【技术实现步骤摘要】
基板用清洗件、基板清洗装置、基板处理装置、基板处理方法以及基板用清洗件的制造方法关联申请的相互参照本申请基于2018年8月9日申请的日本申请号JP2018-150053号，在此引用其记载内容。
本专利技术涉及对基板进行清洗的基板用清洗件、基板清洗装置、基板处理装置、基板处理方法以及基板用清洗件的制造方法。
技术介绍
以往，公知的是使用了PVA海绵的基板用清洗件。然而，以往的基板用清洗件的清洗力不一定充分。
技术实现思路
提供一种清洗力高的基板用清洗件，具有上述基板用清洗件的基板清洗装置以及基板处理装置、以及使用了上述基板用清洗件的基板处理方法、上述基板用清洗件的制造方法。根据一方式，提供一种基板用清洗件，该基板用清洗件的至少与被处理基板接触的部分由包含氟类树脂粒子的树脂材料构成。该基板用清洗件也可以至少具有：与所述被处理基板接触的部分中的第一区域；以及与所述被处理基板接触的部分中的第二区域，所述氟类树脂粒子的分布密度在所述第一区域与所述第二区域中不同。所述氟...
【技术保护点】
1.一种基板用清洗件，其特征在于，/n至少与被处理基板接触的部分由包含氟类树脂粒子的树脂材料构成。/n
【技术特征摘要】
20180809 JP 2018-1500531.一种基板用清洗件，其特征在于，
至少与被处理基板接触的部分由包含氟类树脂粒子的树脂材料构成。
2.如权利要求1所述的基板用清洗件，其特征在于，
该基板用清洗件至少具有：与所述被处理基板接触的部分中的第一区域；以及与所述被处理基板接触的部分中的第二区域，
所述氟类树脂粒子的分布密度在所述第一区域与所述第二区域中不同。
3.如权利要求1所述的基板用清洗件，其特征在于，
所述氟类树脂粒子包含于所述基板用清洗件的表面。
4.如权利要求1所述的基板用清洗件，其特征在于，
所述氟类树脂粒子为导电性树脂。
5.如权利要求1所述的基板用清洗件，其特征在于，
所述氟类树脂粒子为包含碳纳米管的树脂。
6.一种基板用清洗件，其特征在于，
至少与被处理基板接触的部分由包含催化剂金属粒子的树脂材料构成。
7.如权利要求6所述的基板用清洗件，其特征在于，
该基板用清洗件至少具有：与所述被处理基板接触的部分中的第一区域；以及与所述被处理基板接触的部分中的第二区域，
所述催化剂金属粒子的分布密度在所述第一区域与所述第二区域中不同。
8.如权利要求6所述的基板用清洗件，其特征在于，
所述催化剂金属粒子包含于所述基板用清洗件的表面。
9.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：
保持旋转机构，该保持旋转机构保持被处理基板并使该被处理基板旋转；以及
权利要求1所述的基板用清洗件，该基板用清洗件与旋转的所述被处理基板接触而清洗所述被处理基板。
10.如权利要求9所述的基板清洗装置，其特征在于，
所述基板用清洗件对旋转的所述被处理基板的斜面或背面进行清洗。
11.一种基板处理装置，其特征在于，包括：
基板研磨装置，...
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