一种磁控溅射镀膜机的旋转靶制造技术

本实用新型专利技术提供了一种磁控溅射镀膜机的旋转靶，属于玻璃镀膜设备技术领域。它解决了旋转靶使用寿命短、冷却效果差等技术问题。一种磁控溅射镀膜机的旋转靶，本旋转靶包括靶芯、冷却管、驱动装置、磁块和靶材，冷却管位于靶芯内，靶芯的一端通过若干个支撑套与靶材固定相连，靶芯的另一端与靶材之间具有一容纳腔，磁块位于容纳腔内，且磁块包裹在靶芯上，冷却管具有进水端和出水端，冷却管的内壁上具有螺旋状的导槽。本实用新型专利技术具有冷却效果好、使用寿命长等优点。

A rotating target of a magnetron sputtering coating machine

The utility model provides a rotating target of a magnetron sputtering coating machine, which belongs to the technical field of glass coating equipment. The utility model solves the technical problems of short service life and poor cooling effect of the rotating target. A rotating target of a magnetron sputtering coating machine. The rotating target consists of a target core, a cooling tube, a driving device, a magnetic block and a target. The cooling tube is located in the target core. One end of the target core is fixed to the target by a number of supporting sleeves. The other end of the target core has a chamber between the target and the target. The magnetic block is located in the chamber, and the magnetic block is wrapped. The cooling pipe is provided with a water inlet end and a water outlet end, and a spiral guide groove is arranged on the inner wall of the cooling pipe. The utility model has the advantages of good cooling effect and long service life.

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜机的旋转靶
本技术属于玻璃镀膜设备
，涉及一种磁控溅射镀膜机的旋转靶。
技术介绍
真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。真空镀膜生产是实现膜层附着在工件表面，以获得需要的工件表面特性。真空溅射镀膜是利用靶材发生溅射，使溅射物附着在工件表面形成膜层，即达到镀膜，磁控溅射镀膜机是常见的真空溅射镀膜设备，然而，由于其上设置的磁控溅射靶中，靶材和靶芯相对不动，而靶芯上的磁块分布难于相对均匀，且难以保证不同磁块的磁性一致，使得生产中磁场强度有差异，溅射不均匀，影响镀膜质量，因而优待改进。由于磁控溅射过程中会产生高温，而现有技术没能有效给予降温，导致磁控效果降低，不利于生产。现有技术中的旋转靶冷却效果较差，且用于冷却的冷却管使用寿命较短，强度较低，由于其更换不便，导致其使用成本较高，更换周期短。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种磁控溅射镀膜机的旋转靶，本技术所要解决的技术问题是如何延长冷却管的使用寿命，且优化冷却效果。本技术的目的可通过下列技术方案来实现：一种磁控溅射镀膜机的旋转靶，其特本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜机的旋转靶，其特征在于，本旋转靶包括靶芯(1)、冷却管(2)、驱动装置(3)、磁块(4)和靶材(5)，所述冷却管(2)位于所述靶芯(1)内，所述靶芯(1)的一端通过若干个支撑套(61)与靶材(5)固定相连，所述靶芯(1)的另一端与靶材(5)之间具有一容纳腔(62)，所述磁块(4)位于所述容纳腔(62)内，且磁块(4)包裹在靶芯(1)上，所述冷却管(2)具有进水端(21)和出水端(22)，所述冷却管(2)的内壁上具有螺旋状的导槽(23)。

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜机的旋转靶，其特征在于，本旋转靶包括靶芯(1)、冷却管(2)、驱动装置(3)、磁块(4)和靶材(5)，所述冷却管(2)位于所述靶芯(1)内，所述靶芯(1)的一端通过若干个支撑套(61)与靶材(5)固定相连，所述靶芯(1)的另一端与靶材(5)之间具有一容纳腔(62)，所述磁块(4)位于所述容纳腔(62)内，且磁块(4)包裹在靶芯(1)上，所述冷却管(2)具有进水端(21)和出水端(22)，所述冷却管(2)的内壁上具有螺旋状的导槽(23)。2.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋宇，江维，熊建，全强，
申请(专利权)人：咸宁南玻节能玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北,42