一种多温区硅材料提纯与铸锭的方法及其装置制造方法及图纸

技术编号:2481237 阅读:245 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种多温区硅材料提纯与铸锭的方法及装置,将硅料中加入造渣剂后放入坩埚中,对硅料进行感应加热熔融、真空熔炼,并通入氧化性气体进行反应,随后对硅料进行降温定向凝固,并结晶成硅锭;本发明专利技术的装置包括坩埚系统、升降装置、感应加热器和电阻加热体,感应加热器设于电阻加热体上面,其分别构成感应加热区和电阻加热区,升降装置设于电阻加热区下面,并且可以在感应加热区和电阻加热区内上下移动,坩埚系统设于升降装置上,采用本发明专利技术的方法及装置提纯及铸锭的硅锭纯度高、提纯效率高,而且整个过程在一个炉体内完成,节约了时间和能源。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于多晶硅生产
,涉及一种多温区硅料提纯与铸锭的 方法及装置,。
技术介绍
虽然金属的高温熔炼和真空熔炼的时间已经很长,^^圭的真空熔炼的时 间却很短。自从太阳能电池市场开始迅速发展后,对太阳能级的硅的需求大幅上升。由于太阳能级硅的纯度要求比半导体要低,只要能够达到6N (99.9999%)就可以了。因此,采用冶金方法对硅进行提纯的技术又受到人 们的重视。目前,国际上报道的对硅的熔炼,主要是利用通入H2、水蒸气、 氩气以及用离子束、电子束等去除硼磷等杂质;然后,再利用定向凝固的分 凝效应,来达到去除金属杂质的效果。但上述的各个方法,要么去除的杂质 有限;要么就需要一遍一遍地去除,效率太低。此外,冶金法对硅材料的提 纯的纯度的一致性,也一直是一个令人头痛的问题。这些问题的产生,是因 为,从来没有人对硅中的各类杂质进行系统的分析,从而得到一种能够去除 硅中所含的所有杂质的方法。而且在多晶硅的生产和提纯的过程中,通常需 要在两个炉体内部完成,即先用感应炉进行真空熔炼,冷却后,再用电阻炉 进行定向凝固。但这样,硅液要进行两次加热和两次冷却,无谓地消耗了电 能。
技术实现思路
本本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种多温区硅材料提纯与铸锭的方法,其特征在于:将硅料中按照80∶1~100∶1的比例加入造渣剂后放入坩埚中;在感应加热区先抽真空后进行感应加热;硅料温度升至200℃~400℃时,保温0.5~2个小时;继续加热,硅料温度升至800℃~1000℃时,再保温0.5~2个小时;之后升温至1350℃~1430℃,再保温0.5-2小时;加热至硅料熔化成熔融状态;将硅料温度升至1500~1700℃,保温1~3个小时;再将氧化性气体通入熔融状态的硅料中1~3个小时;然后对熔融状态的硅料进行降温,硅料温度降至1450~1500℃时,保温1~3个小时;在感应加热区降温同时将电阻加热区通电,升温至1450℃~160...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:史珺水川佟晨宗卫峰
申请(专利权)人:上海普罗新能源有限公司
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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