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提供一种成膜装置，所述成膜装置经由掩模在基板上进行成膜，其特征在于，所述成膜装置具有：蒸镀源，所述蒸镀源释放附着于所述基板的蒸镀物质；以及限制部，所述限制部限制从所述蒸镀源释放的所述蒸镀物质相对于所述掩模的入射区域，所述限制部包含：多个限制...
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