一种真空离子镀膜炉体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空离子镀膜炉体，真空室为筒状腔室，在该筒状腔室内壁设置进抽气口对接件和多弧源对接件、磁控溅射源对接件；进气口和抽气口安装于进抽气口对接件，进气口与进气动力源装置连接，抽气口与抽真空装置连接；多弧源和多弧靶、磁控溅射源和磁控溅射靶分别安装于多弧源对接件和磁控溅射源对接件；在真空室的筒状腔室内部安装所述辅助加热装置。由于在真空室内同时设有弧源装置和磁控溅射装置，在一台镀膜机上既可进行多弧离子镀膜，又可进行磁控溅射镀膜，也可同时进行两种方式的镀膜或先一种镀膜再另一种镀膜，具有一机多用、适用性广、镀膜产品丰富的优点，弧源装置和磁控溅射装置圆周阵列布置，保证涂层的均匀性。

A vacuum ion plating furnace body

The utility model discloses a vacuum ion plating furnace body, and the vacuum chamber is a cylindrical chamber. In the inner wall of the chamber, the air intake port butt part and the multi arc source butt butt part and the magnetron sputtering source butt part are arranged, the air intake and the suction port are installed at the inlet of the intake air intake port, the air intake port is connected with the air intake power source device, and the suction opening and pumping are drawn. The multi arc and multi arc target, magnetron sputtering source and magnetron sputtering target are installed on the docking parts of multi arc source butt and magnetron sputtering source respectively, and the auxiliary heating device is installed in the chamber of the vacuum chamber. Because of the arc source device and the magnetron sputtering device in the vacuum chamber, a multi arc ion coating can be carried out on a coating machine, and the magnetron sputtering coating can be carried out. At the same time, two kinds of coating or first coating and then another coating can be carried out at the same time. It has the advantages of multi use, wide application and rich coating products. The circular array of arc source device and magnetron sputtering device is arranged to ensure the uniformity of the coating.

【技术实现步骤摘要】
一种真空离子镀膜炉体
本技术属于镀膜工具领域，尤其涉及一种真空离子镀膜炉体。
技术介绍
真空镀膜是在真空中把将钛、碳化钨、金之类的金属材料溅射蒸发等技术，在基材上形成薄膜的一种金属表面处理过程，广泛应用于车刀、铣刀、数控刀片、丝锥等。每种镀膜机都有各自特点和使用范围限制，如需镀制多种不同膜层以及在金属和非金属材料上进行镀膜，需要购置多种真空镀膜机，存在设备投资大的缺点，而且通过转轴带动立柱做旋转运动，而真空镀膜机内的靶材释放金属离子，金属离子附着在工件表面，在转动过程中，工件上朝向转轴的一面始终背对着靶材，导致涂层均匀性差，影响产品质量。
技术实现思路
针对现有技术存在的问题，本技术提供了一种真空离子镀膜炉体。本技术是这样实现的，一种真空离子镀膜炉体包括：真空室、进气口、抽气口、多弧源、磁控溅射源、多弧靶、磁控溅射靶、抽气口、辅助加热装置；所述真空室为筒状腔室，在该筒状腔室内壁设置进抽气口对接件和多弧源对接件、磁控溅射源对接件；所述进气口和抽气口安装于所述进抽气口对接件，所述进气口与进气动力源装置连接，所述抽气口与抽真空装置连接；所述多弧源和多弧靶、磁控溅射源和磁控溅射靶分别安装于多弧源对接本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空离子镀膜炉体，包括真空室、进气口、抽气口、多弧源、磁控溅射源、多弧靶、磁控溅射靶、辅助加热装置，其特征在于：所述真空室为筒状腔室，在该筒状腔室内壁设置进抽气口对接件和多弧源对接件、磁控溅射源对接件；所述进气口和抽气口安装于所述进抽气口对接件，所述进气口与进气动力源装置连接，所述抽气口与抽真空装置连接；所述多弧源和多弧靶、磁控溅射源和磁控溅射靶分别安装于多弧源对接件和磁控溅射源对接件；在所述真空室的筒状腔室内部安装所述辅助加热装置。

【技术特征摘要】
1.一种真空离子镀膜炉体，包括真空室、进气口、抽气口、多弧源、磁控溅射源、多弧靶、磁控溅射靶、辅助加热装置，其特征在于：所述真空室为筒状腔室，在该筒状腔室内壁设置进抽气口对接件和多弧源对接件、磁控溅射源对接件；所述进气口和抽气口安装于所述进抽气口对接件，所述进气口与进气动力源装置连接，所述抽气口与抽真空装置连接；所述多弧源和多弧靶、磁控溅射源和磁控溅射...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱海寒，朱常锦，
申请(专利权)人：上海双石钛金有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31