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本发明提供一种衬底处理系统、半导体器件的制造方法和记录介质，能够提高每个衬底的处理均等性。衬底处理系统包括：多个衬底处理装置；第一控制部，其设置于各个衬底处理装置，使从衬底处理装置发送第一装置数据；第二控制部，其从各个衬底处理装置接收第一装...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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