一种电弧离子镀装置制造方法及图纸

一种电弧离子镀装置，该装置由真空室、真空抽气系统、四组弧源和置于其前的转动挡板组成，其中，转动挡板包括清洗挡板及沉积栅网两种，悬挂于真空室上部的转动盘上，有效防止大颗粒污染涂层结构和降低性能，同时还能有效提高对基材加热、清洗和刻蚀以及离子注入效果，显著提高后续制备的硬质防护涂层与基材的结合力，可用于刀具、模具、机械零部件等表面制备硬质防护薄膜和涂层领域。

An Arc Ion Plating Device

【技术实现步骤摘要】
一种电弧离子镀装置
本技术涉及金属等基材表面防护、改性
，尤其涉及真空镀膜

技术介绍
物理气相沉积(PVD)是将原子或分子从气相中沉积到基体表面，包括蒸镀、溅射沉积、离子镀、脉冲激光沉积和扩散涂覆等工艺。切削刀具、模具、耐磨损零件等经物理气相沉积硬质涂层后，有效提高了其表面硬度、复合韧性、耐磨损性和化学稳定性能等，大幅度提高了工件的使用寿命。电弧离子镀技术是结合了蒸发与溅射技术而发展的一种PVD技术。在真空室内，金属靶材蒸发在气体放电中进行，通过碰撞和电子撞击形成气体和金属的离子，这些离子在电场中被加速飞向衬底并形成涂层。如果在薄膜或涂层的形成过程中通入活性气体（如N2、O2等），则会发生化学反应并得到各种化合物薄膜或涂层。电弧离子镀的主要优点在于靶材的离化率高，所制备的薄膜或涂层沉积速率快，并且薄膜或涂层结构致密。基于以上优点，工业界已广泛采用电弧离子镀技术用于硬质耐磨、抗高温氧化以及改性薄膜或涂层的制备。真空电弧放电为低电压大电流放电模式，其行为被金属靶材表面许多快速游动、高度明亮的阴极斑点所控制。电弧阴极斑点的产物是电子、金属离子、中性原子和熔化液滴。其中，金属本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电弧离子镀装置，其特征在于：包括真空室（10）、真空抽气系统（11）、弧源（12）和置于转动挡板，真空室（10）内中心处安装转架（101），真空室（10）连接真空抽气系统（11），每组弧源（12）的弧源阳极（120）与真空室（10）之间电位可实现悬浮与导通的切换，转动挡板包括清洗挡板（131）和沉积栅网（132），清洗挡板（131）和沉积栅网（132）间隔均匀分布安装在真空室（10）内的转动盘（1302）上，中空结构转动盘（1302）通过支撑组件安装于真空室（10）内壁，转动盘（1302）连接驱动轮转动驱动装置（130），转动盘（1302）位于转架（101）外侧。

【技术特征摘要】
1.一种电弧离子镀装置，其特征在于：包括真空室（10）、真空抽气系统（11）、弧源（12）和置于转动挡板，真空室（10）内中心处安装转架（101），真空室（10）连接真空抽气系统（11），每组弧源（12）的弧源阳极（120）与真空室（10）之间电位可实现悬浮与导通的切换，转动挡板包括清洗挡板（131）和沉积栅网（132），清洗挡板（131）和沉积栅网（132）间隔均匀分布安装在真空室（10）内的转动盘（1302）上，中空结构转动盘（1302）通过支撑组件安装于真空室（10）内壁，转动盘（1302）连接驱动轮转动驱动装置（130），转动盘（1302）位于转架（101）外侧。2.根据权利要求1所述的一种电弧离子镀装置，其特征在于：所述真空室（10）内壁均匀分布安装四组弧源（12），其中一组弧源（12）接地，转动盘（1302）上安装与另三组弧源（12）对应的3组清洗挡板（131）及与4组弧源（12）对应的4组...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘伟，马槽伟，
申请(专利权)人：大连维钛克科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁,21