一种光学临近效应修正方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种光学临近效应修正方法及装置，该光学临近效应修正方法包括：获取待处理设计图形中的角对角特征；将所述角对角特征处的两条竖边在水平方向上背向移动预设距离，得到目标设计图形；对所述目标设计图形进行分段处理，控制点与分段点在同一条直线上。也就是说，在目标设计图形上再进行分段处理，这样在分段之前就改变了角对角特征处的尺寸，使得设计图形边缘进行上下移动时不再拘束于单一方向，可以向接近角的方向移动的同时满足掩膜制造最小尺寸的要求。

【技术实现步骤摘要】
一种光学临近效应修正方法及装置
本专利技术涉及工艺制造
，更具体地说，涉及一种光学临近效应修正方法及装置。
技术介绍
在基于模型的光学临近效应修正过程中，对设计图形的边缘进行分段、移动，并设置与分段对应的控制点，控制点与分段的段点在同一条线上，仿真计算出曝光在光刻胶上的曝光图形，该曝光图形会经过控制点，该曝光图形与设计图形之间的差别被称为边缘放置误差。通过对设计图形边缘的反复移动并对比仿真得到的曝光图形，可以得到较小的边缘放置误差，以及较好的修正质量。但是，目前基于有小尺寸和角对角特征处的光学临近效应修正方法，得到的修正质量较差，还是无法满足实际需求。
技术实现思路
有鉴于此，为解决上述问题，本专利技术提供一种光学临近效应修正方法及装置，技术方案如下：一种光学临近效应修正方法，所述光学临近效应修正方法包括：获取待处理设计图形中的角对角特征；将所述角对角特征处的两条竖边在水平方向上背向移动预设距离，得到目标设计图形；对所述目标设计图形进行分段处理，控制点与分段点在同一条直线本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学临近效应修正方法，其特征在于，所述光学临近效应修正方法包括：/n获取待处理设计图形中的角对角特征；/n将所述角对角特征处的两条竖边在水平方向上背向移动预设距离，得到目标设计图形；/n对所述目标设计图形进行分段处理，控制点与分段点在同一条直线上。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学临近效应修正方法，其特征在于，所述光学临近效应修正方法包括：
获取待处理设计图形中的角对角特征；
将所述角对角特征处的两条竖边在水平方向上背向移动预设距离，得到目标设计图形；
对所述目标设计图形进行分段处理，控制点与分段点在同一条直线上。


2.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述光学临近效应修正方法还包括：
将所述控制点移动到所述待处理设计图形中的竖边上。


3.根据权利要求1所述的光学临近效应修正方法，其特征在于，所述预设距离与所述角对角特征中角对角之间的距离相关。


4.一种光学临近效应...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔耀升，
申请(专利权)人：泉芯集成电路制造济南有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37