成膜装置、成膜方法及制造方法制造方法及图纸

提供一种成膜装置，所述成膜装置经由掩模在基板上进行成膜，其特征在于，所述成膜装置具有：蒸镀源，所述蒸镀源释放附着于所述基板的蒸镀物质；以及限制部，所述限制部限制从所述蒸镀源释放的所述蒸镀物质相对于所述掩模的入射区域，所述限制部包含：多个限制板，所述多个限制板以将所述蒸镀源包围的方式沿着所述基板的成膜面的法线方向排列；以及开口构件，所述开口构件设置在所述多个限制板的所述掩模侧，并包含供从所述蒸镀源释放的所述蒸镀物质通过的开口，所述多个限制板分别被倾斜地设置成所述蒸镀源侧的内侧端部比远离所述蒸镀源那一侧的外侧端部靠近所述掩模，沿着所述多个限制板各自的所述蒸镀源侧的面朝向所述掩模延长的假想线并未通过所述开口并且与所述开口构件或所述多个限制板中的某一个交叉。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及成膜装置、成膜方法及制造方法。

技术介绍

1、对于有机el显示装置(有机el显示器)而言，除了智能手机、电视、汽车用显示器之外，还会应用于vr hmd(virtualreality head mount display：虚拟现实-头戴式显示器)等。特别是，在用于vr、hmd的显示装置中，为了降低用户的眩晕等，要求高精细地形成像素图案，需要进一步的高分辨率化。

2、在有机el显示装置的制造中，在形成构成有机el显示装置的有机发光元件(有机el元件：oled)时，会使用成膜装置。成膜装置通过使从蒸发源(成膜源)释放的蒸镀物质(成膜材料)经由形成有与像素图案对应的图案的掩模附着(成膜)在基板上，从而形成有机物膜、金属膜。

3、作为这样的成膜装置的一例，提出了具备限制板的成膜装置，所述限制板限制蒸镀物质从蒸发源向基板的入射(参照专利文献1)。在专利文献1中公开了如下技术：为了抑制从限制板入射到掩模、基板的辐射热量(二次辐射)，将限制板设置成朝向蒸发源倾斜，使来自蒸发源的蒸镀物质附着在限制板上。

4、现有技术文献...

【技术保护点】

1.一种成膜装置，所述成膜装置经由掩模在基板上进行成膜，其特征在于，所述成膜装置具有：

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

8.一种成膜方法，其特征在于，所述成膜方法使用权利要求1所述的成膜装置，经由掩模在基板上进行成膜。

9.一种制造方法，其特...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种成膜装置，所述成膜装置经由掩模在基板上进行成膜，其特征在于，所述成膜装置具有：

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

5.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

【专利技术属性】
技术研发人员：梅津琢治，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：