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本实用新型公开了一种真空离子镀膜炉体，真空室为筒状腔室，在该筒状腔室内壁设置进抽气口对接件和多弧源对接件、磁控溅射源对接件；进气口和抽气口安装于进抽气口对接件，进气口与进气动力源装置连接，抽气口与抽真空装置连接；多弧源和多弧靶、磁控溅射源和...
该专利属于上海双石钛金有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海双石钛金有限公司授权不得商用。

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