【技术实现步骤摘要】
抛光组合物
本专利技术涉及一种用于抛光诸如磁盘基片等的抛光组合物。对于用作充当计算机存储元件的硬盘的磁盘，强力要求其具有很高的记录密度。因此，磁盘基片要求具有优良的表面特性。
技术介绍
公开号为7-216345的日本公开专利公报和公开号为11-511394的日本国家阶段公开专利公报揭示了改进的抛光组合物以满足对基片的上述要求。公开号为7-216345的日本公开专利公报中的抛光组合物包含水，氧化铝研磨剂，以及由钼酸盐和有机酸组成的抛光加速剂。公开号为11-511394的日本公开专利公报中的抛光组合物包含作为研磨剂的α-氧化铝颗粒，作为抛光加速剂的固体材料，如水合氧化铝，以及水。在抛光组合物中α-氧化铝颗粒的含量被设定为占全部固体材料的1-50％(重量)。然而，前一种抛光组合物对基片抛光速度低。后一种抛光组合物对基片抛光速度较高，但是被抛光后的基片的表面粗糙度仅显示出很小的提高。 ...
【技术保护点】
一种抛光组合物，其特征在于，包括：含有α－氧化铝作为主要组分的氧化铝颗粒；热解法氧化铝；含有选自有机酸、无机酸、和这些酸的盐中的至少一种组分的抛光加速剂；以及水。
【技术特征摘要】
JP 2003-5-9 2003-1323121.一种抛光组合物，其特征在于，包括：含有α-氧化铝作为主要组分的氧化铝颗粒；热解法氧化铝；含有选自有机酸、无机酸、和这些酸的盐中的至少一种组分的抛光加速剂；以及水。2.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述氧化铝颗粒的平均粒径不超过2.0μm。3.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述抛光组合物中氧化铝颗粒的含量为0.01％-40％重量，包括0.01％重量和40％重量。4.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，在组成氧化铝颗粒的晶形中α-转化率不低于50％。5.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述热解法氧化铝的初级颗粒平均粒径为0.005-0.5μm，包括0.005μm和0.5μm。6.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述抛光组合物中热解法氧化铝的含量不大于50％重量。7.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述抛光加速剂含有选自柠檬酸、马来酸、马来酐、苹果酸、乙醇酸、琥珀酸、衣康酸、丙二...
【专利技术属性】
技术研发人员：宇野贵规，杉山博保，大胁寿树，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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