The present invention discloses a flexible magnetron sputtering transverse uniformity control device is provided with a gas nozzle, nozzle row, magnetron sputtering degree monitoring probe has more than one degree of detecting gas nozzle for sputtering, magnetron sputtering monitoring probe through the electrical signal output line shielding analysis and degree of magnetron sputtering device is connected with the input end, output device analysis magnetron sputtering device is connected with the end of the opening control by shielding the electrical signal output line and the valve, the valve opening degree control device for electric control valve of each gas nozzle are separately equipped with electric valve, gas source connected with gas pressure stabilizing device, the electric valve and the gas nozzle is connected by stainless steel tube. The technological device can control the sputtering degree of the transverse points uniformly, so as to control the gas distribution density of the corresponding points, and achieve the purpose of controlling the deposition rate of the transverse corresponding points, so that the performance indexes of the transverse points are uniform.
【技术实现步骤摘要】
柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置
本技术涉及一种柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置,属于磁控溅射镀膜
技术介绍
磁控溅射原理是电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片,氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。常规磁控溅射镀膜的工作气体系统,由工作气体储罐、气体压力稳定器组和气嘴排成。工作气体通过压力稳定器后再通过气嘴排送气,压力稳定器控制输出气体总压力稳定,单位时间输出的气体总流量固定。优点是设备简单,造价低。缺点是靶面溅射程度受到系统真空度稳定等影响。后来在磁控溅射镀膜系统中加入手动流量控制器,其工作气体通过一个气嘴排供气,气体流量通过手动流量控制器调整,以解决因真空系统稳定性影响到溅射程度的一致性。但缺点是,手动控制的反应速度不及真空舱内受影响的变化速度。控制影响滞后,精度低。现在多采用等离子体辐射监视系统(PEM),用于替代手动调节工作气体流量,以解决磁控溅射反应速度,解决溅射程度的稳定性和一致性。在真空镀膜反应溅射过程中,来自真空镀膜放电等离子体的发射光谱的谱线位置,取决于真空镀膜靶材、真空镀膜气体成分和真空镀膜化合物的组成。根据这种真空镀膜放电等离子体发射光谱强度的变化就可以用来控制真空镀膜反应溅射的工艺过程。真空镀膜等离子体的发射光谱通过真空镀膜溅射室内的平行光管、光纤系统传输到真空镀膜溅射室外的过滤器,再经过光电倍增管、预放大器输入到PEM控制器,并与强度设定点相比较,然后输出信号到压电阀上,操纵压电阀的开启与关闭,以控 ...
【技术保护点】
一种柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置,包括喷嘴排、磁控溅射程度监测探头、磁控溅射程度分析比较装置、阀门开度控制装置、电动阀门、气体压力稳压装置、气体气源,所述喷嘴排上设有气体喷嘴,所述磁控溅射程度监测探头有多个,用于检测气体喷嘴的溅射程度,磁控溅射程度监测探头通过屏蔽电信号输出线与磁控溅射程度分析比较装置输入端相连接,磁控溅射程度分析比较装置的输出端通过屏蔽电信号输出线与阀门开度控制装置相连接,阀门开度控制装置用于控制电动阀门的开闭度,每个气体喷嘴上均单独设有电动阀门,气体气源通过管路依次与气体压力稳压装置、电动阀门、气体喷嘴相连。
【技术特征摘要】
1.一种柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置,包括喷嘴排、磁控溅射程度监测探头、磁控溅射程度分析比较装置、阀门开度控制装置、电动阀门、气体压力稳压装置、气体气源,所述喷嘴排上设有气体喷嘴,所述磁控溅射程度监测探头有多个,用于检测气体喷嘴的溅射程度,磁控溅射程度监测探头通过屏蔽电信号输出线与磁控溅射程度分析比较装置输入端相连接,磁控溅射程度分析比较装置的输出端通过屏蔽电信号输出线与阀门开度控制装置相...
【专利技术属性】
技术研发人员:武良辰,
申请(专利权)人:南京沪友冶金机械制造有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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