抛光组合物制造技术

包含含在含水介质中的磨料粒、含磷无机酸或其盐和另一种无机酸或其盐的抛光组合物用于抛光磁盘基片等。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抛光组合物相关申请的交叉参考本申请是根据35U.S.C.§111(a)递交的申请，根据35U.S.C.§119(e)(1)要求临时申请60/317,962的申请日的权益，临时申请60/317,962是根据35U.S.C.§111(b)于2001年9月10日递交的申请。
本专利技术涉及适于抛光计算机等的储存元件中使用的磁盘基片的抛光组合物，更具体而言，涉及用于抛光磁盘基片的组合物，该组合物可为抛光的磁盘表面提供高精度使得当磁头在该盘表面上飞转时浮动水平较低。
技术介绍
在用于计算机或文字处理器的外部储存元件中，磁盘(存储硬盘)广泛用作进行高速存取的工具。该磁盘的典型实例是如下获得的磁盘：将Al-合金基片用NiP进行无电镀覆以形成基片，将该基片的表面抛光并顺序地在该基材上喷溅Cr-合金底涂层、Co-合金磁性层和碳保护层。若磁盘表面上存在高度超过磁头浮动水平的突起，则当以高速飞转并同时在该盘表面上方以规定高度浮动的磁头可能与该突起碰撞，从而导致损坏。另外，当磁盘基片上存在由抛光导致的突起或划痕时，该突起也出现在Cr-合金底涂层和Co-合金磁性层上，此时这些层叠盖，产生由划痕导致的瑕疵，从本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛光组合物，包含含在含水介质中的磨料粒、含磷无机酸或其盐和另一种无机酸或其盐。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2001-9-3 266315/2001;JP 2002-5-8 132738/20021.一种抛光组合物，包含含在含水介质中的磨料粒、含磷无机酸或其盐和另一种无机酸或其盐。2.如权利要求1所要求的抛光组合物，其中磨料粒是至少一种选自矾土、氧化钛、硅石和氧化锆中的物质。3.如权利要求1或2所要求的抛光组合物，其中磨料粒的平均粒度是0.001-0.5μm。4.如权利要求1-3中任一项所要求的抛光组合物，其中磨料粒是胶态颗粒。5.如权利要求1-4中任一项所要求的抛光组合物，其中含磷无机酸是磷酸或膦酸。6.如权利要求1-5中任一项所要求的抛光组合物，其中另一种无机酸或其盐是至少...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫田宪彦，洪公弘，安藤顺一郎，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，山口精研工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]