吡啶衍生物和它们的制备方法及其治疗应用技术

本发明专利技术的主题是符合下式（Ⅰ）的化合物：其中－Ｚ代表Ｎ（Ｒ↓［１］）ＸＲ↓［２］、Ｎ（Ｒ↓［１］）ＣＯＯＲ′↓［２］或ＯＣＯＮ（Ｒ↓［１］）Ｒ′↓［２］基团；－Ｘ代表－ＣＯ－、－ＳＯ↓［２］－、－ＣＯＮ（Ｒ↓［１０］）－或－ＣＳＮ（Ｒ↓［１０］）－基团；－Ｒ↓［１］代表氢原子或（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基基团；－Ｒ↓［２］代表（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１０］）烷基、（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１２］）非芳族碳环基、杂环基、未取代的或取代的苯基和被一个或两个相同或不同的取代基取代的（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）亚烷基，Ｒ′↓［２］代表未被取代的或被取代的苯基，Ｒ↓［３］代表氢原子或（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基、氰基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧基甲基或羟基甲基。还涉及制备方法及在治疗上的应用。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及吡啶衍生物、它们的制备方法及其治疗应用。国际专利申请WO 03/082191描述了下式的吡啶衍生物 其中取代基r1至r7具有不同的值。专利申请WO 2002/055502描述了下式的化合物 本专利技术的主题是符合下式的化合物 其中-Z代表N(R1)XR2、N(R1)COOR′2或OCON(R1)R′2基团；-X代表-CO-、-SO2-、-CON(R10)-或-CSN(R10)-基团；-R1代表氢原子或(C1-C4)烷基基团；-R2代表·未被取代的或被CF3基团取代的(C3-C10)烷基基团；·未被取代的或被相同或不同取代基一次或多次取代的非芳族(C3-C12)碳环基，所述的取代基选自(C1-C4)烷基、羟基、(C1-C4)烷氧基、(C1-C4)烷硫基或氰基基团；·饱和或不饱和的有4-8个包括氧、硫或氮的原子的杂环基，它未被取代或被一个或多个相同或不同的取代基取代，所述的取代基选自卤素原子和(C1-C4)烷基、羟基、三氟甲基、(C1-C4)烷氧基、三氟甲氧基、(C1-C4)烷硫基、氰基或硝基基团；·未被取代的或被卤素原子或被(C1-C4)烷基、三氟甲基、羟基、(C1本文档来自技高网...

【技术保护点】
符合下式（Ⅰ）的化合物：＊＊＊（Ⅰ）其中：－Ｚ代表Ｎ（Ｒ↓［１］）ＸＲ↓［２］、Ｎ（Ｒ↓［１］）ＣＯＯＲ′↓［２］或ＯＣＯＮ（Ｒ↓［１］）Ｒ′↓［２］基团；－Ｘ代表－ＣＯ－、－ＳＯ↓［２］－、－ＣＯＮ（Ｒ↓［１０］）－或－ＣＳＮ（Ｒ↓［１０］）－基团；－Ｒ↓［１］代表氢原子或（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基基团；－Ｒ↓［２］代表：.未被取代的或被ＣＦ↓［３］基团取代的（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１０］）烷基基团；.未被取代的或被相同或不同取代基一次或多次取代的非芳族（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［１２］）碳环基，所述的取代基选自（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基、羟基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧基、（Ｃ↓［１］－Ｃ...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：L巴里，F巴思，C康吉，P波因特奥，M里纳尔迪卡莫纳，
申请(专利权)人：赛诺菲—安万特，
类型：发明
国别省市：FR[法国]