聚酰亚胺前驱物及其所制得的光刻图案制造技术

本发明专利技术有关于一种聚酰亚胺前驱物及其所制得的光刻图案。此聚酰亚胺前驱物具有如下式(I)所式的重复单元：

Polyimide precursors and their photolithographic patterns

The invention relates to a polyimide precursor and a photolithographic pattern produced therefrom. The polyimide precursor has repetitive units as shown in formula (I):

【技术实现步骤摘要】
聚酰亚胺前驱物及其所制得的光刻图案
本专利技术是有关一种聚酰亚胺前驱物及光刻图案(lithographypattern)，特别是提供一种具有良好图案成形性的聚酰亚胺前驱物及光刻图案。
技术介绍
随着电子产品的发展越趋轻薄，电子零组件的尺寸是日渐缩小。其中，为了同时满足尺寸缩减与信号传递的要求，线宽图案的尺度是逐渐微小化，且线宽解析度亦被严格要求。因此，作为软性基板原料的聚酰亚胺化合物的图案成形性是日益重要。在许多的应用中，聚酰亚胺树脂可添加感光交联基团，以形成聚酰亚胺前驱物，并利用涂布、曝光及显影等处理，产生适当的光刻图案。然而，一般聚酰亚胺前驱物的聚酰胺酸溶液易降解且保存不易，故所形成的聚酰亚胺具有较低的分子量，而使其易被显影液所洗去，进而降低图案解析度，或者无法形成光刻图案，导致操作性不佳。有鉴于此，亟须提供一种聚酰亚胺前驱物及其所制得的光刻图案，以改进聚酰亚胺前驱物及其所制得的光刻图案的缺陷。
技术实现思路
因此，本专利技术的一个方面在于提供一种聚酰亚胺前驱物，此聚酰亚胺前驱物具有特定结构的重复单元，而具有良好的图案成形性，进而可藉由光刻制程制得具良好分辨性的光刻图案。本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种聚酰亚胺前驱物，其特征在于，该聚酰亚胺前驱物具有如下式(I)所示的重复单元：

【技术特征摘要】
2017.11.24 TW 1061410561.一种聚酰亚胺前驱物，其特征在于，该聚酰亚胺前驱物具有如下式(I)所示的重复单元：于式(I)中，Ar代表衍生自含有四羧酸二酐的四价基团；R1代表衍生自含有二胺的二价基团；且R2分别独立地代表热交联基团、感光交联基团或氢原子。2.如权利要求1所述的聚酰亚胺前驱物，其特征在于，Ar分别独立地代表且Y代表单键、-O-、-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-或-CO-。3.如权利要求1所述的聚酰亚胺前驱物，其特征在于，R1分别独立地代表其中R11代表3至12的整数、其中R12代表2至68的数值，或者其中R14代表9至39的数值，且R13与R15的总和为3至6的数值。4.如权利要求1所述的聚酰亚胺前驱物，其特征在于，R2包含且「*」代表与式(I)的氧原子键结的位置。5.如权利要求1所述的聚酰亚胺前驱物，其特征在于，所述聚酰亚胺前驱物的重复单元的数目为2至15...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈锜贤，蔡秉霖，陈钰佩，陈巧珮，廖彧甫，林世昌，陈贞霓，洪宗泰，陈秋风，
申请(专利权)人：台虹科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71