退火装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及退火装置。退火装置包括：被配置为容纳基板的主体；被配置为产生要被传输到主体的微波的微波产生单元；被配置为将微波从微波产生单元传输到主体的入射单元；以及布置在入射单元与主体之间的衍射单元。衍射单元被配置为在微波被传输到主体之前使微波穿过衍射单元。

Annealing device

【技术实现步骤摘要】
退火装置相关申请的交叉引用本申请要求2018年8月9日提交的韩国专利申请第10-2018-0093047号的优先权及其权益，在此为了所有目的通过引用将该韩国专利申请并入本文，如同在本文中充分地阐述一样。
本专利技术的示例性实施方式总体涉及退火装置，并且更具体地，涉及用于使用微波将热量提供到基板上的装置。
技术介绍
诸如退火的热处理工艺通常被执行用于制造包括半导体的元件。通过经由热处理工艺改善元件的特性，能够实现可以改善半导体元件的特性的效果。热处理工艺通常包括通过直接使用加热器提供热量的方法和通过微波提供热量的方法。当使用微波时，随着显示设备的尺寸增加，难以均匀地提供微波，并且不能有效地执行使用微波的热处理。在该
技术介绍
部分中公开的上述信息仅用于理解本专利技术构思的背景，并且因此，其可能包含不构成现有技术的信息。
技术实现思路
根据本专利技术的示例性实施方式构造的设备能够提供能够使用微波均匀地执行热处理的退火装置。本专利技术构思的附加特征将在下面的描述中阐述，并且将部分地从描述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种退火装置，包括：/n被配置为容纳基板的主体；/n被配置为产生要被传输到所述主体的微波的微波产生单元；/n被配置为将所述微波从所述微波产生单元传输到所述主体的入射单元；以及/n布置在所述入射单元与所述主体之间的衍射单元，所述衍射单元被配置为在所述微波被传输到所述主体之前使所述微波穿过所述衍射单元。/n

【技术特征摘要】
20180809 KR 10-2018-00930471.一种退火装置，包括：
被配置为容纳基板的主体；
被配置为产生要被传输到所述主体的微波的微波产生单元；
被配置为将所述微波从所述微波产生单元传输到所述主体的入射单元；以及
布置在所述入射单元与所述主体之间的衍射单元，所述衍射单元被配置为在所述微波被传输到所述主体之前使所述微波穿过所述衍射单元。


2.根据权利要求1所述的退火装置，其中，所述衍射单元包括用于衍射所述微波的多个狭缝。


3.根据权利要求2所述的退火装置，其中，所述多个狭缝中的每个具有180mm或更大并且220mm或更小的宽度以及45mm或更大并且65mm或更小的高度。


4.根据权利要求2所述的退火装置，其中，所述入射单元包括开口，所述开口的宽度在从所述微波产生单元朝向所述衍射单元延伸的方向上变宽。


5.根据权利要求4所述的退火装置，其中，所述入射单元包括邻接所述微波产生单元的第一开口，所述第一开口具有270mm或更大并且330mm或更小的高度以及405mm或更大并且495mm或更小的宽度，并且
所述入射单元包括邻接所述衍射单元的第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏炳洙，高仁哲，白种埈，郑在佑，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR