A permanent magnet device for improving ion concentration in plasma of sputtering coating includes horseshoe magnet, heart ring, ring core fixed part, fixed disk, dynamic balance block, Holzer sensing fixed block and axial fixed column. The shape of a horseshoe magnet is horseshoe shaped, semi-circular lateral, medial straight notch, the material can be made of aluminum nickel cobalt alloy 5, the utility model can be used in a horseshoe magnet combination; heart-shaped ring which is a heart-shaped ring, a threaded hole for fixing the horseshoe ring. Shape magnet, the materials can be used 304 types of stainless steel; the ring core fixing component is in oval, with threaded holes, and for a horseshoe magnet is fixed, the material can choose 304 types of stainless steel; the fixed disc, rounded shape, fixed disc surface with screw holes, the fixed disc at the horseshoe magnet above and horseshoe magnets. The device is used in sputtering deposition to make the electrons in the plasma move in a spiral manner. By increasing the number of collisions between electrons and molecules, the ion concentration in the plasma is increased, and the deposition rate of the sputtering coating is improved.
【技术实现步骤摘要】
提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置
本技术涉及半导体晶圆溅射镀膜领域,尤其涉及提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置。
技术介绍
物理气相沉积是半导体晶圆生产中重要环节,主要的物理气相沉积技术有蒸镀和溅射,前者是借着被蒸镀物体加热,利用被蒸镀物在高温时所具备的饱和蒸汽压,来进行镀膜沉积;而后者,是利用等离子体产生的离子,借着离子对被溅射物体电极的轰击,使等离子体的气相内具有被镀物的粒子,然后进行沉积。传统的溅射设备直接将直流电压施加在金属靶材上,为了使靶材获得足够的能力,需增加施加在金属靶上的电压。为了减少靶材附近离子碰撞次数,溅射所需电压应愈低愈好,以增长离子的平均自由程。但如此一来,会降低单位体积内分子数量,减少等离子离子浓度,使得溅射镀膜沉积速率变慢。其中一个解决办法,就是在传统直流等离子装置中,加入一组或多组永磁铁。利用电磁力,使等离子体内电子呈螺旋式运动,借着电子与分子间碰撞次数增加,增加等离子体中离子浓度。设计何种形式的永磁铁用于溅射沉积,是这个环节的关键技术。本技术提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置,即设计一组永磁铁装置,用于溅射沉积,使等离子体内电子呈螺旋式运动,借着电子与分子间碰撞次数增加,增加等离子体中离子浓度,提高溅射镀膜的沉积速率。
技术实现思路
:本技术的目的是提供提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置,即设计一组永磁铁装置,用于溅射沉积,使等离子体内电子呈螺旋式运动,借着电子与分子间碰撞次数增加,增加等离子体中离子浓度,提高溅射镀膜的沉积速率。为实现上述目的,本技术所提供的技术方案是:提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的 ...
【技术保护点】
提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置,其特征在于:包括马蹄形磁铁、心形环、环心固定件、固定圆盘、动平衡块、霍尔传感固定块和轴固定柱;所述的马蹄形磁铁固定在心形环和固定圆盘之间,马蹄形磁铁北极固定在心形环上,马蹄形磁铁南极固定在环心固定件上,此实用新型中,可采用多个马蹄形磁铁组合使用;所述的固定圆盘在马蹄形磁铁上方,动平衡块固定在固定圆盘上,霍尔传感固定块固定在固定圆盘左侧矩形凹槽内;所述的轴固定柱与固定圆盘中心卡扣配合,将永磁装置固定在马达轴上。
【技术特征摘要】
1.提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置,其特征在于:包括马蹄形磁铁、心形环、环心固定件、固定圆盘、动平衡块、霍尔传感固定块和轴固定柱;所述的马蹄形磁铁固定在心形环和固定圆盘之间,马蹄形磁铁北极固定在心形环上,马蹄形磁铁南极固定在环心固定件上,此实用新型中,可采用多个马蹄形磁铁组合使用;所述的固定圆盘在马蹄形磁铁上方,动平衡块固定在固定圆盘上,霍尔传感固定块固定在固定圆盘左侧矩形凹槽内;所述的轴固定柱与固定圆盘中心卡扣配合,将永磁装置固定在马达轴上。2.根据权利要求1所述的提高溅射镀膜等离子体中离子浓度的永磁装置,其特征在于:所述的马蹄形磁铁外形呈马蹄状,外侧是半圆弧,内侧是直槽口,马蹄形磁铁上部加工削平,两端有圆孔贯穿,材料可采用铝镍钴合金5。3.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:张德培,
申请(专利权)人:上海陛通半导体能源科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:上海,31
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