蒸发源装置、成膜装置、成膜方法以及电子设备的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种蒸发源装置、成膜装置、成膜方法以及电子设备的制造方法。本发明专利技术的蒸发源装置包括：多个坩埚，所述多个坩埚包括第一坩埚和第二坩埚，收纳蒸镀材料；防附着板，所述防附着板覆盖所述第一坩埚，并在所述第二坩埚之上具有开口；以及可动式的蒸发源挡板，所述蒸发源挡板通过改变位置而将所述第二坩埚设为遮蔽状态或开放状态，所述蒸发源装置的特征在于，当所述蒸发源挡板将所述第二坩埚设为开放状态时，所述蒸发源挡板与所述防附着板以及被所述防附着板覆盖的第一坩埚重叠。

Evaporation Source Device, Film Forming Device, Film Forming Method and Manufacturing Method of Electronic Equipment

The invention provides an evaporation source device, a film forming device, a film forming method and a manufacturing method of an electronic device. The evaporation source device of the invention includes: a plurality of crucibles, the plurality of crucibles including the first crucible and the second crucible, receiving evaporation plating materials; an anti-attachment plate, the anti-attachment plate covering the first crucible and having an opening on the second crucible; and a movable evaporation source baffle, which sets the second crucible as a shielding state by changing its position. Or in an open state, the evaporation source device is characterized in that when the evaporation source baffle sets the second crucible in an open state, the evaporation source baffle overlaps the anti-attachment plate and the first crucible covered by the anti-attachment plate.

【技术实现步骤摘要】
蒸发源装置、成膜装置、成膜方法以及电子设备的制造方法
本专利技术涉及蒸发源装置、成膜装置、成膜方法以及电子设备的制造方法。
技术介绍
有机EL显示器等有机电子设备经由使有机材料或金属材料等蒸镀的蒸镀工序而被制造。在蒸镀工序中使用的蒸发源装置具有多个坩埚，通过加热收纳于坩埚内的蒸镀材料，使蒸镀材料的温度上升而使蒸镀材料蒸发并附着于基板的表面而进行成膜。专利文献1公开了一种真空蒸镀装置，该真空蒸镀装置具有真空腔室、用于在基板上形成薄膜的多个蒸发源(坩埚)、以及用于开放或遮蔽从蒸发源蒸发的材料的蒸气的一个挡板。记载了通过在多个蒸发源内依次开放一个挡板而能够防止在多个蒸发源相互之间产生污染。另外，专利文献2具备多个蒸发源、第一加热装置、第二加热装置、以及蒸镀遮蔽板。以往，具有多个蒸发源的蒸发源装置在对收纳于蒸发源的蒸镀材料进行加热以提高其温度的情况下，如果在蒸镀时(主加热)才开始加热蒸镀材料，则在加热方面耗费时间。因此，在用于蒸镀之前，进行提高蒸发源的温度至蒸镀材料成为蒸气的温度的预加热。即，多个蒸发源中包括正在进行预加热的蒸发源和维持所收纳的蒸镀材料成为蒸气的温度并用于对基板表面进行成膜的主加热的蒸发源。在专利文献2的结构中，蒸镀遮蔽板覆盖位于预加热位置的蒸发源。在先技术文献专利文献【专利文献1】日本特开2007－332433号公报【专利文献2】日本特开2006－249575号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，由于蒸发源的加热温度高，因此即使在真空下，也会由于来自蒸发源的辐射热的影响而使所配置的基板、掩模产生热延(熱延び)等变形，从而产生成膜精度降低、成膜后膜的品质降低等课题。如上述以往示例那样，当在不进行蒸镀的蒸发源之上仅配置挡板或蒸镀遮蔽板时，难以充分降低蒸发源对基板的辐射热的影响。尤其是，来自正在进行预加热的蒸发源或刚结束蒸镀的蒸发源的辐射热的影响大。本专利技术鉴于上述课题而作出。本专利技术的目的在于提供一种减小辐射热对基板的影响的蒸发源装置。用于解决课题的方案为了实现上述目的，本专利技术采用下述结构。即，一种蒸发源装置，包括：多个坩埚，所述多个坩埚包括第一坩埚和第二坩埚，收纳蒸镀材料；防附着板，所述防附着板覆盖所述第一坩埚，并在所述第二坩埚之上具有开口；以及可动式的蒸发源挡板，所述蒸发源挡板通过改变位置而将所述第二坩埚设为遮蔽状态或开放状态，所述蒸发源装置的特征在于，当所述蒸发源挡板将所述第二坩埚设为开放状态时，所述蒸发源挡板与所述防附着板以及被所述防附着板覆盖的第一坩埚重叠。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种减小辐射热对基板的影响的蒸发源装置。附图说明图1是示出有机电子设备的制造装置的结构的一部分的示意图；图2是示出实施方式1的蒸发源装置的结构的(a)遮蔽状态以及(b)开放状态的示意图；图3是示出实施方式2的蒸发源挡板的结构的示意图；图4是示出实施方式3的蒸发源挡板的结构的示意图；图5是示出实施方式4的蒸发源装置的结构的示意图；图6是示出实施方式5的蒸发源装置的结构的示意图；图7是示出实施方式5的蒸发源装置的蒸发源挡板的从横向观察到的形态的示意图；图8是示出实施方式6的蒸发源装置的结构的示意图；图9是示出有机EL显示装置的构造的图。附图标记说明1：蒸发源装置2：第二坩埚3：第一坩埚4：防附着板5：蒸发源挡板6：成膜装置7、63：基板8：基板支承架9：掩模10：掩模支承架11：基板挡板12：磁板13：真空腔室14：冷却机构15：表面加工16：反射板17：移动支承体18：旋转支承体具体实施方式以下，参照附图说明本专利技术的优选实施方式以及实施例。但是，以下的实施方式以及实施例仅是示例性示出本专利技术的优选结构，并未将本专利技术的范围限定于这些结构。另外，以下说明中的装置的硬件结构以及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等在没有特别的特定记载的情况下，不意味将本专利技术的范围仅限定于上述装置的硬件结构以及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等。关于本专利技术的蒸发源装置及其控制方法，尤其适用于通过蒸镀在被蒸镀体上形成薄膜的蒸发源装置及其控制方法。并且，即使作为使计算机执行控制方法的程序、储存该程序的存储介质，本专利技术也包括在内。存储介质可以是能够通过计算机读取的永久存储介质。本专利技术例如优选适用于在作为被蒸镀体的基板的表面上通过真空蒸镀形成所期望的图案的薄膜(材料层)的装置。作为基板的材料，可以选择玻璃、树脂、金属等任意材料。需要说明的是，成膜装置的被蒸镀体不限于平板状的基板。例如，也可以将具有凹凸或开口的机械零件作为被蒸镀体。另外，作为蒸镀材料，也可以选择有机材料、无机材料(金属、金属氧化物等)等任意材料。另外，不仅能够对有机膜进行成膜，也可以对金属膜进行成膜。本专利技术的技术具体而言能够适用于有机电子设备(例如有机EL显示装置、薄膜太阳能电池)、光学部件等的制造装置。＜实施方式1＞＜成膜装置的概略结构＞图1是示意性示出蒸镀装置(成膜装置)的结构的剖视图。成膜装置6具有真空腔室13。真空腔室13的内部被维持为真空氛围或氮气等非活性气体氛围。在真空腔室13的内部大致设置有：由基板支承架8保持的被蒸镀体即基板7、由掩模支承架10保持的掩模9、利用磁力将掩模9吸引到基板7的磁板12、以及蒸发源装置1。基板支承架8通过用于支承基板7的承受爪(机械手)等支承件、用于按压保持基板的夹具(未图示)等按压件来保持基板。另外，基板7在由输送机器人(未图示)输送到真空腔室13内之后，由基板支承架8保持，并在成膜时固定成与水平面(XY平面)平行。掩模9是具有与在基板7上形成的规定图案的薄膜图案相对应的开口图案的掩模，例如是金属掩模。在成膜时将基板7载置于掩模9之上。另外，在蒸发源装置1设有第一坩埚3、第二坩埚、具有开口的防附着板4、以及蒸发源挡板5。第一坩埚3被防附着板4覆盖，第二坩埚2配置在防附着板4的开口之下。第一坩埚3和第二坩埚2中分别收纳蒸镀材料，通过对该蒸镀材料进行加热而产生蒸气。进而，蒸发源挡板5是设置在防附着板4的开口的上部，使防附着板4的开口处于开放状态或遮蔽状态的可动式挡板。另外，在真空腔室13内也可以具备用于控制来自蒸发源装置1的蒸气到达基板7的开闭式的基板挡板11。另外，在磁板12也可以具备抑制基板7的温度上升的冷却板(未图示)。进而，在真空腔室13之上也可以具备用于基板7和掩模9的对准的机构，例如X方向或Y方向的致动器、用于保持基板的基板支承架用致动器等驱动机构、对基板7进行摄像的摄像头(均未图示)。在蒸发源装置1设有包括第一坩埚3和第二坩埚2的多个坩埚。坩埚是蒸发源的一个示例。另外，在蒸发源装置1具备能够使第一坩埚3和第二坩埚2移动的移动支承体(未图示)。在本实施方式中，对多个坩埚中的一个进行用于蒸镀的主加热。另外，对多个坩埚中的一个进行用于准备蒸镀的预加热。为了方便，将正在进行主加热的坩埚或配置在用于进行主加热的位置的坩埚记载为第二坩埚2。另外，为了方便，将正在进行预加热的坩埚或配置在进行预加热的位置的坩埚记载为第一坩埚3。即，第一坩埚3是进行预加热的坩埚，在预加热中，利用加热器等对收纳在坩埚内的蒸镀材料进行加热，使坩埚的温度上升至蒸镀材料成为蒸气的温度。另外，第二坩埚2是进行主加热的坩埚，在主加热中，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸发源装置，包括：多个坩埚，所述多个坩埚包括第一坩埚和第二坩埚，收纳蒸镀材料；防附着板，所述防附着板覆盖所述第一坩埚，并在所述第二坩埚之上具有开口；以及可动式的蒸发源挡板，所述蒸发源挡板通过改变位置而将所述第二坩埚设为遮蔽状态或开放状态，所述蒸发源装置的特征在于，当所述蒸发源挡板将所述第二坩埚设为开放状态时，所述蒸发源挡板与所述防附着板以及被所述防附着板覆盖的第一坩埚重叠。

【技术特征摘要】
2017.10.31 KR 10-2017-01442761.一种蒸发源装置，包括：多个坩埚，所述多个坩埚包括第一坩埚和第二坩埚，收纳蒸镀材料；防附着板，所述防附着板覆盖所述第一坩埚，并在所述第二坩埚之上具有开口；以及可动式的蒸发源挡板，所述蒸发源挡板通过改变位置而将所述第二坩埚设为遮蔽状态或开放状态，所述蒸发源装置的特征在于，当所述蒸发源挡板将所述第二坩埚设为开放状态时，所述蒸发源挡板与所述防附着板以及被所述防附着板覆盖的第一坩埚重叠。2.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述多个坩埚由所述第一坩埚、所述第二坩埚以及其他坩埚构成。3.根据权利要求1或2所述的蒸发源装置，其特征在于，在所述蒸发源挡板设有冷却所述蒸发源挡板的冷却机构。4.根据权利要求3所述的蒸发源装置，其特征在于，所述蒸发源挡板的与所述多个坩埚相向的面相比于所述蒸发源挡板的与所述多个坩埚相向的面的相反侧的面，导热性高或辐射率高。5.根据权利要求1或2所述的蒸发源装置，其特征在于，在所述蒸发源挡板的与所述多个坩埚相向的面上设有反射热的反射机构。6.根据权利要求1或2所述的蒸发源装置，其特征在于，所述多个坩埚设置在能够移动的移动支承体上，利用所述移动支承体的移动，通过将所述多个坩埚中的一个坩埚配置于用于进行预加热的位置而将该一个坩埚设为所述第一坩埚，通过将所述多个坩埚中的另一个坩埚配置于用于进行主加热的位置而将该另一个坩埚设为所述第二坩埚。7.根据权利要求1或2所述的蒸发源装置，其特征在于，所述多个坩埚沿着能够旋转的旋转支承体的周向设置，利用所述旋转支承体的旋转，通过将所述多个坩埚中的一个坩埚配置于用于进行预加热的位置而将该一个坩埚设为所述第一坩埚，通过将所述多个坩埚中的另一个坩埚配置于用于进行主加热的位置而将该另一个坩埚设为所述第二坩埚。8.根据权利要求1或2所述的蒸发源装置，其特征在于，所述多个坩埚设置在能够移动的移动支承体上，利用所述移动支承体的移动，通过将所述多个坩埚中的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤中幸治，相泽雄树，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP