液晶面板暗点化修补方法及阵列基板结构技术

本发明专利技术提供一种液晶面板暗点化修补方法及阵列基板结构。该液晶面板暗点化修补方法在检测出液晶面板的显示异常像素后，先在阵列基板上对应于显示异常像素所在的区域切断相应的薄膜晶体管的源极与数据线的连接，再通过成膜方式连接相应的像素电极与中间公共电极线，由于所述中间公共电极线与彩膜基板侧公共电极的电位相等，液晶面板的阵列基板与彩膜基板在显示异常像素所在区域之间的电压差为0，使得异常像素呈现暗态；由于像素电极与中间公共电极线位于同一层，以成膜方式连接相应的像素电极与中间公共电极线实现暗点化修补，相比现有的打孔修复方式，工序更加简化，也不会受COA型液晶面板中色阻层的干扰，能够提高对显示异常像素的修补成功率。

【技术实现步骤摘要】
液晶面板暗点化修补方法及阵列基板结构
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种液晶面板暗点化修补方法及阵列基板结构。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)以其大尺寸、高度集成、功能强大、工艺灵活、低成本等优势而广泛地应用于电视、手机、电脑等领域，成为了平板显示器的主流。液晶显示面板，简称液晶面板，是TFT-LCD的主要部件，通常由一彩膜基板(ColorFilter，CF)、一薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)以及一灌装于两基板间的液晶层(LiquidCrystalLayer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。液晶面板的有效显示区域由多个像素阵列组合而成，非显示区域主要是由外围金属布线构成。请参阅图1，现有液晶面板的阵列基板一般包括呈阵列式排布的多个像素电极100、对应每一行像素电极100设置的沿横向延伸的扫描线200、对应每一列像素电极100设置的沿纵向延伸的数据线300、对应每一行像素电极100设置的阵列基板侧公共电极线(Com)400、以及对应每一像素电极100设置的薄膜晶体管T’。其中，扫描线200用于提供开关扫描信号，阵列基板侧公共电极线400用于提供像素电压的基准电压，数据线300用于提供数据信号；薄膜晶体管T’的栅极连接相应的扫描线200，源极连接相应的数据线300、漏极连接相应的像素电极100；阵列基板侧公共电极线400设置于像素电极100以下。在阵列基板的生产过程中，由于生产工序复杂，受生产工艺及厂房环境的影响，可能会导致像素有异物或膜破等情况，这样会在显示画面中出现人眼比较容易识别出的显示缺陷，严重影响画面显示质量。现有的修复技术通常是对显示异常的像素做暗点化处理来实现简单修复。如图1所示，传统的液晶面板暗点化修复手段，是先在Z处切断显示异常像素所对应的薄膜晶体管T’的源极与数据线300的连接，再通过在B处打孔的方式连接像素电极100和阵列基板侧公共电极线400，使上下基板在显示异常像素所在区域之间的电压差为0，使得显示异常像素呈现暗态。这种传统的修复方法成功率较低，特别是对于彩膜设置在阵列基板侧的COA(ColorFilterOnArray)型产品，由于色阻层覆盖在像素电极100下方，像素电极100与阵列基板侧公共电极线400之间的距离较大，容易因为色阻层的干扰导致像素电极100和阵列基板侧公共电极线400连接失败，从而导致修复失败。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种液晶面板暗点化修补方法，能够提高对显示异常像素的修补成功率，并简化修复工序。本专利技术的另一目的在于提供一种阵列基板结构，易于对液晶面板的显示异常像素进行暗点化修补。为实现上述目的，本专利技术首先提供一种液晶面板暗点化修补方法，包括如下步骤：步骤S1、提供液晶面板；所述液晶面板包括阵列基板及彩膜基板；所述阵列基板包括呈阵列式排布的多个像素电极、对应每一行像素电极设置的沿横向延伸的多条扫描线、对应每一列像素电极设置的沿纵向延伸的多条数据线、对应每一行像素电极设置的多条阵列基板侧公共电极线、对应每一像素电极设置的多个薄膜晶体管、以及于每一数据线上方遮盖相应数据线且与像素电极位于同一层的中间公共电极线；所述彩膜基板内设置有彩膜基板侧公共电极；所述中间公共电极线与彩膜基板侧公共电极的电位相等；设n、m均为正整数，第n行第m列薄膜晶体管的栅极连接第n条扫描线，源极连接第m条数据线、漏极连接第n行第m列像素电极；步骤S2、检测出液晶面板的显示异常像素；步骤S3、先在阵列基板上对应于显示异常像素所在的区域切断相应的薄膜晶体管的源极与数据线的连接，再通过成膜方式连接相应的像素电极与中间公共电极线。所述步骤S3通过镭射切割工艺切断相应的薄膜晶体管的源极与数据线的连接。所述步骤S3利用镭射修补工艺沉积成膜来连接相应的像素电极与中间公共电极线；且成膜用的材料与像素电极及中间公共电极线的材料相同。所述像素电极与中间公共电极线的材料为ITO。所述扫描线、阵列基板侧公共电极线、及薄膜晶体管的栅极同位于第一金属层，所述数据线、及薄膜晶体管的源极与漏极同位于第二金属层。所述第一金属层与第二金属层的材料均为铜、铝、钼、钛中的一种或几种的层叠组合。本专利技术还提供一种阵列基板结构，包括呈阵列式排布的多个像素电极、对应每一行像素电极设置的沿横向延伸的多条扫描线、对应每一列像素电极设置的沿纵向延伸的多条数据线、对应每一行像素电极设置的多条阵列基板侧公共电极线、对应每一像素电极设置的多个薄膜晶体管、以及于每一数据线上方遮盖相应数据线且与像素电极位于同一层的中间公共电极线；设n、m均为正整数，第n行第m列薄膜晶体管的栅极连接第n条扫描线，源极连接第m条数据线、漏极连接第n行第m列像素电极。所述像素电极与中间公共电极线的材料为ITO。所述扫描线、阵列基板侧公共电极线、及薄膜晶体管的栅极同位于第一金属层，所述数据线、及薄膜晶体管的源极与漏极同位于第二金属层。所述第一金属层与第二金属层的材料均为铜、铝、钼、钛中的一种或几种的层叠组合。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的一种液晶面板暗点化修补方法，在检测出液晶面板的显示异常像素后，先在阵列基板上对应于显示异常像素所在的区域切断相应的薄膜晶体管的源极与数据线的连接，再通过成膜方式连接相应的像素电极与中间公共电极线，由于所述中间公共电极线与彩膜基板侧公共电极的电位相等，液晶面板的阵列基板与彩膜基板在显示异常像素所在区域之间的电压差为0，使得异常像素呈现暗态；由于所述像素电极与中间公共电极线位于同一层，以成膜方式连接相应的像素电极与中间公共电极线实现暗点化修补，相比现有的打孔修复方式，工序更加简化，也不会受COA型液晶面板中色阻层的干扰，能够提高对显示异常像素的修补成功率。本专利技术提供的一种阵列基板结构，在每一数据线上方设置有遮盖相应数据线且与像素电极位于同一层的中间公共电极线，当液晶面板出现显示异常像素时，能够通过成膜方式连接相应的像素电极与中间公共电极线实现暗点化修补，易于操作。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为传统修复方法对液晶面板进行暗点化修复的示意图；图2为本专利技术的液晶面板暗点化修补方法的流程图；图3为本专利技术的液晶面板暗点化修补方法中液晶面板的剖面结构示意图；图4为本专利技术的阵列基板结构的示意图；图5为本专利技术的液晶面板暗点化修补方法的步骤S3的示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图2，本专利技术首先提供一种液晶面板暗点化修补方法，包括如下步骤：步骤S1、提供液晶面板LCD。所述液晶面板如图3所示，包括阵列基板A及彩膜基板C。如图4所示，所述阵列基板A包括呈阵列式排布的多个像素电极1、对应每一行像素电极1设置的沿横向延伸的多条扫描线2、对应每一列像素电极1设置的沿纵向延伸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶面板暗点化修补方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供液晶面板(LCD)；所述液晶面板(LCD)包括阵列基板(A)及彩膜基板(C)；所述阵列基板(A)包括呈阵列式排布的多个像素电极(1)、对应每一行像素电极(1)设置的沿横向延伸的多条扫描线(2)、对应每一列像素电极(1)设置的沿纵向延伸的多条数据线(3)、对应每一行像素电极(1)设置的多条阵列基板侧公共电极线(4)、对应每一像素电极(1)设置的多个薄膜晶体管(T)、以及于每一数据线(3)上方遮盖相应数据线(3)且与像素电极(1)位于同一层的中间公共电极线(6)；所述彩膜基板(C)内设置有彩膜基板侧公共电极(8)；所述中间公共电极线(6)与彩膜基板侧公共电极(8)的电位相等；设n、m均为正整数，第n行第m列薄膜晶体管(T)的栅极(G)连接第n条扫描线(2)，源极(S)连接第m条数据线(3)、漏极(D)连接第n行第m列像素电极(1)；步骤S2、检测出液晶面板(LCD)的显示异常像素；步骤S3、先在阵列基板上(A)对应于显示异常像素所在的区域切断相应的薄膜晶体管(T)的源极(S)与数据线(3)的连接，再通过成膜方式连接相应的像素电极(1)与中间公共电极线(6)。...

【技术特征摘要】
1.一种液晶面板暗点化修补方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供液晶面板(LCD)；所述液晶面板(LCD)包括阵列基板(A)及彩膜基板(C)；所述阵列基板(A)包括呈阵列式排布的多个像素电极(1)、对应每一行像素电极(1)设置的沿横向延伸的多条扫描线(2)、对应每一列像素电极(1)设置的沿纵向延伸的多条数据线(3)、对应每一行像素电极(1)设置的多条阵列基板侧公共电极线(4)、对应每一像素电极(1)设置的多个薄膜晶体管(T)、以及于每一数据线(3)上方遮盖相应数据线(3)且与像素电极(1)位于同一层的中间公共电极线(6)；所述彩膜基板(C)内设置有彩膜基板侧公共电极(8)；所述中间公共电极线(6)与彩膜基板侧公共电极(8)的电位相等；设n、m均为正整数，第n行第m列薄膜晶体管(T)的栅极(G)连接第n条扫描线(2)，源极(S)连接第m条数据线(3)、漏极(D)连接第n行第m列像素电极(1)；步骤S2、检测出液晶面板(LCD)的显示异常像素；步骤S3、先在阵列基板上(A)对应于显示异常像素所在的区域切断相应的薄膜晶体管(T)的源极(S)与数据线(3)的连接，再通过成膜方式连接相应的像素电极(1)与中间公共电极线(6)。2.如权利要求1所述的液晶面板暗点化修补方法，其特征在于，所述步骤S3通过镭射切割工艺切断相应的薄膜晶体管(T)的源极(S)与数据线(3)的连接。3.如权利要求1所述的液晶面板暗点化修补方法，其特征在于，所述步骤S3利用镭射修补工艺沉积成膜来连接相应的像素电极(1)与中间公共电极线(6)；且成膜用的材料与像素电极(1)及中间公共电极线(6)的材料相同。4.如权利要求3所述的液晶面板暗点化修补方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘娜，徐向阳，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44