显示基板及其制造方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。所述显示基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的遮挡层，以及设置在所述遮挡层远离所述衬底基板一侧的顶栅薄膜晶体管；所述遮挡层包括交叠设置的多个子遮挡层，任意两个相邻的子遮挡层由不同的非金属材料形成，因此该各个子遮挡层可以有效吸收和遮挡环境光。此外，由于每个子遮挡层均是由非金属材料形成的，不会使薄膜晶体管产生寄生电容，因此该遮挡层的面积可以设置的较大，能够在不增加晶体管寄生电容的前提下，进一步改善遮挡层的遮光效果。

Display substrate, method for manufacturing the same, and display device

The invention discloses a display substrate and a manufacturing method thereof and a display device, belonging to the display technology field. The display substrate includes: a substrate, is provided with shielding layer on the substrate on the substrate, and is provided with shielding top gate thin film transistor layer away from one side of the substrate on the substrate; the shielding layer comprises a plurality of sub overlapping set of shielding layers, any two adjacent sub layer formed by non blocking different metal materials, so the sub shielding layer can effectively absorb ambient light and shade. In addition, because each shielding layer is formed by non-metallic materials, not to produce a thin film transistor parasitic capacitance, so the shielding layer area can be set larger, can not only increase the parasitic capacitance of the transistor, further improve the shading effect of the shielding layer.

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制造方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。
技术介绍
随着显示技术的发展，有机发光二极管(英文：OrganicLightEmittingDiode；简称：OLED)作为一种电流型发光器件，因其所具有的自发光、快速响应、宽视角等特点而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。相关技术中，OLED的显示基板一般包括形成在衬底基板上的薄膜晶体管(英文：ThinFilmTransistor，简称：TFT)、阳极、发光层和阴极，该OLED显示基板中的TFT一般采用顶栅结构。但由于顶栅结构的TFT中，栅极形成在有源层远离衬底基板的一侧，为了避免该有源层受环境光照射影响TFT的性能，需要在该有源层靠近衬底基板的一侧沉积一层金属材料作为遮挡层。但是，由于金属材料形成的遮挡层会导致TFT寄生电容的增大，因此该遮挡层的面积一般较小，遮光效果也较差。
技术实现思路
为了解决相关技术中的遮挡层遮光效果较差的问题，本专利技术提供了一种显示基板及其制造方法、显示装置。所述技术方案如下：第一方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的遮挡层，以及设置在所述遮挡层远离所述衬底基板一侧的顶栅薄膜晶体管；所述遮挡层包括交叠设置的多个子遮挡层，任意两个相邻的子遮挡层由不同的非金属材料形成，且每个所述子遮挡层在所述衬底基板上的正投影与所述显示基板中任一像素单元的开口区域不重叠。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的遮挡层，以及设置在所述遮挡层远离所述衬底基板一侧的顶栅薄膜晶体管；所述遮挡层包括交叠设置的多个子遮挡层，任意两个相邻的子遮挡层由不同的非金属材料形成，且每个所述子遮挡层在所述衬底基板上的正投影与所述显示基板中任一像素单元的开口区域不重叠。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述顶栅薄膜晶体管远离所述衬底基板一侧的电致发光单元；每个所述子遮挡层在所述衬底基板上的正投影与所述电致发光单元中像素定义层在所述衬底基板上的正投影重合。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，每个所述子遮挡层远离所述衬底基板且与其他子遮挡层接触的一面设置有沟壑。4.根据权利要求1至3任一所述的显示基板，其特征在于，所述多个子遮挡层包括至少一个第一子遮挡层和至少一个第二子遮挡层；每个所述第一子遮挡层由绝缘材料形成，每个所述第二子遮挡层由半导体材料形成。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，每个所述第二子遮挡层的厚度大于每个所述第一子遮挡层的厚度，且所述遮挡层中与所述顶栅薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：王玲，盖翠丽，张保侠，李全虎，林奕呈，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11