【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
玻璃蚀刻减薄的原理是利用氨氣酸跟玻璃(Si化)进行反应,并在反应过程中生成 老化物质氣娃酸(HsSiFe)及玻璃渣与娃酸(水玻璃)。随着氨氣酸逐渐消耗W及老化物质浓 度的持续增加,会导致玻璃蚀刻槽的槽液老化,蚀刻率下降W及蚀刻不良率上升。此外,蚀 刻槽液老化至一定程度后,老化物质浓度过高会造成槽液不稳定,从而影像产品的品质。传 统的解决上述问题的方法是将老化的槽液作废酸处理排放并重新建浴调配蚀刻液。然而, 废酸的处理W及重新建浴均需要较高的成本,且废酸中大多都还存在较高浓度的氨氣酸 (HF),若直接对老化蚀刻液做废酸排放处理,还会导致原料的浪费。
技术实现思路
鉴于上述,有必要提出一种,可W有效降低 对老化蚀刻液做废酸处理W及重新建浴液的成本。 所述玻璃蚀刻液再生方法,包括W下步骤: (a) 在含有老化物质氣娃酸W及可溶性玻璃渣的玻璃蚀刻液中加入钟离子化合物并进 行揽拌反应,使该玻璃蚀刻液中的可溶性玻璃渣浓度降至一预定范围内; (b) 对揽拌反应之后的玻璃蚀刻液进行过滤处理,去除沉淀; (C)对过滤处理之后的玻璃蚀刻液进行离子交换处理,去除玻璃蚀刻液液中的金属离 子,使得玻璃蚀刻液中的金属离子浓度低于一预定值;及 (d)检测离子交换处理后的玻璃蚀刻液中的氨氣酸浓度,并根据该氨氣酸浓度在该离 子交换处理后的玻璃蚀刻液中加入氨氣酸,使氨氣酸的浓度达到一预定浓度。 所述玻璃蚀刻方法,包括W下步骤: 将装有玻璃蚀刻液W及被蚀刻玻璃的蚀刻槽通过第一管道与一过滤机的入口连通,将 过滤机的输 ...
【技术保护点】
一种玻璃蚀刻液再生方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:(a)在含有老化物质氟硅酸以及可溶性玻璃渣的玻璃蚀刻液中加入钾离子化合物并进行搅拌反应,使该玻璃蚀刻液中的可溶性玻璃渣浓度降至一预定范围内;(b)对搅拌反应之后的玻璃蚀刻液进行过滤处理,去除沉淀;(c)对过滤处理之后的玻璃蚀刻液进行离子交换处理,去除玻璃蚀刻液液中的金属离子,使得玻璃蚀刻液中的金属离子浓度低于一预定值;及(d)检测离子交换处理后的玻璃蚀刻液中的氢氟酸浓度,并根据该氢氟酸浓度在该离子交换处理后的玻璃蚀刻液中加入氢氟酸,使氢氟酸的浓度达到一预定浓度。
【技术特征摘要】
1. 一种玻璃蚀刻液再生方法,其特征在于,该方法包括以下步骤: (a) 在含有老化物质氟硅酸以及可溶性玻璃渣的玻璃蚀刻液中加入钾离子化合物并进 行搅拌反应,使该玻璃蚀刻液中的可溶性玻璃渣浓度降至一预定范围内; (b) 对搅拌反应之后的玻璃蚀刻液进行过滤处理,去除沉淀; (c) 对过滤处理之后的玻璃蚀刻液进行离子交换处理,去除玻璃蚀刻液液中的金属离 子,使得玻璃蚀刻液中的金属离子浓度低于一预定值;及 (d) 检测离子交换处理后的玻璃蚀刻液中的氢氟酸浓度,并根据该氢氟酸浓度在该离 子交换处理后的玻璃蚀刻液中加入氢氟酸,使氢氟酸的浓度达到一预定浓度。2. 如权利要求1所述的玻璃蚀刻液再生方法,其特征在于,该方法在步骤(a)之前还包 括: 对玻璃蚀刻液中所含的可溶性玻璃渣浓度进行检测,当该可溶性玻璃渣浓度小于或等 于一阈值时,再进入步骤(a)。3. 如权利要求2所述的玻璃蚀刻液再生方法,其特征在于,所述阈值为30%。4. 如权利要求1所述的玻璃蚀刻液再生方法,其特征在于,所述钾离子化合物为KOH、 KF、KCL以及KN03中的其中之一。5. 如权利要求1所述的玻璃蚀刻液再生方法,其特征在于,所述预定值为1%,所述预定 浓度大于8%。6. -种玻璃蚀刻方法,其特征在于,该方法包括以下步骤: 将装有玻璃蚀刻液以及被蚀...
【专利技术属性】
技术研发人员:张欣华,黄慧清,李沅达,陈泓邑,黄兆畅,林瑞钦,叶容凯,张世群,罗中育,陈钦典,简文鸿,
申请(专利权)人:睿志达光电深圳有限公司,正达国际光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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