一种蒸镀源遮挡机构制造技术

本实用新型专利技术提供了一种蒸镀源遮挡机构，包括挡片、转轴和驱动件，转轴穿过蒸镀室设置；蒸镀室上设置转轴的一面还设置了N个蒸镀源；转轴的第一端位于蒸镀室内，转轴的第二端位于蒸镀室外；第二端与驱动件相连；挡片与转轴的第一端固定连接；挡片在穿过转轴的蒸镀室的一面的投影包括N个离散面，N个离散面分别覆盖N个蒸镀源中的一个，N为大于等于1的正整数；挡片上还设置有检测件，检测件与蒸镀控制器电连接。本实用新型专利技术的蒸镀源遮挡机构，其通过驱动件驱动转轴旋转，使得挡片能够对蒸镀源进行遮挡或不遮挡，从而保证了蒸镀工艺的稳定性，大大地提高了产品质量，并且，检测件能够实时监测挡片的弯曲程度，使得工艺人员能够及时对挡片进行检修。

A shielding mechanism for evaporating plating source

The utility model provides an evaporation source shielding mechanism, which comprises a baffle, a rotating shaft and a driving part, and a rotating shaft is arranged through the evaporation chamber; N evaporation sources are also arranged on one side of the rotating shaft arranged on the evaporation chamber; the first end of the rotating shaft is located in the evaporation chamber, and the second end of the rotating shaft is located outside the evaporation chamber; the second end is connected with the driving part; the baffle is fixed connected with the first end of the rotating shaft; The projection of one side of the shaft evaporation chamber includes N discrete planes, which cover one of the N sources, N is a positive integer greater than or equal to 1, and the baffle is also equipped with a detector, which is electronically connected with the evaporation controller. The shielding mechanism of the evaporating plating source of the utility model drives the rotating shaft to rotate, so that the shield can shield or not shield the evaporating plating source, thus ensuring the stability of the evaporating plating process, greatly improving the product quality, and the detection part can real-time monitor the bending degree of the shield, so that the technicians can timely repair the shield.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀源遮挡机构
本技术涉及薄膜形成
，具体涉及一种蒸镀源遮挡机构。
技术介绍
在对基片和膜材料进行预处理时，通常是把镀膜室抽真空到工艺要求的真空度。基片到达缓冲腔后，进行加热处理，去除基片中所含的水分，然后在高真空下加热基片，能够使基片的表面吸附的气体脱附。再经真空泵抽气排出真空室，以提高镀膜室的真空度、膜层纯度和膜基结合力，镀膜室达到一定真空度后，先对蒸镀源通以较低功率的电，进行膜料的预热或者预熔，为防止蒸发到基板上，用蒸镀源遮挡机构中的挡板遮盖住蒸镀源，然后输入较大功率的电，将镀膜材料迅速加热到蒸发温度，蒸镀时再移开挡板，当蒸镀工艺结束后，再及时将蒸镀源遮挡，以避免关闭蒸镀源的电源后，剩余的热量使蒸镀源继续工作，从而对产品的质量产生影响，并且，这种影响往往是隐性的，使得工艺人员对产品质量的分析受到很大的影响。因此，如何设计蒸镀源遮挡机构，以实现在预热时和蒸镀工艺结束后，对蒸镀源的遮挡，在进行蒸镀时，不对蒸镀源进行遮挡，成为本领域技术人员急需解决的技术问题。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种蒸镀源遮挡机构，以解决现有技术中的上述技术问题。为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种蒸镀源遮挡机构，包括挡片、转轴和驱动件，所述转轴穿过蒸镀室设置；蒸镀室上设置转轴的一面还设置了N个蒸镀源；所述转轴的第一端位于所述蒸镀室内，所述转轴的第二端位于所述蒸镀室外，所述第二端与所述驱动件相连，所述挡片与所述转轴的第一端固定连接；所述挡片在穿过转轴的蒸镀室的一面的投影包括N个离散面，所述N个离散面分别覆盖N个蒸镀源中的一个，N为大于等于1的正整数；所述挡片上还设置有用于检测所述挡片弯曲程度的检测件，所述检测件与蒸镀控制器电连接。本申请通过驱动件驱动转轴旋转，使得挡片随之旋转，从而能够实现在预热时和蒸镀工艺结束后，对蒸镀源进行遮挡，也能够实现在蒸镀时不再对蒸镀源进行遮挡，进而保证了蒸镀工艺的稳定性，大大地提高了产品质量；同时，检测件能够实时监测挡片的弯曲程度，达到更容易的确定挡片是否能够满足使用条件。优选地，所述离散面为扇面，达到挡片对蒸镀源的遮挡具有更好的效果。优选地，所述蒸镀源的个数为两个，所述离散面的个数为两个。采用此方案，能够使得该蒸镀源遮挡机构的结构较为简单。优选地，所述检测件为应力片。采用该方案，使得检测件的结构简单，使用方便，成本较低。优选地，所述检测件设置在所述挡片上远离所述转轴的一端。采用该方案，能够更好地检测挡片的弯曲程度，以便于及时对挡片进行更换和维修。优选地，所述蒸镀源遮挡机构还包括滑环，所述滑环包括固定外圈、设置在所述固定外圈内的旋转内圈，所述旋转内圈与所述固定外圈转动配合；所述滑环的旋转内圈与所述转轴固定连接，所述检测件通过线束与所述滑环的固定外圈上的线束电连接，所述固定外圈上的线束与所述蒸镀控制器电连接。采用该方案，在转轴旋转时，只有旋转内圈随着转轴转动，从而避免了线束缠绕而易损坏的问题发生，进而较好地解决了检测件在转轴旋转过程中的布线问题。优选地，所述蒸镀源遮挡机构还包括与所述蒸镀室的内壁相连的固定支架，所述滑环的固定外圈设置在所述固定支架上。采用该方案，较好地避免了固定外圈随着旋转内圈发生转动。所述固定支架还包括过孔，所述过孔的直径大于所述转轴的直径，所述转轴穿过所述过孔设置。采用该方案，通过固定支架对转轴进行限位，避免转轴在转动时产生较大的晃动。优选地，所述蒸镀源遮挡机构还包括线管，所述线管的一端与所述滑环的固定外圈相连，所述线管的另一端与所述蒸镀室的底部相连，所述固定外圈上的线束穿过所述线管与所述蒸镀控制器电连接。采用此方案，通过线管对线束进行较好地保护，避免线束被损坏，有效地延长了线束的使用寿命。优选地，所述转轴上设置有与所述挡片相配合的安装卡槽，所述挡片通过卡簧被固定在所述安装卡槽内。采用此方案，通过安装卡槽和卡簧的配合，实现了挡片与转轴之间的可靠连接，同时也能够方便地对其进行拆卸。本技术的有益效果在于：本技术的蒸镀源遮挡机构，其通过驱动件驱动转轴旋转，使得挡片随之旋转，从而能够实现在预热时和蒸镀工艺结束后，对蒸镀源进行遮挡，也能够实现在蒸镀时不再对蒸镀源进行遮挡，进而保证了蒸镀工艺的稳定性，大大地提高了产品质量，有效地减少了工艺人员对产品质量问题的分析所消耗的时间。并且，检测件能够实时监测挡片的弯曲程度，并传送给蒸镀控制器，以便确定挡片是否能够满足使用条件，使得工艺人员能够及时对挡片进行检修，从而使得挡片位于第一位置时，挡片对蒸镀源的遮挡效果满足预定条件，进而能够保证产品的质量良好。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，并将结合附图对本技术的具体实施例作进一步的详细说明，其中图1为本技术实施例提供的蒸镀源遮挡机构的示意图。附图中标记：11、蒸镀室21、转轴31、挡片41、检测件51、驱动件61、滑环71、固定支架81、线管具体实施方式为了使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面将结合具体实施例对本方案作进一步地详细介绍。如图1所示，本技术实施例提供了一种蒸镀源遮挡机构，其包括挡片31、转轴21和驱动件51。蒸镀室包括通孔，通孔的直径与转轴相匹配。转轴21为轴类件，包括第一端和第二端。转轴穿过蒸镀室设置，转轴的第一端位于蒸镀室11内，转轴21的第二端位于蒸镀室外。在本申请的具体实施例中，第一端位于蒸镀室内、第二端位于蒸镀室外仅为本申请具体实施例中的一种举例，不能用于对本申请的限定。蒸镀室上设置转轴的一面设置有N个蒸镀源。转轴21的第一端还设置了挡片31，挡片31用于在工艺过程前的升温或工艺过程后的降温过程中对蒸镀室内的N个蒸镀源进行遮挡。可以优选挡片31与转轴21的第一端垂直相连，以便通过尺寸较小的挡片就能够实现对蒸镀源的遮挡，节省材料。挡片31在穿过转轴21的蒸镀室的一面的投影包括N个离散面，N个离散面分别覆盖N个蒸镀源中的一个，N为大于等于1的正整数。可以优选，离散面为扇面，从而使得挡片31对蒸镀源的遮挡效果较好。蒸镀源和离散面的个数均为两个，此时一个离散面覆盖一个蒸镀源，从而使得该蒸镀源遮挡机构的结构较为简单。在本申请的蒸镀室外侧还设置了驱动件51。驱动件51与转轴21的第二端连接，通过驱动件51驱动转轴21转动。可以理解的是，在驱动件51带动转轴21转动时，使得挡片31具有对蒸镀源进行遮挡的第一位置和退出遮挡的第二位置，挡片31的第一位置，即挡片31位于基片和蒸镀源之间，且能够遮挡住蒸镀源，避免蒸镀源对基片31进行蒸镀时所处的位置，也即，挡片31能够遮挡住蒸镀源时所处的任意位置，都称为挡片31的第一位置；挡片31的第二位置，即挡片31不再对蒸镀源进行遮挡，挡片31不影响蒸镀源对基片进行蒸镀时所处的位置，也即，挡片31不再对蒸镀源进行遮挡时所处的任意位置，都称为挡片31的第二位置。在一个实施例中，转轴21的第一端上可以设置有与挡片31相配合的安装卡槽，挡片21通过卡簧被固定在安装卡槽内，从而通过安装卡槽和卡簧的配合，实现了挡片31与转轴21之间的可靠连接，同时也能够方便地对其进行拆卸。在一个例子中，所述转轴21的第一端上设置了第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀源遮挡机构，其特征在于，包括挡片、转轴和驱动件，所述转轴穿过蒸镀室设置；蒸镀室上设置转轴的一面还设置了N个蒸镀源；所述转轴的第一端位于所述蒸镀室内，所述转轴的第二端位于所述蒸镀室外，所述第二端与所述驱动件相连；所述转轴的第一端与所述挡片固定连接，所述挡片在穿过转轴的蒸镀室的一面的投影包括N个离散面，所述N个离散面分别覆盖N个蒸镀源中的一个，N为大于等于1的正整数；所述挡片上还设置有用于检测所述挡片弯曲程度的检测件，所述检测件与蒸镀控制器电连接。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀源遮挡机构，其特征在于，包括挡片、转轴和驱动件，所述转轴穿过蒸镀室设置；蒸镀室上设置转轴的一面还设置了N个蒸镀源；所述转轴的第一端位于所述蒸镀室内，所述转轴的第二端位于所述蒸镀室外，所述第二端与所述驱动件相连；所述转轴的第一端与所述挡片固定连接，所述挡片在穿过转轴的蒸镀室的一面的投影包括N个离散面，所述N个离散面分别覆盖N个蒸镀源中的一个，N为大于等于1的正整数；所述挡片上还设置有用于检测所述挡片弯曲程度的检测件，所述检测件与蒸镀控制器电连接。2.根据权利要求1所述的蒸镀源遮挡机构，其特征在于，所述离散面为扇面。3.根据权利要求1所述的蒸镀源遮挡机构，其特征在于，所述蒸镀源的个数为两个，所述离散面的个数为两个。4.根据权利要求1所述的蒸镀源遮挡机构，其特征在于，所述检测件为应力片。5.根据权利要求4所述的蒸镀源遮挡机构，其特征在于，所述检测件设置在所述挡片上远离所述转轴的一端。6.根据权利要求1所述的蒸镀源遮挡机构，其特征在于，所述蒸镀源遮挡机构还包括滑环...

【专利技术属性】
技术研发人员：王建新，
申请(专利权)人：东泰高科装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11