一种亚分辨率辅助图形的获取方法技术

本发明专利技术公开一种亚分辨率辅助图形的获取方法，其至少包括以下步骤：提供一集成电路版图，所述集成电路版图包括多个第一图形及第一亚分辨率辅助图形；对所述第一图形进行光学邻近修正，获得多个第二图形；将所述第一亚分辨率辅助图形沿垂直于所述第二图形的方向分割为多个子图形，获得第二亚分辨率辅助图形，其中相邻所述子图形间设有第一距离；将所述子图形向所述第二图形移动第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的最小边缘位置放置误差；通过所述最小边缘位置放置误差，获得最优第二亚分辨率辅助图形。本发明专利技术解决了亚分辨率辅助图形易被曝光显影到基底上，从而降低产品良率的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种亚分辨率辅助图形的获取方法
本专利技术属于半导体
，特别是涉及一种亚分辨率辅助图形的获取方法。
技术介绍
随着半导体行业的发展，人们对芯片的性能与能耗要求越来越苛刻，要想获得更小面积、更高性能以及更低能耗的芯片，就需要进一步减小芯片上各图形大小及各图形之间的间距，间距的降低会导致版图上的某些图形之间的设计距离小于光波长度。因此需要在版图刻印在掩模版上之前对版图进行修正，防止在光刻过程中产生光学邻近效应(OpticalProximityEffect，OPE)，避免刻印在芯片上的图形与设计不一致而产生图形失真。为了避免光学邻近效应而对版图进行修正的技术为光学邻近修正(OpticalProximityCorrection，OPC)技术。亚分辨率辅助图形(Sub-resolutionAssistFeature，SRAF)是一种被较多采用的光学邻近修正方式。通过亚分辨率辅助图形技术对版图进行修正，可以有效提高光刻工艺的图形分辨率，增大工艺窗口，提高产品良率。基于添加规则在主图形上添加的亚分辨率辅助图形，经过光学邻近修正后，亚分辨率辅助图形与修正后主图形之间的距离过小，导致亚分辨率辅助图形易被曝光显影到基底上，从而降低产品良率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种亚分辨率辅助图形的获取方法，解决了光学邻近修正后，亚分辨率辅助图形与修正后主图形之间的距离过小，导致亚分辨率辅助图形易被曝光显影到基底上，从而降低产品良率的问题。为解决上述技术问题，本专利技术是通过以下技术方案实现的：本专利技术提供一种亚分辨率辅助图形的获取方法，其至少包括以下步骤：提供一集成电路版图，所述集成电路版图包括多个第一图形及第一亚分辨率辅助图形；所述多个第一亚分辨率辅助图形布置在所述多个第一图形外围，所述第一亚分辨率辅助图形与所述第一图形之间具有一最小间距；对所述第一图形进行光学邻近修正，获得多个第二图形；将所述第一亚分辨率辅助图形沿垂直于所述第二图形的方向分割为多个子图形，获得第二亚分辨率辅助图形，其中相邻所述子图形间设有第一距离；将所述子图形向所述第二图形移动第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的边缘位置放置误差；调整所述第一距离和所述第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的最小边缘位置放置误差；通过所述最小边缘位置放置误差，获得最优第二亚分辨率辅助图形。在本专利技术的一个实施例中，所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形在水平方向上存在第一误差，所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形在垂直方向上存在第二误差。在本专利技术的一个实施例中，所述第二亚分辨率辅助图形包括两个子图形。在本专利技术的一个实施例中，所述第一亚分辨率辅助图形为长方形，所述子图形为沿所述第一亚分辨率辅助图形的长边进行分割。在本专利技术的一个实施例中，所述第一距离的调整范围为0至第一亚分辨率辅助图形的长边的长度。在本专利技术的一个实施例中，所述第一距离的调整间隔为0至第一亚分辨率辅助图形的长边的长度。在本专利技术的一个实施例中，所述第二距离的调整范围为0至所述第一亚分辨率辅助图形距第二图形的距离。在本专利技术的一个实施例中，所述第二距离的调整间隔为0至所述第一亚分辨率辅助图形距第二图形的距离。在本专利技术的一个实施例中，依据所述第一距离和所述第二距离，获取所述第一误差和所述第二误差。在本专利技术的一个实施例中，依据所述第一误差和所述第二误差的均方根，获得最小边缘位置放置误差。本专利技术通过将邻近待修正图形即第一图形的整个第一亚分辨率辅助图形分割成中间设有间隙的多段，由于间隙的存在从而解决了光学邻近修正后，亚分辨率辅助图形与修正后主图形之间的距离过小，导致亚分辨率辅助图形易被曝光显影到基底上，从而降低产品良率的问题。当然，实施本专利技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术一种亚分辨率辅助图形的获取方法的方法流程图；图2为图1中对应步骤S1的结构示意图；图3为图1中对应步骤S2的结构示意图；图4为图1中对应步骤S2的结构示意图；图5为图1中对应步骤S3的结构示意图；图6为图1中对应步骤S4的结构示意图；图7为图1中对应步骤S5的结构示意图；图8为本专利技术一实施例中对应步骤S1的结构示意图；图9为本专利技术一实施例中对应步骤S2的结构示意图；图10为本专利技术另一实施例中对应步骤S1的结构示意图；图11为本专利技术另一实施例中对应步骤S2的结构示意图；具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。基于规则添加在主图形上添加的亚分辨率辅助图形，例如55nm-90nm基于规则的亚分辨率辅助图形的添加，在经过光学邻近修正后，由于亚分辨率辅助图形与修正后主图形之间的距离过小，导致亚分辨率辅助图形被曝光显影到例如晶圆上，这是由于光的强度叠加，散射体距离目标图形越近，越容易被曝光显影到晶圆上，从而降低产品良率。请参阅图1，本专利技术提供一种亚分辨率辅助图形的获取方法，其至少包括以下步骤：S1.提供一集成电路版图，所述集成电路版图包括多个第一图形及第一亚分辨率辅助图形；所述多个第一亚分辨率辅助图形布置在所述多个第一图形外围，所述第一亚分辨率辅助图形与所述第一图形之间具有一最小间距；S2.对所述第一图形进行光学邻近修正，获得多个第二图形；S3.将所述第一亚分辨率辅助图形沿垂直于所述第二图形的方向分割为多个子图形，获得第二亚分辨率辅助图形，其中相邻所述子图形间设有第一距离；S4.将所述子图形向所述第二图形移动第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的边缘位置放置误差；S5.调整所述第一距离和所述第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的最小边缘位置放置误差；S6.通过所述最小边缘位置放置误差，获得最优第二亚分辨率辅助图形。请参阅图2至图4，在步骤S1和步骤S2中，首先提供一集成电路版图1，所述集成电路版图1包括多个第一图形10及第一亚分辨率辅助图形20，所述多个第一亚分辨率辅助图形20布置在所述多个第一图形10外围，所述第一亚分辨率辅助图形20与所述第一图形10之间具有一最小间距。所述第二图形50为进行过基于模型的光学邻近修正后本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种亚分辨率辅助图形的获取方法，其特征在于，其至少包括以下步骤：/n提供一集成电路版图，所述集成电路版图包括多个第一图形及第一亚分辨率辅助图形；所述多个第一亚分辨率辅助图形布置在所述多个第一图形外围，所述第一亚分辨率辅助图形与所述第一图形之间具有一最小间距；/n对所述第一图形进行光学邻近修正，获得多个第二图形；/n将所述第一亚分辨率辅助图形沿垂直于所述第二图形的方向分割为多个子图形，获得第二亚分辨率辅助图形，其中相邻所述子图形间设有第一距离；/n将所述子图形向所述第二图形移动第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的边缘位置放置误差；/n调整所述第一距离和所述第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的最小边缘位置放置误差；/n通过所述最小边缘位置放置误差，获得最优第二亚分辨率辅助图形。/n

【技术特征摘要】
1.一种亚分辨率辅助图形的获取方法，其特征在于，其至少包括以下步骤：
提供一集成电路版图，所述集成电路版图包括多个第一图形及第一亚分辨率辅助图形；所述多个第一亚分辨率辅助图形布置在所述多个第一图形外围，所述第一亚分辨率辅助图形与所述第一图形之间具有一最小间距；
对所述第一图形进行光学邻近修正，获得多个第二图形；
将所述第一亚分辨率辅助图形沿垂直于所述第二图形的方向分割为多个子图形，获得第二亚分辨率辅助图形，其中相邻所述子图形间设有第一距离；
将所述子图形向所述第二图形移动第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的边缘位置放置误差；
调整所述第一距离和所述第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的最小边缘位置放置误差；
通过所述最小边缘位置放置误差，获得最优第二亚分辨率辅助图形。


2.根据权利要求1所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法，其特征在于，所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形在水平方向上存在第一误差，所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形在垂直方向上存在第二误差。


3.根据权利要求1所述一种亚分辨率辅助图形的获取方法，其特征在于，所述第二亚分辨率辅助图形...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵广，罗招龙，朱安康，刘秀梅，王康，
申请(专利权)人：南京晶驱集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32