一种版图边界图案的修正方法与修正系统技术方案

技术编号:26530215 阅读:25 留言:0更新日期:2020-12-01 14:08
本发明专利技术提出一种版图边界图案的修正方法与修正系统,包括:预设一版图参数,其中,所述版图参数包括图案尺寸的模拟目标值;进行划分步骤,将版图划分成多个子版图;对任一所述子版图的边界图案进行修正,并记录修正次数,以获得所述图案尺寸的模拟实际值;判断所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值是否处于阈值内;若是,则根据所述修正次数,对其他所述子版图的边界图案进行修正;若否,则建立修正曲线,并根据所述修正曲线选择修正次数区间,并根据所述修正次数区间内的修正次数对所述子版图的边界图案再次进行修正。本发明专利技术提出的版图边界图案的修正方法可以提高修正效率。

【技术实现步骤摘要】
一种版图边界图案的修正方法与修正系统
本专利技术涉及半导体
,特别涉及一种版图边界图案的修正方法与修正系统。
技术介绍
随着集成电路的持续发展,制造技术不断地朝更小的尺寸发展,光刻制程已经成为限制集成电路向更小特征尺寸发展的主要瓶颈。在深亚微米的半导体制造过程中,特征尺寸已经远远小于光源的波长,由于光波的性质和实际投影曝光系统的问题,会有衍射受限或者成像系统的非线性滤波造成严重的能量损失,即光学近似效应(OpticalProximityEffect,OPE),从而不可避免的就会导致在将掩模版上的图案转移到晶圆的过程中会发生失真现象,如拐角圆化、线端缩进、线宽不一致或者纹波等,如果不消除这种失真现象将会导致晶圆上的图像变形为了补偿OPE产生的影响,设计者需要根据一定的规则,在设计目标图形的基础上直接进行修改之后再进行掩模版的制版工作。这个修正过程称为光刻邻近效应修正(OpticalProximityCorrection,OPC),例如将线尾修改成锤头(hammerhead)之类的图形等。OPC处理之后的图形再经过OPE的影响,会在晶圆上形成与原本设计的目标图形接近的图形,即达到OPC的设计目标,将光刻后的光刻图形尽可能的接近用户实际希望得到的目标图形。在OPC处理中,版图的边界的图案的模拟值的变化范围大,不稳定,因此导致显影之后的图案的误差大,严重影响芯片的性能。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的缺陷,本专利技术提出一种版图边界图案的修正方法与修正系统,该修正方法可以保证版图边界图案在修正过程中的变化范围变小,趋于稳定。为实现上述目的及其他目的,本专利技术提出一种版图边界图案的修正方法,包括:预设一版图参数,其中,所述版图参数包括图案尺寸的模拟目标值;进行划分步骤,将版图划分成多个子版图;对任一所述子版图的边界图案进行修正,并记录修正次数,以获得所述图案尺寸的模拟实际值;判断所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值是否处于阈值内;若是,则根据所述修正次数,对其他所述子版图的边界图案进行修正;若否,则建立修正曲线,并根据所述修正曲线选择修正次数区间,并根据所述修正次数区间内的修正次数对所述子版图的边界图案再次进行修正,以使所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值在所述阈值内。进一步地,还包括根据所述图案尺寸的模拟实际值在晶圆上模拟曝光、显影步骤,以在所述晶圆上获得模拟的图案尺寸。进一步地,所述图案尺寸的模拟实际值大于或小于所述图案尺寸的模拟目标值。进一步地,所述版图参数还包括多条切割线参数,根据所述切割线参数进行所述划分步骤。进一步地,所述修正曲线为表示修正次数与模拟误差的曲线;其中,所述模拟误差表示所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值。进一步地,当所述修正曲线中包括第一修正次数区间和第二修正次数区间时,则根据顺序关系选择所述第一修正次数区间或所述第二修正次数区间。进一步地,当选择所述第一修正次数区间或所述第二修正次数区间时,所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值小于所述阈值,且修正后的图案尺寸满足版图设计规则。进一步地,所述第一修正次数区间的区间长度与所述第二修正次数区间的区间长度相同或不同。进一步地,在对所述子版图的边界图案进行修正的同时,对所述子版图的中心图案进行修正。进一步地,本专利技术还提出一种一种版图边界图案的修正系统,其特征在于,包括:参数预设单元,用于设计版图参数,所述版图参数包括图案尺寸的模拟目标值;划分单元,用于将版图划分成多个子版图;修正单元,用于对任一所述子版图的边界图案进行修正,并记录修正次数,以获得所述图案尺寸的模拟实际值;判断单元,用于判断所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值是否处于阈值内;若是,则根据所述修正次数,对其他所述子版图的边界图案进行修正;若否,则建立修正曲线,并根据所述修正曲线选择修正次数区间,并根据所述修正次数区间内的修正次数对所述子版图的边界图案再次进行修正,以使所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值在所述阈值内。综上所述,本专利技术提出一种版图边界图案的修正方法与修正系统,首先预设图案尺寸的模拟目标值,然后将版图划分成多个子版图,然后对任一个子版图的边界图案进行修正,在修正之后,如果图案尺寸的模拟实际值与图案尺寸的模拟目标值的差值大于阈值,则建立修正曲线,并从修正曲线中选择出修正次数区间,然后根据修正次数区间内的修正次数再次对子版图的边界的图案进行修正,以使得图案尺寸的模拟实际值与图案尺寸的模拟目标值的差值小于阈值,从而实现子版图的边界图案的图案尺寸趋于稳定,并向模拟目标值收敛。本专利技术提出的修正方法还可以对子版图的中心图案进行修正,从而可以减小中心图案和边界图案的修正差异性。本专利技术先对一个子版图的图案进行修正,然后根据修正结果再对其他子版图的图案进行修正,从而可以提高工作效率。本专利技术还可以根据先后顺序关系选择修正次数区间,以减少修正次数,提高工作效率。附图说明图1:本实施例提出的版图边界图案的修正系统示意图。图2:本实施例提出的版图边界图案的修正方法流程图。图3:步骤S1获得的版图示意图。图4:图3中图案的放大图。图5:步骤S2获得的子版图的示意图。图6:步骤S3获得的图案的模拟示意图。图7:子版图边界图案的修正曲线图。图8:子版图边界图案的另一修正曲线图。图9:版图中心图案的修正曲线图。图10:版图边界图案的修正曲线图。符号说明10:修正系统;11:参数预设单元;12:划分单元;13:修正单元;14:判断单元;100:版图;100a:子版图;101:图案;102:切割线;104:第一修正次数区间;105:第二修正次数区间;106:第三修正次数区间;107:第四修正次数区间;R:图案尺寸的模拟目标值;L:图案尺寸的模拟实际值。具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。需要说明的是,本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本专利技术的基本构想,遂图式中仅显示与本专利技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。如图1所示,本实施例提出一种版图边界图案的修正系统10,该修正系统10可以包括参数预设单元11,划分单元12,修正单元13和判断单元14。该参数预设单元11可以用于设计版图参数,版图参数例如包括图案尺寸的模拟目标值,当然,也可以包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种版图边界图案的修正方法,其特征在于,包括:/n预设一版图参数,其中,所述版图参数包括图案尺寸的模拟目标值;/n进行划分步骤,将版图划分成多个子版图;/n对任一所述子版图的边界图案进行修正,并记录修正次数,以获得所述图案尺寸的模拟实际值;/n判断所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值是否处于阈值内;/n若是,则根据所述修正次数,对其他所述子版图的边界图案进行修正;/n若否,则建立修正曲线,并根据所述修正曲线选择修正次数区间,并根据所述修正次数区间内的修正次数对所述子版图的边界图案再次进行修正,以使所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值在所述阈值内。/n

【技术特征摘要】
1.一种版图边界图案的修正方法,其特征在于,包括:
预设一版图参数,其中,所述版图参数包括图案尺寸的模拟目标值;
进行划分步骤,将版图划分成多个子版图;
对任一所述子版图的边界图案进行修正,并记录修正次数,以获得所述图案尺寸的模拟实际值;
判断所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值是否处于阈值内;
若是,则根据所述修正次数,对其他所述子版图的边界图案进行修正;
若否,则建立修正曲线,并根据所述修正曲线选择修正次数区间,并根据所述修正次数区间内的修正次数对所述子版图的边界图案再次进行修正,以使所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值在所述阈值内。


2.根据权利要求1所述的修正方法,其特征在于,还包括根据所述图案尺寸的模拟实际值在晶圆上模拟曝光、显影步骤,以在所述晶圆上获得模拟的图案尺寸。


3.根据权利要求1所述的修正方法,其特征在于,所述图案尺寸的模拟实际值大于或小于所述图案尺寸的模拟目标值。


4.根据权利要求1所述的修正方法,其特征在于,所述版图参数还包括多条切割线参数,根据所述切割线参数进行所述划分步骤。


5.根据权利要求1所述的修正方法,其特征在于,所述修正曲线为表示修正次数与模拟误差的曲线;其中,所述模拟误差表示所述图案尺寸的模拟实际值与所述图案尺寸的模拟目标值的差值。


6.根据权利要求1所述的修正方法,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵广罗招龙朱安康魏来
申请(专利权)人:南京晶驱集成电路有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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