平面MOS器件及其制造方法技术

本发明专利技术属于半导体功率器件技术领域，具体涉及到一种平面MOS器件及其制造方法，本发明专利技术将普通平面MOS位于JEFT区域上部的栅极通过刻蚀的方式去掉并填充绝缘介质，利用此方式有效降低JEFT电阻和Qgd，本发明专利技术制造工艺简单，其工艺方法能够完全与普通平面MOS工艺步骤兼容，成本低，结构新颖，具有良好的电特性和可靠性，能有效降低器件导通电阻和Qgd，减小器件导通损耗和开关损耗，从而达到节能减排的目的。

【技术实现步骤摘要】
平面MOS器件及其制造方法
本专利技术涉及半导体功率器件
，具体涉及一种平面MOS器件及其制造方法。
技术介绍
众所周知，普通的MOSFET只适合于漏极和源极击穿电压较低的情况，实际中一般电压限制在10V～30V的情况，这主要受到普通MOSFET结构的限制，首先在高漏源电压的应用当中需要的沟道长度很长，而沟道长度的增加又会带来不可接受的沟道电阻，更增加了器件面积；其次如漏源电压越高漏极和源极界面处栅氧化层处的电场强度越强，这就要求具有更厚的栅氧化层，从而对器件的阈值电压产生严重的影响。双扩散MOS结构(DMOS)的出现解决了传统MOSFET承受高压能力不足的问题；首先诞生的是横向DMOS(即LDMOS)，该结构是在沟道和高掺杂的漏极间增加一个低掺杂的N-漂移区。因此，LDMOS的阻断电压主要取决于漂移区的宽度和掺杂浓度，当需求耐压较高时，则必须增加漂移区宽度和降低掺杂浓度，这将导致器件面积的进一步增大，增加生产成本；而另一种VDMOS结构显然比LDMOS更具优势，芯片有效利用面积更高，其沟道部分是由同一窗口的两次注入经扩散后形成，通过离子注入的能力和角度的选择即可控制沟道的长短，可形成较短的沟道，工艺完全与普通MOSFET结构兼容，可采用自对准工艺，生产过程简单，成本低；因此其具有高输入阻抗和低驱动功率、开关速度快以及温度特性好等技术特点。VDMOS器件的击穿电压与导通电阻成正比，导通电阻越大则意味着器件的导通损耗越大，而VDMOS的导通电阻中JFET电阻和漂移区电阻占据了很大一部分份额。随着经济的不断发展和人们生活水平不断提高，特别是电子产品爆发式增长和不断的更新换代，使得能源消耗极具增加，也逐渐唤起了人们的节约能源意识，作为电子产品重要组成部分的半导体电力电子器件扮演着非常重要的角色，而为了降低导通损耗和开关损耗对能源，单胞数量势必要持续增加而器件面积相应的也不断增大，无形中增加了生产成本；因此，对通过VDMOS结构的不断优化，降低器件导通损耗和开关损耗，同时减少生产成本成为目前半导体电力电子器件主要的研究方向之一。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的主要目的在于提供一种平面MOS器件及其制造方法。为达到上述目的，本专利技术的技术方案是这样实现的：本专利技术实施例提供一种平面MOS器件，由至少一个单胞器件组成，每个单胞器件包括第一导电类型漏极区、位于所述第一导电类型漏极区上方的N+单晶硅衬底以及N-外延层、位于所述N-外延层上方的P型阱区层、位于所述P型阱区层上方的N+源极区层、位于所述N+源极区层上方的绝缘介质层、及位于所述绝缘介质层上方的源极金属区层，还包括：栅氧化层，其与所述P型阱区层和N+源极区层以及P型阱区接触；多晶硅层，其与栅氧化层接触，顶部和侧壁与所述绝缘介质层接触；接触孔，所述接触孔穿过绝缘介质层延伸至所述N-外延层，与所述N-外延层和所述N+源极区层接触，所述接触孔内填充有金属，所述金属的顶端连接所述源极金属区层；其中，所述单胞器件中的栅极区中心位置由所述绝缘介质层填充，所述绝缘介质层下方与N-外延层接触，上方与所述源极金属区层底部接触。上述方案中，所述单胞器件中的栅极区包括栅氧化层、多晶硅层和绝缘介质层，所述栅氧化层与P型阱区层和N+源极区层以及N-外延层接触，所述多晶硅层的底部与栅氧化层接触，顶部和侧壁与绝缘介质层接触，所述绝缘介质层的另一端侧壁与多晶硅层和栅氧化层横向接触形成对称结构。上述方案中，所述每个单胞器件中包含两个并联的MOSFET器件，其位于所述绝缘介质层的两侧。上述方案中，所述多晶硅层为N型重掺杂的多晶硅。本专利技术实施例还提供一种根据权利要求1至4中任意一项所述的一种平面MOS器件的制造方法，该制造方法通过以下步骤实现：在第一导电类型的N型高掺杂浓度的N+单晶硅衬底上，生长第一导电类型的N型低掺杂浓度的N-外延层；在N-外延层表面通过氧化工艺生长一层栅氧化层，在通过LPCVD工艺淀积一层多晶硅层；对多晶硅层通过光刻工艺进行曝光，定义出栅极多晶层区域，然后通过干法刻蚀，去除未被光刻胶保护的多晶硅，曝露出源极区对应的N-外延层，再去除光刻胶后，形成栅极多晶层区域；通过光刻工艺定义出P型阱区注入区域，通过离子注入注入掺杂元素，通过退火推阱激活杂质并形成P型阱区；通过光刻工艺定义出N+源区注入区域，通过离子注入注入掺杂元素，通过退火激活杂质，形成N+源区；在所述栅氧化层上淀积导电多晶硅层，通过干法刻蚀去掉N-外延层顶部的导电多晶硅层以及栅氧化层。将P型杂质离子注入到所述N-外延层内，然后通过快速退火处理，在所述N-外延层内形成P型阱区层；在所述P型阱区层的上方定义出N+源极区层；在N+源极区层的表面淀积一层绝缘介质层，该介质层为二氧化硅层，或者氮化硅层，或者二氧化硅层和氮化硅层的复合层；位于所述N+源极区层上方的介质层形成绝缘介质层，对作为绝缘介质层的介质层实施干法刻蚀，穿透所述绝缘介质层和多晶硅层，延伸至所述栅氧化层，形成接触孔；对接触孔进行金属填充，位于所述接触孔底面端的金属与N+源极区层和P型阱区形成N+源极欧姆接触和P型阱的欧姆接触层；在所述绝缘介质层的上表面淀积的金属，形成源极金属区层，所述接触孔通过接触金属层与所述源极金属区层连接，形成源极金属电极；对金属区层实施光刻，采用光刻胶保护MOS管单胞阵列区的源极金属电极区域和MOS管单胞阵列区外围的栅极金属电极区域，即定义源极金属电极区域和栅极金属电极区域图形；采用干法刻蚀方法，选择性去除未被光刻胶保护的金属区层，曝露出作为绝缘介质层的第三介质层，去除光刻胶后，留下的位于单胞阵列区域的金属区层形成MOS管源极金属电极，同时也是肖特基二极管的阳极金属电极，留下的位于单胞阵列区域外围的金属区层形成MOS管栅极金属电极；在N+单晶硅衬底的底面沉积金属层，形成漏极区，该金属层形成MOS管漏极金属电极。上述方案中，所述多晶硅层的掺杂类型为N型掺杂或者P型掺杂。上述方案中，在通过光刻方式定义所述栅极区域时，位于所述JFET区域上方的多晶硅和栅氧化层同时被定义并通过刻蚀的方式去掉。上述方案中，所述对接触孔进行金属填充，位于所述接触孔底面端的金属与N+源极区层和P型阱区形成N+源极欧姆接触和P型阱的欧姆接触层，具体为：先沉积金属钛粘结层，在金属钛粘结层上淀积氮化钛阻挡层，再接着沉积钨金属层以及铝金属层，所述接触孔侧面端与绝缘介质层接触，位于所述接触孔底面端的金属钛粘结层和氮化钛阻挡层与N+源极区层和P型阱区形成N+源极欧姆接触和P型阱的欧姆接触层。上述方案中，所述在绝缘介质层的上表面淀积金属，形成金属区层，具体为：在绝缘介质层的上表面淀积金属钨，金属钨填满接触孔，然后采用干法刻蚀方法，选择性去除金属钨，使作为绝缘介质层的介质层曝露出来，接触孔中依然填满钨，然后再淀积铝层，或者掺杂有铜的铝层，或者掺杂有铜和硅的铝层。上述方案中，在绝缘介质层的上表面淀积金属，形成金属区层，具体为：在绝缘介质层的上表面淀积铝层，或者掺杂有铜的铝层，或者掺杂有铜和硅的铝层，并填满接触孔。与现有技术相比，本专利技术提供的一种平面MOS器件，在每个单胞器件中JFET区上方位置由绝缘介质层占据，其通过将普通平面MOSFET单胞JFET区上方的多晶栅刻蚀掉，形成两本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平面MOS器件，由至少一个单胞器件组成，每个单胞器件包括第一导电类型漏极区、位于所述第一导电类型漏极区上方的N+单晶硅衬底以及N‑外延层、位于所述N‑外延层上方的P型阱区层、位于所述P型阱区层上方的N+源极区层、位于所述N+源极区层上方的绝缘介质层、及位于所述绝缘介质层上方的源极金属区层，其特征在于，还包括：栅氧化层，其与所述P型阱区层和N+源极区层以及P型阱区接触；多晶硅层，其与栅氧化层接触，顶部和侧壁与所述绝缘介质层接触；接触孔，所述接触孔穿过绝缘介质层延伸至所述N‑外延层，与所述N‑外延层和所述N+源极区层接触，所述接触孔内填充有金属，所述金属的顶端连接所述源极金属区层；其中，所述单胞器件中的栅极区中心位置由所述绝缘介质层填充，所述绝缘介质层下方与N‑外延层接触，上方与所述源极金属区层底部接触。

【技术特征摘要】
1.一种平面MOS器件，由至少一个单胞器件组成，每个单胞器件包括第一导电类型漏极区、位于所述第一导电类型漏极区上方的N+单晶硅衬底以及N-外延层、位于所述N-外延层上方的P型阱区层、位于所述P型阱区层上方的N+源极区层、位于所述N+源极区层上方的绝缘介质层、及位于所述绝缘介质层上方的源极金属区层，其特征在于，还包括：栅氧化层，其与所述P型阱区层和N+源极区层以及P型阱区接触；多晶硅层，其与栅氧化层接触，顶部和侧壁与所述绝缘介质层接触；接触孔，所述接触孔穿过绝缘介质层延伸至所述N-外延层，与所述N-外延层和所述N+源极区层接触，所述接触孔内填充有金属，所述金属的顶端连接所述源极金属区层；其中，所述单胞器件中的栅极区中心位置由所述绝缘介质层填充，所述绝缘介质层下方与N-外延层接触，上方与所述源极金属区层底部接触。2.根据权利要求1所述的一种平面MOS器件，其特征在于：所述单胞器件中的栅极区包括栅氧化层、多晶硅层和绝缘介质层，所述栅氧化层与P型阱区层和N+源极区层以及N-外延层接触，所述多晶硅层的底部与栅氧化层接触，顶部和侧壁与绝缘介质层接触，所述绝缘介质层的另一端侧壁与多晶硅层和栅氧化层横向接触形成对称结构。3.根据权利要求1或2所述一种平面MOS器件，其特征在于：所述每个单胞器件中包含两个并联的MOSFET器件，其位于所述绝缘介质层的两侧。4.根据权利要求3所述一种平面MOS器件，其特征在于：所述多晶硅层为N型重掺杂的多晶硅。5.一种根据权利要求1至4中任意一项所述的一种平面MOS器件的制造方法，其特征在于，该制造方法通过以下步骤实现：在第一导电类型的N型高掺杂浓度的N+单晶硅衬底上，生长第一导电类型的N型低掺杂浓度的N-外延层；在N-外延层表面通过氧化工艺生长一层栅氧化层，在通过LPCVD工艺淀积一层多晶硅层；对多晶硅层通过光刻工艺进行曝光，定义出栅极多晶层区域，然后通过干法刻蚀，去除未被光刻胶保护的多晶硅，曝露出源极区对应的N-外延层，再去除光刻胶后，形成栅极多晶层区域；通过光刻工艺定义出P型阱区注入区域，通过离子注入注入掺杂元素，通过退火推阱激活杂质并形成P型阱区；通过光刻工艺定义出N+源区注入区域，通过离子注入注入掺杂元素，通过退火激活杂质，形成N+源区；在所述栅氧化层上淀积导电多晶硅层，通过干法刻蚀去掉N-外延层顶部的导电多晶硅层以及栅氧化层。将P型杂质离子注入到所述N-外延层内，然后通过快速退火处理，在所述N-外延层内形成P型阱区层；在所述P型阱区层的上方定义出N+源极区层；在N+源...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁力鹏，徐吉程，宁波，
申请(专利权)人：西安华羿微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：陕西,61