被简单的合并。针对此问题，现有的做法是根据一定的调整规则，将所述特殊区域中的部分辅助图形删除。但是，现有简单的删除所述特殊区域中的部分辅助图形，会导致该区域中辅助图形添加的不完整，从而降低了主图形以及版图的光刻工艺窗口，影响了产品良率。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种辅助图形的添加方法、装置及测试版图，以提高版图的工艺窗口，增加产品的稳定性。
[0007]第一方面，为解决上述技术问题，本专利技术提供一种辅助图形的添加方法，包括：确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且所述测试版图中相邻的至少两个所述主图形错位排布，以形成相应的拐角区域；从所述测试版图的所有拐角区域中识别出需要添加第一辅助图形的拐角区域，作为待处理拐角区域；在每一所述待处理拐角区域中添加呈L型的第一辅助图形，且所述第一辅助图形添加后，能使得形成所述待处理拐角区域的各个所述主图形的模拟光刻工艺窗口均达到预设目标值。
[0008]可选的，所述辅助图形的添加方法还可以包括：在所述确定预制作版图对应的测试版图之后且在确定所述测试版图中需要添加辅助图形的所有所述拐角区域之前， 先按照预设的辅助图形添加规则，在所述测试版图中相应的所述主图形的外围添加呈直线型或者光栅型的第二辅助图形；从所述测试版图的所有拐角区域中识别出第二辅助图形添加不完整的拐角区域，作为需要添加第一辅助图形的拐角区域，以获得所述待处理拐角区域；以及，在每一所述待处理拐角区域中，将不完整的所述第二辅助图形替换为所述第一辅助图形，以在每一所述待处理拐角区域中添加呈L型的第一辅助图形。
[0009]可选的，针对每一所述待处理拐角区域，添加的所述第一辅助图形各处的线宽均大于相应的完整的所述第二辅助图形的线宽，且所述第一辅助图形到形成所述待处理拐角区域的各个所述主图形距离，等于或者小于所述待处理拐角区域中原先的不完整的所述第二辅助图形到形成所述待处理拐角区域的各个所述主图形的距离。
[0010]可选的，每一所述待处理拐角区域中添加的所述第一辅助图形到形成所述待处理拐角区域的各个所述主图形距离可以均相同。
[0011]可选的，在每一所述待处理拐角区域中添加呈L型的第一辅助图形的步骤可以包括：在每一所述待处理拐角区域中添加具有初始宽度的第一辅助图形；判断添加完具有所述初始宽度的第一辅助图形后，形成每一所述待处理拐角区域的各所述主图形的模拟光刻工艺窗口是否均能达到预设目标值，并判断添加的每一所述第一辅助图形是否有曝光风险；若形成某一所述待处理拐角区域的任一所述主图形的模拟光刻工艺窗口不满足预设目标值和/或在所述待处理拐角区域添加的所述第一辅助图形有曝光风险，则增大或减小在所述待处理拐角区域添加的所述第一辅助图形的宽度，直至形成所述待处理拐角区域的各所述主图形的模拟光刻工艺窗口均满足预设目标值且在所述待处理拐角区域添加的所述第一辅助图形没有曝光风险。
[0012]第二方面，基于如上所述的辅助图形的添加方法，本专利技术还提供了一种辅助图形的添加装置，包括：测试版图确定模块，用于确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多
个主图形，且所述测试版图中相邻的至少两个所述主图形错位排布，以形成相应的拐角区域；第一待处理拐角区域确定模块，用于从所述测试版图的所有拐角区域中识别出需要添加第一辅助图形的拐角区域，作为待处理拐角区域；第一辅助图形添加模块，用于在每一所述待处理拐角区域中添加呈L型的第一辅助图形，且所述第一辅助图形添加后，能使得形成所述待处理拐角区域的各个所述主图形的模拟光刻工艺窗口均达到预设目标值。
[0013]可选的，所述添加装置还可以包括：第二辅助图形添加模块， 用于在所述确定预制作版图对应的测试版图之后且在确定所述测试版图中需要添加辅助图形的所有所述拐角区域之前， 先按照预设的辅助图形添加规则，在所述测试版图中相应的所述主图形的外围添加呈直线型或者光栅型的第二辅助图形；第二待处理拐角区域确定模块，用于从所述测试版图的所有拐角区域中识别出第二辅助图形添加不完整的拐角区域，作为需要添加第一辅助图形的拐角区域，以获得所述待处理拐角区域；以及，在每一所述待处理拐角区域中，将不完整的所述第二辅助图形替换为所述第一辅助图形，以在每一所述待处理拐角区域中添加呈L型的第一辅助图形。
[0014]可选的，所述第一辅助图形添加模块，可以包括：第一添加单元本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种辅助图形的添加方法，其特征在于，包括：确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且所述测试版图中相邻的至少两个所述主图形错位排布，以形成相应的拐角区域；从所述测试版图的所有拐角区域中识别出需要添加第一辅助图形的拐角区域，作为待处理拐角区域；在每一所述待处理拐角区域中添加呈L型的第一辅助图形，且所述第一辅助图形添加后，能使得形成所述待处理拐角区域的各个所述主图形的模拟光刻工艺窗口均达到预设目标值。2.如权利要求1所述的添加方法，其特征在于，还包括：在所述确定预制作版图对应的测试版图之后且在确定所述测试版图中需要添加辅助图形的所有所述拐角区域之前， 先按照预设的辅助图形添加规则，在所述测试版图中相应的所述主图形的外围添加呈直线型或者光栅型的第二辅助图形；从所述测试版图的所有拐角区域中识别出第二辅助图形添加不完整的拐角区域，作为需要添加第一辅助图形的拐角区域，以获得所述待处理拐角区域；以及，在每一所述待处理拐角区域中，将不完整的所述第二辅助图形替换为所述第一辅助图形，以在每一所述待处理拐角区域中添加呈L型的第一辅助图形。3.如权利要求2所述的添加方法，其特征在于，针对每一所述待处理拐角区域，添加的所述第一辅助图形各处的线宽均大于相应的完整的所述第二辅助图形的线宽，且所述第一辅助图形到形成所述待处理拐角区域的各个所述主图形距离，等于或者小于所述待处理拐角区域中原先的不完整的所述第二辅助图形到形成所述待处理拐角区域的各个所述主图形的距离。4.如权利要求3所述的添加方法，其特征在于，每一所述待处理拐角区域中添加的所述第一辅助图形到形成所述待处理拐角区域的各个所述主图形距离均相同。5.如权利要求1~4中任一项所述的添加方法，其特征在于，在每一所述待处理拐角区域中添加呈L型的第一辅助图形的步骤包括：在每一所述待处理拐角区域中添加具有初始宽度的第一辅助图形；判断添加完具有所述初始宽度的第一辅助图形后，形成每一所述待处理拐角区域的各所述主图形的模拟光刻工艺窗口是否均能达到预设目标值，并判断添加的每一所述第一辅助图形是否有曝光风险；若形成某一所述待处理拐角区域的任一所述主图形的模拟光刻工艺窗口不满足预设目标值和/或在所述待处理拐角区域添加的所述第一辅助图形有曝光风险，则增大或减小在所述待处理拐角区域添加的所述第一辅助图形的宽度，直至形成所述待处理拐角区域的各所述主图形的模拟光刻工艺窗口均满足预设目标值且在所述待处理拐角区域添加的所述第一辅助图形没有曝光风险。6.一种辅助图形的添加装置，其特征在于，包括：测试版图确定模块，用于确定预制作版图对应的测试版图，所述测试版图具有多个主图形，且所述测试版图中相邻的至...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵广，罗招龙，王康，
申请(专利权)人：南京晶驱集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：