一种化学机械研磨机的清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种化学机械研磨机的清洗装置，包括：设置在研磨头边缘一侧的第一清洗部件，所述第一清洗部件用于清洗所述研磨头的边缘侧壁。即，该清洗装置可以清洗研磨头侧壁上的研磨液结晶或其它杂质，进一步完善了化学机械研磨机的清洗工作，避免了研磨液结晶脱落造成待加工部件研磨损坏的问题。造成待加工部件研磨损坏的问题。造成待加工部件研磨损坏的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种化学机械研磨机的清洗装置


[0001]本专利技术涉及半导体制程
，更具体地说，涉及一种化学机械研磨机的清洗装置。

技术介绍

[0002]在制作工艺领域中，单纯的化学研磨，表面精度较高，损伤低，完整性好，不容易出现表面/亚表面损伤，但是，其研磨速率较慢，材料去除效率较低，不能修正表面型面精度，研磨一致性比较差。单纯的机械研磨，研磨一致性好，表面平整度高，研磨效率高，但是容易出现表面/亚表面损伤，表面粗糙度值比较低。化学机械研磨综合了化学研磨和机械研磨的优势，可以在保证材料去除效率的同时，获得较完美的表面，得到的平整度比单纯使用化学研磨或机械研磨要高出1-2个数量级，并且可以实现纳米级到原子级的表面粗糙度。
[0003]但是，目前化学机械研磨机的清洗工作并不完善，无法将完全清洗研磨液结晶，当研磨液结晶脱落时，会使下一片待加工晶圆在研磨时产生刮伤的问题。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，为解决上述问题，本专利技术提供一种化学机械研磨机的清洗装置，技术方案如下：
[0005]一种化学机械研磨机的清洗装置，所述化学机械研磨机包括研磨头；所述清洗装置包括：
[0006]设置在所述研磨头边缘一侧的第一清洗部件，所述第一清洗部件用于清洗所述研磨头的边缘侧壁。
[0007]可选的，在上述清洗装置中，所述第一清洗部件为第一喷洗部件；
[0008]其中，所述第一喷洗部件用于排出清洗液。
[0009]可选的，在上述清洗装置中，所述第一喷洗部件包括：
[0010]基座；
[0011]设置在所述基座上的喷嘴；
[0012]其中，所述基座为可调节基座，用于在垂直于所述研磨头表面的方向上调节所述喷嘴的位置，以使喷射范围全覆盖所述研磨头的边缘侧壁，且不超过所述研磨头的上表面。
[0013]可选的，在上述清洗装置中，所述喷嘴为120
°
喷嘴。
[0014]可选的，在上述清洗装置中，所述第一喷洗部件的排量大于1L/min。
[0015]可选的，在上述清洗装置中，所述喷嘴与所述研磨头边缘侧壁之间的距离为4cm-6cm。
[0016]可选的，在上述清洗装置中，所述化学机械研磨机还包括圆环；
[0017]所述圆环位于所述研磨头下表面的一侧；
[0018]所述研磨头的下表面为研磨面；
[0019]所述圆环用于固定待加工部件。
[0020]可选的，在上述清洗装置中，所述清洗装置还包括：第二清洗部件；
[0021]所述第二清洗部件用于清洗所述圆环。
[0022]可选的，在上述清洗装置中，所述第二清洗部件为第二喷洗部件；
[0023]其中，所述第二喷洗部件用于排出清洗液。
[0024]可选的，在上述清洗装置中，所述清洗装置还包括：清扫部件；
[0025]所述清扫部件用于清扫所述圆环。
[0026]相较于现有技术，本专利技术实现的有益效果为：
[0027]本专利技术提供的一种化学机械研磨机的清洗装置，包括：设置在研磨头边缘一侧的第一清洗部件，所述第一清洗部件用于清洗所述研磨头的边缘侧壁。
[0028]即，该清洗装置可以清洗研磨头侧壁上的研磨液结晶或其它杂质，进一步完善了化学机械研磨机的清洗工作，避免了研磨液结晶脱落造成待加工部件研磨损坏的问题。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0030]图1为本专利技术实施例提供的一种化学机械研磨机的清洗装置的结构示意图。
具体实施方式
[0031]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0032]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。
[0033]参考图1，图1为本专利技术实施例提供的一种化学机械研磨机的清洗装置的结构示意图。
[0034]所述化学机械研磨机包括研磨头11；所述清洗装置包括：
[0035]设置在所述研磨头11边缘一侧的第一清洗部件12，所述第一清洗部件用于清洗所述研磨头11的边缘侧壁。
[0036]在该实施例中，该清洗装置可以清洗研磨头11侧壁上的研磨液结晶或其它杂质，进一步完善了化学机械研磨机的清洗工作，避免了研磨液结晶脱落造成待加工部件研磨损坏的问题。
[0037]进一步的，基于本专利技术上述实施例，如图1所示，所述第一清洗部件12为第一喷洗部件；
[0038]其中，所述第一喷洗部件用于排出清洗液。
[0039]在该实施例中，所述清洗液包括但不限定于水，可基于具体的实际情况而定，在本专利技术实施例中并不作限定。
[0040]进一步的，基于本专利技术上述实施例，如图1所示，所述第一喷洗部件包括：
[0041]基座13；
[0042]设置在所述基座13上的喷嘴14；
[0043]其中，所述基座13为可调节基座，用于在垂直于所述研磨头11表面的方向上调节所述喷嘴14的位置，以使喷射范围全覆盖所述研磨头11的边缘侧壁，且不超过所述研磨头11的上表面。
[0044]在该实施例中，基于不同的研磨头，通过可调节基座，调节喷嘴14的位置，使喷射范围全覆盖所述研磨头11的边缘侧壁，达到最优清洁的目的。
[0045]需要说明的是，喷射范围不得超过研磨头11的上表面，否则会在研磨头11的上表面积水。
[0046]进一步的，基于本专利技术上述实施例，所述喷嘴14包括但不限定为120
°
的喷嘴。
[0047]进一步的，基于本专利技术上述实施例，所述第一喷洗部件的排量大于1L/min。
[0048]在该实施例中，通过限定第一喷洗部件的排量，是为了达到最优清洁的目的。
[0049]进一步的，基于本专利技术上述实施例，所述喷嘴14与所述研磨头11边缘侧壁之间的距离为4cm-6cm。
[0050]在该实施例中，例如所述喷嘴14与所述研磨头11边缘侧壁之间的距离为5cm。
[0051]进一步的，基于本专利技术上述实施例，如图1所示，所述化学机械研磨机还包括圆环15；
[0052]所述圆环15位于所述研磨头11下表面的一侧；所述研磨头11的下表面为研磨面；
[0053]所述圆环15用于固定待加工部件。
[0054]在该实施例中，所述圆环15用于固定待加工部件，必不可免的会存在一些槽固定区域。
[0055]进一步的，基于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化学机械研磨机的清洗装置，其特征在于，所述化学机械研磨机包括研磨头；所述清洗装置包括：设置在所述研磨头边缘一侧的第一清洗部件，所述第一清洗部件用于清洗所述研磨头的边缘侧壁。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第一清洗部件为第一喷洗部件；其中，所述第一喷洗部件用于排出清洗液。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述第一喷洗部件包括：基座；设置在所述基座上的喷嘴；其中，所述基座为可调节基座，用于在垂直于所述研磨头表面的方向上调节所述喷嘴的位置，以使喷射范围全覆盖所述研磨头的边缘侧壁，且不超过所述研磨头的上表面。4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述喷嘴为120
°
喷嘴。5.根据权利要求3所述的清洗装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：力健中，崔娟，
申请(专利权)人：泉芯集成电路制造济南有限公司，
类型：发明
国别省市：