【技术实现步骤摘要】
微型刀具离子镀膜设备真空室上盖防落、引导及定位机构
本技术涉及真空设备
,尤其涉及真空镀膜设备。
技术介绍
微型刀具离子镀膜设备采用的是空心阴极电离子镀技术(HonowCathodeDischarge)(简称HCD),它是在空心阴极离子电子束技术和离子镀技术的基础上发展起来的一种薄膜沉积工艺。该技术从1972年Moley和Smith首创后,目前已成功地用于装饰、刀具、模具、超高真空部件等特种镀层工艺中。空心阴极真空设备一般都是上盖开启方式,由于上盖开启方式会存在三点问题:在不影响美观的前提下,开定位难,关定位难,上盖是否有降落装置。现有设备上的定位系统过于简单,开关数次后就会失效,一般设计在旋转轴下端与旋转轴轴套下端进行限位,但是此处与上盖人手施力处扭矩过大,对定位块有较大的撞击力,数次之后就会损坏,影响定位准确。现有设备几乎没有防止上盖下落装置,上盖在工作时,突然断电下落,对操作者和上盖缺乏保护措施,上盖容易受损,安全性能差。现有设备使用电控和机构结构一起配合来实现,结构复杂,成本高。
技术实现思路
为了解决现有真空镀膜设备存在的上述问题,本技术提供了一种船舶 ...
【技术保护点】
微型刀具离子镀膜设备真空室上盖防落、引导及定位机构,其特征在于:包括安装于圆柱形真空室(7)上部的定位套(1)和安装于上盖(5)上的定位柱(6),圆柱形定位套(1)上设有与上盖(5)旋转角度匹配的凹位(4),定位套(1)上位于凹位(4)一端处设有与定位柱(6)相匹配的凹槽(2),定位套(1)内部位于凹位(4)圆周上设有用于放置上盖(5)的凸台(3)。
【技术特征摘要】
1.微型刀具离子镀膜设备真空室上盖防落、引导及定位机构,其特征在于:包括安装于圆柱形真空室(7)上部的定位套(1)和安装于上盖(5)上的定位柱(6),圆柱形定位套(1)上设有与上盖(5)旋转角度匹配的凹位(4),定位套(1)上位于凹位(4)一端处...
【专利技术属性】
技术研发人员:王岩,刘洋,
申请(专利权)人:大连维钛克科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:辽宁,21
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