The invention provides a glass thinning etching solution and a preparation method thereof, belonging to the glass thinning process field. The raw material for reducing the etching liquid of the glass comprises 10~15 portions of hydrofluoric acid, 5~10 ammonium fluoride, 25~60 mixed acid liquid, 0.5 or 5 EDTA or EDTA salt, and 0.1 to 0.5 phr of surfactant, according to weight fraction. The preparation method comprises mixing the mixed acid solution with water, mixing with ammonium fluoride, EDTA or EDTA salt, surfactant, and hydrofluoric acid. The glass thinned etching solution prepared by this method can effectively improve the glass thinning rate, reduce the surface roughness of glass, reduce the precipitate deposited on the glass surface and improve the surface smoothness of glass surface.
【技术实现步骤摘要】
一种玻璃减薄蚀刻液及其制备方法
本专利技术涉及玻璃减薄工艺领域，具体而言，涉及一种玻璃减薄蚀刻液及其制备方法。
技术介绍
随着电子显示设备朝着轻薄化方向的发展，显示玻璃屏的厚度已从1996年的1.1毫米降至0.5毫米以下。手机等便携式设备中应用的玻璃厚度更下降至0.3毫米以下。超薄化的玻璃由于制造困难而且昂贵，并在后续应用处理工序中易破碎，所以对玻璃减薄处理，即利用氢氟酸为主要成分的玻璃减薄蚀刻液对组装好的模组进行薄化处理，仍是目前主流的处理方式。常见的玻璃减薄蚀刻液的基本配方为：15～30份HF、10～20份H2SO4、3～10份HNO3、3～10份H3PO4。其中起反应作用的是氢氟酸，反应过程如下：SiO2+4HF→SiF4+2H2O；3SiF4+3H2O→H2SiO3+2H2SiF6。然而，这种玻璃减薄蚀刻液在蚀刻过程，蚀刻效率低，且会产生大量的难溶性副产物，这些难溶性副产物容易附着在玻璃基体表面，影响玻璃表面的光洁度。此外，如果玻璃减薄前的表面平整度欠佳，利用这种玻璃减薄蚀刻液再进行蚀刻，则会导致减薄后的玻璃表面凹凸不平，难以进一步应用到电子显示设备上。专...
【技术保护点】
一种玻璃减薄蚀刻液，其特征在于，所述玻璃减薄蚀刻液的原料按重量份数计包括：氢氟酸10～15份、氟化铵5～10份、混合酸液25～60份、EDTA或EDTA盐0.5～5份、及表面活性剂0.1～0.5份。
【技术特征摘要】
1.一种玻璃减薄蚀刻液，其特征在于，所述玻璃减薄蚀刻液的原料按重量份数计包括：氢氟酸10～15份、氟化铵5～10份、混合酸液25～60份、EDTA或EDTA盐0.5～5份、及表面活性剂0.1～0.5份。2.根据权利要求1所述的玻璃减薄蚀刻液，其特征在于，所述表面活性剂为阴离子型表面活性剂。3.根据权利要求2所述的玻璃减薄蚀刻液，其特征在于，所述阴离子型表面活性剂选自烷基苯磺酸钠、脂肪醇羟乙基磺酸钠、十二烷基磷酸酯三乙醇胺和十二烷基硫酸铵中的至少一种。4.根据权利要求1所述的玻璃减薄蚀刻液，其特征在于，所述混合酸液包括H2SO4、HNO3和H3PO4。5.根据权利要求4所述的玻璃减薄蚀刻液，其特征在于，按重量份数计，所述H2SO4为10～20份，所述HNO3为10～20份，所述H3PO4为5～20份。6.根据权利要求1所述的玻璃减薄蚀刻液，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：付争兵，凡威震，许鑫鑫，韦悦，蒋纯金，杜军，丁瑜，王锋，
申请(专利权)人：湖北工程学院，
类型：发明
国别省市：湖北,42
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。