【技术实现步骤摘要】
衬底处理系统、半导体器件的制造方法和记录介质
本专利技术涉及衬底处理系统、半导体器件的制造方法和记录介质。
技术介绍
伴随大规模集成电路(LargeScaleIntegratedCircuit：以下LSI)、DRAM(DynamicRandomAccessMemory：动态随机访问存储器)、FlashMemory(闪存)等代表的半导体器件的高集成化，正在推进着电路图案和制造过程中形成的构造物的微细化。在进行半导体器件的制造工序的一个工序的衬底处理装置中，利用蓄积的监视数据进行FDC(FaultDetection&Classification：故障检测和分类)，确认装置的健全性，并通过警报通知装置的异常，由此防止不合格生产。例如，记载于专利文献1。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-216697
技术实现思路
存在因装置的个体差异而使每个衬底的处理结果不均等的课题。因此，本专利技术中提供能够提高每个衬底的处理均等性的技术。根据一方式，提供一种技术，其包括：多个衬底处理装置；第一控制部，其设置于各个衬底处理装置，使从衬底处理装置发送第一装置数据；第二...
【技术保护点】
1.一种衬底处理系统，其特征在于，包括：多个衬底处理装置；第一控制部，其设置于各个所述衬底处理装置，使从所述衬底处理装置发送第一装置数据；第二控制部，其从各个所述衬底处理装置接收所述第一装置数据，基于所述第一装置数据生成所述衬底处理装置的优先顺序数据，并将所述优先顺序数据发送到所述第一控制部；和显示所述优先顺序数据的显示部。
【技术特征摘要】
2017.07.20 JP 2017-1408651.一种衬底处理系统，其特征在于，包括：多个衬底处理装置；第一控制部，其设置于各个所述衬底处理装置，使从所述衬底处理装置发送第一装置数据；第二控制部，其从各个所述衬底处理装置接收所述第一装置数据，基于所述第一装置数据生成所述衬底处理装置的优先顺序数据，并将所述优先顺序数据发送到所述第一控制部；和显示所述优先顺序数据的显示部。2.如权利要求1所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第二控制部构成为，基于所述优先顺序数据中的、与下级数据对应的所述第一装置数据、以及与上级数据对应的所述第一装置数据和记录在所述第二控制部的第二装置数据中的任一个或者两者，生成与所述下级数据对应的所述衬底处理装置的参数变更数据，并将所述参数变更数据发送到所述第一控制部，所述第一控制部构成为基于所述参数变更数据使所述显示部显示参数变更消息。3.如权利要求2所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第一控制部构成为，基于所述参数变更数据和所述衬底处理装置的用户级别，使所述显示部显示所述衬底处理装置的参数中的能够变更的参数。4.如权利要求1所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第二控制部构成为，基于所述优先顺序数据设定多个所述衬底处理装置的使用优先顺序，并基于所述使用优先顺序发送搬送数据以将衬底搬送到所述衬底处理装置。5.如权利要求2所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第二控制部构成为，基于所述优先顺序数据设定多个所述衬底处理装置的使用优先顺序，并基于所述使用优先顺序发送搬送数据以将衬底搬送到所述衬底处理装置。6.如权利要求3所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第二控制部构成为，基于所述优先顺序数据设定多个所述衬底处理装置的使用优先顺序，并基于所述使用优先顺序发送搬送数据以将衬底搬送到所述衬底处理装置。7.如权利要求1所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第二控制部构成为，在多次生成了所述优先顺序数据后，对处理次数没有达到规定次数的所述衬底处理装置的第一控制部发送处理是否需要继续数据。8.如权利要求2所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第二控制部构成为，在多次生成了所述优先顺序数据后，对处理次数没有达到规定次数的所述衬底处理装置的第一控制部发送处理是否需要继续数据。9.如权利要求3所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第二控制部构成为，在多次生成了所述优先顺序数据后，对处理次数没有达到规定次数的所述衬底处理装置的第一控制部发送处理是否需要继续数据。10.如权利要求4所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第二控制部构成为，在多次生成了所述优先顺序数据后，对处理次数没有达到规定次数的所述衬底处理装置的第一控制部发送处理是否需要继续数据。11.如权利要求6所述的衬底处理系统，其特征在于：所述第二控制部构成...
【专利技术属性】
技术研发人员：中山雅则，镰仓司，
申请(专利权)人：株式会社国际电气，
类型：发明
国别省市：日本,JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。