一种防止反应腔尾管阻塞的装置制造方法及图纸
A device to prevent the obstruction of the caudal tube of the reaction cavity
The utility model provides a device for preventing a caudal tube blocking in a reaction chamber. The device comprises at least one gas into the pipe, and the gas is installed on the tail pipe of the reaction chamber and through the gas through the pipe into the tail pipe to enter the protective gas with a certain temperature. The utility model can reduce and reduce the deposition and crystallization of the reaction gas in the caudal tube of the reaction chamber by passing in the protective gas with a certain temperature in the tail pipe, thus reducing and reducing the deposition and crystallization of the by-products in the reaction chamber, thus reducing the cleaning frequency of the tail tube of the reaction cavity, reducing the manpower and material force, and increasing the service life of the equipment.
【技术实现步骤摘要】
一种防止反应腔尾管阻塞的装置
本技术属于半导体生产设备领域，特别是涉及一种防止反应腔尾管阻塞的装置。
技术介绍
随着社会的发展，人们对半导体技术的依赖越来越强。航空，电子，通信等一系列与生活有关的物件都随着半导体技术发展而兴起，尤其对于半导体器件的制造企业而言，设备的先进性和环保型是衡量一个企业综合竞争力的标志。在不同的先进制程中，不仅需要先进的工艺作为支撑，而且更需要成熟稳定的设备处理作为基础。在一系列的工艺生产中我们经常会用到很多气体，例如SiH4、NH3、HCl、HF等，这些气体通常经过管路进入反应炉，这些气体在反应炉中反应并在晶圆上生长形成薄膜(film)，这些薄膜结构为即将进行的下一道工序做好准备。但是在反应炉中生长形成正常薄膜的同时，例如化学气相沉积工艺中，反应气体经高温解离产生反应，形成副产品。这类副产品的成份主要有氯化铵、氯化镓，其沉积在工艺腔室的内壁、真空管以及副产品收集器中，并且不断累积形成固状粉尘(power)。然而，固状粉尘的存在极易造成设备运转周期的利用，而且对产品的质量以及设备的使用寿命都会产生很大的影响。为了使得工艺反应腔体具有良好的...
【技术保护点】
一种防止反应腔尾管阻塞的装置，其特征在于，所述装置包括至少一根气体通入管道，所述气体通入管道安装在所述反应腔的尾管上，通过所述气体通入管道往所述尾管中通入具有一定温度的保护性气体，所述保护性气体的温度在50～80℃。
【技术特征摘要】
1.一种防止反应腔尾管阻塞的装置，其特征在于，所述装置包括至少一根气体通入管道，所述气体通入管道安装在所述反应腔的尾管上，通过所述气体通入管道往所述尾管中通入具有一定温度的保护性气体，所述保护性气体的温度在50～80℃。2.根据权利要求1所述的防止反应腔尾管阻塞的装置，其特征在于：在所述尾管上安装有1～4根气体通入管道。3.根据权利要求1所述的防止反应腔尾管阻塞的装置，其特征在于：所述保护性气体为惰性气体。4.根据权利要求1所述的防止反应腔尾管阻塞的装置，其特征在于：所述保护性气体为氮气或者氩气。5.根据权利要求1所述的防止反应腔尾管阻...
【专利技术属性】
技术研发人员：陆华，
申请(专利权)人：镓特半导体科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31
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