磁控镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种磁控镀膜机，包括真空室装置、磁控溅射装置、干粉存储装置及抽风装置，所述磁控溅射装置设置在真空室装置内，所述干粉存储装置通过抽风装置连接至真空室装置，所述真空室装置包括一固定座体及两组腔门，使用时，两个腔门一个与固定座体盖合进行镀膜作业，另一腔门则可进行取成品及配料，循环进行，减少节省时间，提高生产的效率；优选的，所述料架机构通过一公转驱动机构驱动转动并同时带动挂架绕料架机构的转动中心公转，所述挂架通过一自动驱动机构带动自转，使得镀膜进行时，所述的挂架可以分别周向公转及自转，使得餐具的各个面均能进行均匀的镀膜，镀膜效果好，质量可靠。

【技术实现步骤摘要】
磁控镀膜机
本技术涉及一种餐具生产设备，特别是一种用作刀叉、勺子等小件餐具进行镀膜的磁控镀膜机。
技术介绍
磁控镀膜设备通是利用磁控溅射原理，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。而在餐具的生产中，一些塑料材质的刀叉、勺子等小件餐具通常需要进行镀膜加工，传统的镀膜工艺是直接的将餐具置于磁控镀膜设备的真空腔内镀膜，镀膜的效果差，质量参差不齐，且效率低。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术提供一种磁控镀膜机。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：磁控镀膜机，包括真空室装置、磁控溅射装置、干粉存储装置及抽风装置，所述磁控溅射装置设置在真空室装置内，所述干粉存储装置通过抽风装置连接至真空室装置，所述真空室装置包括一固定座体及两组腔门，所述固定座体开设有一具有开口的空腔，两组腔门分别转动设在空腔开口的两侧，所述腔门具有与空腔对应的配料腔，所述腔门能够转动至盖合在空腔的开口上，形成封闭腔体；所述腔门内转动设置有一料架机构，所述料架机构本文档来自技高网...

【技术保护点】
磁控镀膜机，包括真空室装置、磁控溅射装置、干粉存储装置及抽风装置，所述磁控溅射装置设置在真空室装置内，所述干粉存储装置通过抽风装置连接至真空室装置，其特征在于：所述真空室装置包括一固定座体(1)及两组腔门(2)，所述固定座体(1)开设有一具有开口的空腔(11)，两组腔门(2)分别转动设在空腔(11)开口的两侧，所述腔门(2)具有与空腔(11)对应的配料腔(20)，所述腔门(2)能够转动至盖合在空腔(11)的开口上，形成封闭腔体；所述腔门(2)内转动设置有一料架机构(3)，所述料架机构(3)上设置有若干用过放置餐具的挂架(4)，所述料架机构(3)通过一公转驱动机构驱动转动并同时带动挂架(4)绕料...

【技术特征摘要】
1.磁控镀膜机，包括真空室装置、磁控溅射装置、干粉存储装置及抽风装置，所述磁控溅射装置设置在真空室装置内，所述干粉存储装置通过抽风装置连接至真空室装置，其特征在于：所述真空室装置包括一固定座体(1)及两组腔门(2)，所述固定座体(1)开设有一具有开口的空腔(11)，两组腔门(2)分别转动设在空腔(11)开口的两侧，所述腔门(2)具有与空腔(11)对应的配料腔(20)，所述腔门(2)能够转动至盖合在空腔(11)的开口上，形成封闭腔体；所述腔门(2)内转动设置有一料架机构(3)，所述料架机构(3)上设置有若干用过放置餐具的挂架(4)，所述料架机构(3)通过一公转驱动机构驱动转动并同时带动挂架(4)绕料架机构(3)的转动中心公转，所述挂架(4)通过一自动驱动机构带动自转。2.根据权利要求1所述的磁控镀膜机，其特征在于：所述自动驱动机构为一行星齿轮机构，其包括大齿轮(51)及若干与挂架(4)对应的小齿轮(52)，所述大齿轮(51)设置在料架机构(3)上并与料架机构(3)的转动轴线同轴，所述小齿轮(52)设置在挂架(4)上并与大齿轮(51)啮合。3.根据权利要求2所述的磁控镀膜机，其特征在于：所述料架机构(3)包括下转盘(31)和上转盘(32)，所述挂架(4)上、下端分别转动设置在上转盘(32)、下转盘(31)上，所述大齿轮(51)固定在下转盘(31)底部，所述小齿轮(52)环形的分布在下转盘(31)底部。4.根据权利要求1所述的磁控镀膜机，其特征在于：所述挂架(4)通过一...

【专利技术属性】
技术研发人员：黃锦耀，李景新，刘红岩，蓝挺生，陈丽萍，
申请(专利权)人：沙伯特中山有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44