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本发明提供了一种光学临近效应修正方法及装置，该光学临近效应修正方法包括：获取待处理设计图形中的角对角特征；将所述角对角特征处的两条竖边在水平方向上背向移动预设距离，得到目标设计图形；对所述目标设计图形进行分段处理，控制点与分段点在同一条直线...
该专利属于泉芯集成电路制造(济南)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过泉芯集成电路制造(济南)有限公司授权不得商用。

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