The present invention relates to the field of vacuum coating, in particular discloses multi target magnetron sputtering winding film coating machine, which comprises a vacuum chamber and a mounting bracket, winding system, magnetron sputtering and ion source discharge system is arranged in the vacuum chamber, the vacuum chamber is divided into independent coil winding unwinding chamber and the target chamber, the vacuum chamber is provided with a the front and back doors, the coil winding unwinding chamber is a cavity region inside of the front door, the cavity chamber is arranged on the inner side of the back door of the target, the magnetron sputtering system includes a plurality of mutually isolated planar target set, the plane target is installed on the back of the back door. Coating machine of the invention comprises the winding and magnetron sputtering system are arranged in the same vacuum chamber, isolated settings, for different materials in sputtering target, thus the surface of membrane are deposited in different types of films, the realization of mass products on the surface of thin film preparation, simple structure, convenient operation, improve production efficiency, at the same time the metal film prepared with stronger conductive performance.
【技术实现步骤摘要】
一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机及镀膜方法
本专利技术属于真空镀膜产品
,特别涉及一种多靶材真空磁控溅射卷绕镀膜机,并通过用镀膜机能在不同柔性基材表面沉积功能性薄膜的方法。
技术介绍
磁控溅射作为一种真空镀膜工艺,可以溅射不同的金属薄膜材料用于不同基材表面的沉积,用于装饰,电磁屏蔽和电路板应用,同时也可溅射制备透明导电薄膜,例如ITO,AZO等,广泛的应用于电子平板显示行业。采用磁控卷绕镀膜方式,可以在不同的卷材表面,如PET,PI,PEN,不锈钢卷材表面沉积各种功能性薄膜。现有技术中,磁控卷绕镀膜系统通常包括:真空系统,卷绕系统和磁控溅射系统,卷绕系统又包括放卷部分,冷却鼓传动部分和收卷部分。各系统通常由于不同真空度的限制和薄膜溅射的要求,而分别布置在不同的真空腔室内部,相对隔离,以保证磁控溅射薄膜的工艺要求。特别地,当需要在同一卷材表面溅射不同类型的薄膜时,需要增加磁控溅射靶材单元,这样就会增加相应的溅射腔室单元,往往会造成整个磁控溅射镀膜机组结构冗杂,体积也相对庞大,工艺操作也随之复杂化。因此,研发一种单一真空腔室的集成化设计,实现卷材磁控溅射过程中,单一腔室溅射不同种类的薄膜的多靶材磁控溅射卷绕镀膜机迫在眉睫。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种靶材磁控溅射卷绕镀膜机,该磁控卷绕镀膜机将组件全部布置与同一真空腔室内部,通过隔离设计实现不同区域氛围的相对隔离,实现在同一腔室中溅射不同材料靶材,在卷材表面依次沉积不同类型薄膜。通过该薄膜制备工艺,可以实现大批量产品表面的防指纹薄膜制备,设备结构简单,操作便利,多靶材设计能够 ...
【技术保护点】
一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机,包括真空室和安装支架,置于真空室内的卷绕系统、磁控溅射系统和离子源放电系统,其特征在于:所述真空室内分成相互独立的卷材收卷放卷室和靶材室,所述真空室上设有前门和后门,所述卷材收卷放卷室为前门内侧的空腔区域,所述靶材室置于后门内侧的空腔,所述卷绕系统置于收卷防卷室内,所述磁控溅射系统包括若干组平面靶,该若干组平面靶之间相互隔离设置,且各平面靶安装在后门的背面。
【技术特征摘要】
1.一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机,包括真空室和安装支架,置于真空室内的卷绕系统、磁控溅射系统和离子源放电系统,其特征在于:所述真空室内分成相互独立的卷材收卷放卷室和靶材室,所述真空室上设有前门和后门,所述卷材收卷放卷室为前门内侧的空腔区域,所述靶材室置于后门内侧的空腔,所述卷绕系统置于收卷防卷室内,所述磁控溅射系统包括若干组平面靶,该若干组平面靶之间相互隔离设置,且各平面靶安装在后门的背面。2.根据权利要求1所述的多靶材磁控溅射卷绕镀膜机,其特征在于:所述卷绕系统依次包括放膜辊、冷却鼓、收膜辊,还包括用于调节松紧度的过度辊,以及张紧用薄膜。3.根据权利要求2所述的多靶材磁控溅射卷绕镀膜机,其特征在于:所述放膜辊置于卷材收卷防卷室上部位置,所述收膜辊置于卷材收卷防卷室下部位置,所述冷却鼓一部分置于卷材收卷防卷室,一部分伸入至靶材室。4.根据权利要求1所述的多靶材磁控溅射卷绕镀膜机,其特征在于:所述后门为弧形门,所述磁控溅射系统中平面靶为四组,每组有两只平面靶,各组平面靶以可拆装的方式成弧形排布在弧形后门内侧的圆周上,且相邻的两组平面靶之间等距设置且通过挡板分隔开。5.根据权利要求1至4任一项所述的多靶材磁控溅射卷绕镀膜机的镀膜方法,其具体步骤是:(1)首先,将待镀膜的基材置于卷绕系统的放膜辊上,设定条件参数值;(2)其次,将上述基材,...
【专利技术属性】
技术研发人员:潘振强,朱惠钦,
申请(专利权)人:广东振华科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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