一种醇胺类清洗液的润洗溶液制造技术

本发明专利技术提供了一种醇胺类清洗液的润洗溶液，其由脂肪醇类有机溶剂、pH缓冲剂和水组成，且润洗溶液中溶解有二氧化碳；该种润洗溶液中脂肪醇类有机溶剂可有效溶解醇胺类，且可抑制醇胺类水解，二氧化碳降低了溶液阻值防止出现电荷问题，同时脂肪醇类有机溶剂无毒，环保性好。好。

【技术实现步骤摘要】
一种醇胺类清洗液的润洗溶液


[0001]本专利技术涉及铝垫制备
，尤其涉及一种醇胺类清洗液的润洗溶液。

技术介绍

[0002]铝垫制备过程中经常采用干刻蚀的方法对铝垫进行定型，而在干刻蚀的过程中会在铝垫表面形成聚合物副产物。而这种聚合物副产物的清洗一般采用洗液主要成分为醇胺的ACT690/970，该种醇胺类洗液清洗之后一般采用N-甲基吡咯烷酮和/或掺有二氧化碳的去离子水进行润洗。
[0003]在上述清洗和润洗的过程中，N-甲基吡咯烷酮具有生物毒性，对皮肤、呼吸道和眼睛都具有一定的刺激性，并且对胎儿有害，因此，N-甲基吡咯烷酮对环境不友好，被列为“T”即“有毒的”试剂；而水基润洗液会使醇胺发生分解，生成大量氢氧根，虽然在水中增加了二氧化碳作为缓冲剂但是效果并不理想，且会出现原电池反应且腐蚀铝垫的现象。鉴于上述问题，提供一种环保且可有效抑制醇胺水解的润洗剂具有重要意义。

技术实现思路

[0004]本专利技术解决的技术问题在于提供一种醇胺类清洗液的润洗溶液，本申请提供的醇胺类润洗溶液可有效溶解醇胺类清洗液，且可有效抑制醇胺类水解，环保性好。
[0005]有鉴于此，本申请提供了一种醇胺类清洗液的润洗溶液，由脂肪醇类有机溶剂、pH缓冲剂和水组成，所述润洗溶液中溶解有二氧化碳。
[0006]优选的，所述脂肪醇类有机溶剂选自乙醇。
[0007]优选的，所述pH缓冲剂为醋酸铵/醋酸缓冲剂。
[0008]优选的，所述润洗溶液中，水的含量为1～15wt％，所述二氧化碳的浓度为50～500ppm，余量为脂肪醇类有机溶剂；所述醋酸铵/醋酸缓冲剂调节所述水、二氧化碳和脂肪醇类有机溶剂构成的体系的pH至5～7。
[0009]优选的，所述水的含量为3～12wt％。
[0010]优选的，所述二氧化碳的浓度为100～380ppm。
[0011]优选的，所述醋酸铵/醋酸缓冲剂的质量比为1:1～3:1。
[0012]本申请提供了一种醇胺类清洗液的润洗溶液，其由脂肪醇类有机溶剂、pH缓冲剂和水组成，且润洗溶液中溶解有二氧化碳；该种润洗溶液中脂肪醇类有机溶剂可有效溶解醇胺类，且可抑制胺类水解，二氧化碳降低了溶液阻值防止出现电荷问题，同时脂肪醇类有机溶剂无毒，环保性好。
附图说明
[0013]图1为实施例1和对比例1槽式清洗机的结构简图；
[0014]图2为实施例2和对比例2单片清洗机的结构简图。
具体实施方式
[0015]为了进一步理解本专利技术，下面结合实施例对本专利技术优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为进一步说明本专利技术的特征和优点，而不是对本专利技术权利要求的限制。
[0016]针对现有技术中醇胺类清洗液的润洗溶液环境不友好，且醇胺类易发生水解的问题，本专利技术提供了一种醇胺类清洗液的润洗溶液，该润洗溶液由于以脂肪醇类有机溶剂为基，且溶解有二氧化碳，有效抑制了醇胺类水解，且不具有毒性，环保性好。具体的，本申请实施例公开了一种醇胺类清洗液的润洗溶液，由脂肪醇类有机溶剂、pH缓冲剂和水组成，所述润洗溶液中溶解有二氧化碳。
[0017]本申请提供的醇胺类清洗液的润洗溶液中，脂肪醇类有机溶剂作为极性分子，可以有效溶解醇胺类，同时其为非质子性溶剂，可有效抑制醇胺类水解。在本申请中，所述脂肪醇类有机溶剂选自乙醇。
[0018]pH缓冲剂在本申请中优选自醋酸铵/醋酸，其可调节润洗溶液至5～7，可有效防止铝垫在润洗过程中被腐蚀；同时在润洗溶液中加入pH缓冲剂可有效抑制醇胺水解，长时间保持溶液pH值的稳定，由此润洗溶液可循环利用多次，降低成本。
[0019]本申请在润洗溶液中混入二氧化碳，可调控润洗溶液电阻值，由此可使用喷淋方式润洗提高润洗效率，也可采用单片式清洗机，对于对表面平整度要求较高的产品也适用。
[0020]在所述醇胺类清洗液的润洗溶液中，水的含量为1～15wt％，所述二氧化碳的浓度为50～500ppm，余量为脂肪醇类有机溶剂，所述水、所述二氧化碳和所述脂肪醇类有机溶剂构成一个体系，所述醋酸铵/醋酸缓冲剂调节该体系的pH至5～7；更具体的，所述水的含量为3～12wt％，二氧化碳的浓度为100～380ppm，余量为脂肪醇类有机溶剂。在本申请中，所述醋酸铵/醋酸缓冲剂中醋酸铵和醋酸的质量比为(1～3)：1。在上述润洗溶液中，水和CO2含量不足会有电荷问题，难以在单片式清洗机使用，水量过大也会导致铝垫腐蚀严重，影响产品质量；pH缓冲剂量不足，润洗液不能重复使用，成本会升高，pH缓冲液量过大，可能会腐蚀铝垫造成产品质量问题。
[0021]为了进一步理解本专利技术，下面结合实施例对本专利技术提供的醇胺类清洗液的润洗溶液进行详细说明，本专利技术的保护范围不受以下实施例的限制。
[0022]实施例1
[0023]将铝垫在含有醇胺类清洗液的清洗槽中初次清洗5min，将经过含有醇胺类清洗液清洗的铝垫置于含有润洗溶液的润洗槽1中清洗5min，再在含有去离子水的润洗槽2中清洗，最后在干燥槽中进行干燥；润洗溶液中水的含量为10wt％，二氧化碳的浓度为200ppm，余量为乙醇，pH为6。
[0024]采用扫描电子显微镜对干燥后的样品的表面形貌进行表征，结果显示：该表面平整、洁净、没有颗粒物和腐蚀。
[0025]对比例1
[0026]铝垫的清洗与实施例1相同，区别在于：润洗槽1中的溶液为N-甲基吡咯烷酮；
[0027]或铝垫的清洗与实施例1相同，区别在于：润洗槽1中的溶液为水，且其中溶有二氧化碳。
[0028]上述第一种方式环境不友好，第二种方式铝垫腐蚀严重。
[0029]实施例1和对比例1的具体清洗装置如图1所示。
[0030]实施例2
[0031]将单片铝垫样品放置于单片清洗机中清洗，先打开喷头1清洗30s，再打开喷头2润洗30s，最后打开喷头3清洗15s，最后旋转干燥25s；其中喷头1中为醇胺类清洗液，喷头2中为脂肪醇基润洗剂，喷头3中为溶有CO2的水溶液；所述脂肪醇基润洗剂中水的含量为12wt％，二氧化碳的浓度为300ppm，余量为乙醇，pH为5。
[0032]采用扫描电子显微镜对干燥后的样品的表面形貌进行表征，结果显示：该表面平整、洁净、没有颗粒物和腐蚀；且铝垫清洗前、后表面电荷分布情况无差别。
[0033]对比例2
[0034]单片铝垫样品的清洗与实施例2相同，区别在于：喷头2中为NMP/水基润洗液。
[0035]采用扫描电子显微镜对干燥后的样品的表面形貌进行表征，结果显示：该表面清洗不彻底，表面有部分腐蚀。
[0036]实施例2和对比例2的具体清洗装置如图2所示。
[0037]以上实施例的说明只是用于帮助理解本专利技术的方法及其核心思想。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术原理的前提下，还可以对本专利技术进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本专利技术权利要求的保护范围内。
[0038]对所公开的实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种醇胺类清洗液的润洗溶液，由脂肪醇类有机溶剂、pH缓冲剂和水组成，所述润洗溶液中溶解有二氧化碳。2.根据权利要求1所述的润洗溶液，其特征在于，所述脂肪醇类有机溶剂选自乙醇。3.根据权利要求1所述的润洗溶液，其特征在于，所述pH缓冲剂为醋酸铵/醋酸缓冲剂。4.根据权利要求3所述的润洗溶液，其特征在于，所述润洗溶液中，水的含量为1～15wt％，所述二氧化碳的浓度为50～500pp...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨昱霖，
申请(专利权)人：泉芯集成电路制造济南有限公司，
类型：发明
国别省市：