基板旋转装置、基板清洗装置、基板处理装置以及基板旋转装置的控制方法制造方法及图纸

技术编号:23402521 阅读:26 留言:0更新日期:2020-02-22 14:32
本发明专利技术提供一种进步的基板旋转装置、基板清洗装置、基板处理装置以及基板旋转装置的控制方法。该基板旋转装置具备:外筒;内筒,该内筒定位于外筒的内部;电机,该电机用于使内筒旋转;磁轴承,该磁轴承用于使内筒磁悬浮;以及基板保持部,该基板保持部设置于内筒,电机是径向电机,该径向电机具备:电机定子,该电机定子安装于外筒;以及电机转子,该电机转子安装于内筒,磁轴承是径向磁轴承,该径向磁轴承具备:磁轴承定子,该磁轴承定子安装于外筒;以及磁轴承转子,该磁轴承转子安装于内筒,磁轴承构成为利用磁轴承定子与磁轴承转子之间的引力使内筒磁悬浮。

Control method of substrate rotating device, substrate cleaning device, substrate processing device and substrate rotating device

【技术实现步骤摘要】
基板旋转装置、基板清洗装置、基板处理装置以及基板旋转装置的控制方法
本专利技术涉及一种基板旋转装置、基板清洗装置、基板处理装置以及基板旋转装置的控制方法。
技术介绍
以往,已知有用于使基板旋转的基板旋转装置。典型地,某些其他的装置具备基板旋转装置。例如,专利文献1公开了一种具备基板旋转装置的基板清洗装置。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2018-006368号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术的一个目的在于,提供一种基板旋转装置。用于解决课题的手段作为一实施方式,本专利技术公开了一种基板旋转装置,该基板旋转装置具备:外筒;定位于外筒的内部的内筒;用于使内筒旋转的电机;用于使内筒磁悬浮的磁轴承;以及设置于内筒的基板保持部,其中,电机是径向电机,该径向电机具备:电机定子,该电机定子安装于外筒;以及电机转子,该电机转子安装于内筒,磁轴承是径向磁轴承,该径向磁轴承具备:磁轴承定子,该磁轴承定子安装于外筒;以及磁轴承转子,该磁轴承转子安装于内筒,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板旋转装置,具备:/n外筒;/n内筒,该内筒定位于所述外筒的内部;/n电机,该电机用于使所述内筒旋转;/n磁轴承,该磁轴承用于使所述内筒磁悬浮;以及/n基板保持部,该基板保持部设置于所述内筒,/n该基板旋转装置的特征在于,/n所述电机是径向电机,该径向电机具备:/n电机定子,该电机定子安装于所述外筒;以及/n电机转子,该电机转子安装于所述内筒,/n所述磁轴承是径向磁轴承,该径向磁轴承具备:/n磁轴承定子,该磁轴承定子安装于所述外筒;以及/n磁轴承转子,该磁轴承转子安装于所述内筒,/n所述磁轴承构成为利用所述磁轴承定子与所述磁轴承转子之间的引力使所述内筒磁悬浮。/n

【技术特征摘要】
20180810 JP 2018-1513781.一种基板旋转装置,具备:
外筒;
内筒,该内筒定位于所述外筒的内部;
电机,该电机用于使所述内筒旋转;
磁轴承,该磁轴承用于使所述内筒磁悬浮;以及
基板保持部,该基板保持部设置于所述内筒,
该基板旋转装置的特征在于,
所述电机是径向电机,该径向电机具备:
电机定子,该电机定子安装于所述外筒;以及
电机转子,该电机转子安装于所述内筒,
所述磁轴承是径向磁轴承,该径向磁轴承具备:
磁轴承定子,该磁轴承定子安装于所述外筒;以及
磁轴承转子,该磁轴承转子安装于所述内筒,
所述磁轴承构成为利用所述磁轴承定子与所述磁轴承转子之间的引力使所述内筒磁悬浮。


2.如权利要求1所述的基板旋转装置,其特征在于,
所述内筒上下移动自如地定位于所述外筒的内部,
所述基板旋转装置具备控制部,
所述控制部通过对所述磁轴承的偏压电流进行控制,从而使所述内筒在第一位置与第二位置之间沿上下方向移动,该第二位置是比所述第一位置高的位置。


3.如权利要求1所述的基板旋转装置,其特征在于,
所述电机转子的长度比所述电机定子的长度长。


4.如权利要求3所述的基板旋转装置,其特征在于,
所述电机转子的长度和所述电机定子的长度的差大于所述第一位置与所述第二位置之间的距离。


5.如权利要求2所述的基板旋转装置,其特征在于,构成为,
在所述内筒位于所述第一位置的情况下,所述电机定子与所述电机转子相对,
在所述内筒位于所述第二位置的情况下,所述磁轴承定子与所述磁轴承转子相对。


6.如权利要求1所述的基板旋转装置,其特征在于,
所述磁轴承定子所处的高度和所述电机定子所处的高度是相同的,并且所述磁轴承转子所处的高度和所述电机转子所处的高度是相同的。


7.如权利要求1所述的基板旋转装置,其特征在于,
所述磁轴承具备轴向传感器,
所述控制部基于来自所述轴向传感器的信号,执行对于所述磁轴承的反馈控制。


8.一种基板清洗装置,其特征在于,具备:

【专利技术属性】
技术研发人员:佐藤一树茨田敏光
申请(专利权)人:株式会社荏原制作所
类型:发明
国别省市:日本;JP

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