像素图形的预处理方法技术

本发明专利技术提供了一种像素图形的预处理方法，包括：输入像素图形的待测试版图；判断待测试版图的斜边是否有凸起；如果待测试版图的斜边有凸起，则对待测试版图进行放大和缩小处理，以去除斜边的凸起。本发明专利技术提供的像素图形的预处理方法中，在对待测试版图进行OPC处理之前，先判断待测试版图的斜边是否具有凸起，如果有凸起就消除凸起，不会使得OPC处理异常，进而使得OPC处理后的图形达标。

【技术实现步骤摘要】
像素图形的预处理方法
本专利技术涉及半导体
，尤其是涉及一种像素图形的预处理方法。
技术介绍
在IC工艺制造过程中，重复性排列的像素图形，担负着重要角色，但是在OPC出版过程中，常常会发现一些不友好的设计，Pixel图形的斜边存在缺口，会造成OPC修正异常，达不到其工业要求，致使良率降低。如图1所示，图1为输入的版图图形100，也是一个Pixel图形，可以看出，从输入的版图图形100的形状可以看出，输入的版图图形100具有多个斜边110。发现斜边110可能存在较小的凸起111，例如，图2。在对输入的版图图形100进行OPC处理时，得到OPC处理后的图形200，如图3，图3为OPC处理后的图形，发现OPC处理后的图形200中，与输入的版图图形的斜边110对应的OPC处理后的图形斜边210上具有台阶211，这种图形达不到修正的要求。所以，可以得知，如果输入的版图图形某一斜边具有凸起，这种凸起111会对OPC处理后的图形造成修正异常，达不到OPC修正的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种像素图形的预处理方法，可以修复像素图形的斜边的凸起，使得斜边平滑，最终使得像素图形的OPC处理无异常。为了达到上述目的，本专利技术提供了一种像素图形的预处理方法，用于在对像素图形的版图进行OPC处理前，去除版图图形斜边的凸起，包括：输入像素图形的待测试版图；判断待测试版图的斜边是否有凸起；如果待测试版图的斜边有凸起，则对待测试版图进行放大和缩小处理，以去除斜边的凸起。<br>可选的，在所述的像素图形的预处理方法中，所述待测试版图为具有斜边的多边形图形。可选的，在所述的像素图形的预处理方法中，判断待测试版图的斜边是否有凸起的方法包括：对待测试版图划分为多个栅格；对每个所述栅格内的图形与目标图像进行比较；如果与目标图形不一致并且不一致的图形小于5nm则认为不一致的图形为凸起。可选的，在所述的像素图形的预处理方法中，如果待测试版图的斜边没有凸起，则对所述版图图形进行OPC处理。可选的，在所述的像素图形的预处理方法中，对待测试版图进行放大和缩小处理，以去除斜边的凸起之后，所述像素图形的预处理方法还包括：对版图图形进行OPC处理。可选的，在所述的像素图形的预处理方法中，对待测试版图进行放大和缩小处理，以去除斜边的凸起的方法包括：计算放大处理和缩小处理的缩放系数；根据放大倍数的值对待测试版图进行放大处理；根据缩小倍数对放大后的待测试版图进行缩小处理。可选的，在所述的像素图形的预处理方法中，计算放大处理和缩小处理的缩放系数的方法包括：从斜边有凸起的待测试版图中选一样品；对所述样品图形进行预放大处理，直到凸起被消除，得到预放大图形；计算预放大图形斜边与样品图形的斜边的中点的夹角；利用预放大图形斜边的长度和所述夹角计算得到预放大处理的缩放系数；对所述预放大处理的缩放系数取整，并对取整后的预放大处理的缩放系数以每加一次版图精度的值的方法以得到至少一个备选缩放系数；以备选缩放系数和取整后的预放大处理的缩放系数分别对样品进行放大处理得到至少一个放大处理后的图形，从至少一个放大处理后的图形中选取一个去凸起效果最优的图形，其对应的备选缩放系数或者取整后的预放大处理的缩放系数作为缩放系数。可选的，在所述的像素图形的预处理方法中，利用预放大图形斜边的长度和所述夹角计算预放大处理的缩放系数的方法包括：其中：h为预放大图形斜边的长度，θ为预放大图形斜边与样品图形的斜边的中点的夹角，ε为预放大处理的缩放系数。可选的，在所述的像素图形的预处理方法中，所述备选缩放系数的最大值为取整后的预放大处理缩放系数再加1的值。可选的，在所述的像素图形的预处理方法中，所述版图精度的值为0.01nm～1nm。本专利技术提供的像素图形的预处理方法中，待测试版图为像素图像，在对待测试版图进行OPC处理之前，先判断待测试版图的斜边是否具有凸起，如果有凸起就消除凸起，不会使得OPC处理异常，进而使得OPC处理后的图形达标。附图说明图1和图2为现有技术输入的版图图形；图3是现有技术的OPC处理后的图形；图4是本专利技术实施例的像素图形的预处理方法的流程图；图5和图6是本专利技术实施例的待测试版图图形；图7是本专利技术实施例的预放大处理的缩放系数的计算方法的示意图；图中：100-输入的版图图形、110-斜边、111-凸起、200-OPC处理后的图形、210-OPC处理后的图形斜边、211-台阶、300-待测试版图、310-斜边、311-凸起、400-样品、410-样品图形的斜边、411-中点、500-预放大图形、510-预放大图形斜边。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。在下文中，术语“第一”“第二”等用于在类似要素之间进行区分，且未必是用于描述特定次序或时间顺序。要理解，在适当情况下，如此使用的这些术语可替换。类似的，如果本文所述的方法包括一系列步骤，且本文所呈现的这些步骤的顺序并非必须是可执行这些步骤的唯一顺序，且一些所述的步骤可被省略和/或一些本文未描述的其他步骤可被添加到该方法。请参照图4，本专利技术提供了一种像素图形的预处理方法，用于在对像素图形的版图进行OPC处理前，去除版图图形斜边的凸起，包括：S11：输入像素图形的待测试版图；S12：判断待测试版图的斜边是否有凸起；S13：如果待测试版图的斜边有凸起，则对待测试版图进行放大和缩小处理，以去除斜边的凸起。本专利技术实施例中，所述待测试版图为具有斜边的多边形图形。如图5，待测试版图300具有多个斜边310，例如，本专利技术实施例有8条斜边310，在本专利技术的其他实施例中，可能有其他数量的斜边。参照图6，其中一条斜边310上具有凸起311，本专利技术实施例的目的就是在OPC处理前将凸起311去除。进一步的，判断待测试版图的斜边是否有凸起的方法包括：对待测试版图划分为多个栅格；对每个所述栅格内的图形与目标图像进行比较；如果与目标图形不一致并且不一致的图形小于5nm则认为不一致的图形为凸起。首先将待测试版图划分为多个栅格，每一个栅格内就具有一部分待测试版图图形。与目标图形即斜边没有凸起的图形进行比对就可以发现待测试版图的斜边是否具有凸起，具体的比对方法可以是，将目标图形也栅格化，将目标图形和待测试版图的图形分别转化为灰度值，目标图形的每一个栅格和对应的待测试版图的栅格进行比对，如果某一个栅格内的某一处的灰度值不一致，则认为这一处的图形不一致，并且如果不一致的图形小于5nm，就认为这个图形是某一斜边的凸起。优选的，如果待测试版图的斜边没有凸起，则对所述版图图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种像素图形的预处理方法，用于在对像素图形的版图进行OPC处理前，去除版图图形斜边的凸起，其特征在于，包括：/n输入像素图形的待测试版图；/n判断待测试版图的斜边是否有凸起；/n如果待测试版图的斜边有凸起，则对待测试版图进行放大和缩小处理，以去除斜边的凸起。/n

【技术特征摘要】
1.一种像素图形的预处理方法，用于在对像素图形的版图进行OPC处理前，去除版图图形斜边的凸起，其特征在于，包括：
输入像素图形的待测试版图；
判断待测试版图的斜边是否有凸起；
如果待测试版图的斜边有凸起，则对待测试版图进行放大和缩小处理，以去除斜边的凸起。


2.如权利要求1所述的像素图形的预处理方法，其特征在于，所述待测试版图为具有斜边的多边形图形。


3.如权利要求1所述的像素图形的预处理方法，其特征在于，判断待测试版图的斜边是否有凸起的方法包括：
对待测试版图划分为多个栅格；
对每个所述栅格内的图形与目标图像进行比较；
如果与目标图形不一致并且不一致的图形小于5nm则认为不一致的图形为凸起。


4.如权利要求1所述的像素图形的预处理方法，其特征在于，如果待测试版图的斜边没有凸起，则对所述版图图形进行OPC处理。


5.如权利要求1所述的像素图形的预处理方法，其特征在于，对待测试版图进行放大和缩小处理，以去除斜边的凸起之后，所述像素图形的预处理方法还包括：对版图图形进行OPC处理。


6.如权利要求1所述的像素图形的预处理方法，其特征在于，对待测试版图进行放大和缩小处理，以去除斜边的凸起的方法包括：
计算放大处理和缩小处理的缩放系数；
根据放大倍数的值对待测试版图进行放大处理；
根据缩小倍数对放大后的待测试版图进...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋康，陈翰，顾婷婷，张浩，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31